CN106471007B - 金属络合物及使用了其的发光元件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种发光稳定性优异的金属络合物，其为式(1)所示的金属络合物。[式中，M表示铱原子等。n1表示1～3的整数。n2表示0～2的整数。E2～E4表示氮原子或碳原子。其中，选自E2～E4中的2个为氮原子，剩余1个为碳原子。R1表示芳基等。R2和R3表示氢原子、烷基、芳基等。环B表示***环。环A表示芳香烃环等。A1‑G1‑A2表示阴离子性的2齿配体。]

Description

金属络合物及使用了其的发光元件
技术领域
本发明涉及金属络合物、含有该金属络合物的组合物以及使用该金属络合物得到的发光元件。
背景技术
作为发光元件的发光层中使用的发光材料，正在针对显示由三线态激发状态的发光的磷光发光性化合物等进行研究。例如，专利文献1中记载了下述式表示的金属络合物A。专利文献2中记载了下述式表示的金属络合物B和金属络合物C。这些金属络合物为配体具有苯基***结构的金属络合物。
[化学式1]
现有技术文献
[专利文献]
[专利文献1]美国专利申请公开第2014/0151659号
[专利文献2]日本特开2013-147551号公报
发明内容
[发明要解决的问题]
然而，上述金属络合物的发光稳定性不充分。
因此，本发明的目的在于提供发光稳定性优异的金属络合物。本发明的目的还在于提供含有该金属络合物的组合物以及使用该金属络合物得到的发光元件。
在此，“发光稳定性优异的金属络合物”意指：在一定的激发条件下，使金属络合物连续激发的情况下，由金属络合物的三线态激发状态的发光亮度不易降低。使金属络合物激发的方法可以是光激发、电流激发的任意一种。
解决问题的手段
[1]一种下述式(1)表示的金属络合物。
[化学式2]
[式中，
M表示铱原子或铂原子。
n1表示1、2或3。n2表示0、1或2。M为铱原子的情况下，n1+n2是3，M为铂原子的情况下，n1+n2是2。
E2、E3和E4各自独立地表示氮原子或碳原子。存在多个E2、E3和E4的情况下，它们可以彼此相同或不同。E2和E3为氮原子的情况下，R2和R3可以存在或不存在。其中，选自E2、E3和E4中的2个为氮原子，剩余1个为碳原子。
R1表示芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个R1的情况下，它们可以相同或不同。
R2和R3各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。存在多个R2和R3的情况下，它们可以各自相同或不同。
环B表示***环。
环A表示芳香烃环或芳香杂环，这些环可以具有取代基。
A1-G1-A2表示阴离子性的2齿配体。A1和A2各自独立地表示碳原子、氧原子或氮原子，这些原子可以为构成环的原子。G1表示单键、或者与A1和A2一起构成2齿配体的原子团。存在多个A1-G1-A2的情况下，它们可以相同或不同。]
[2]下述式(1-a)表示的、[1]中记载的金属络合物。
[化学式3]
[式中，
M、n1、n2、E2、E3、E4、R1、R2、R3、环B和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。
R4、R5、R6和R7各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。存在多个R4、R5、R6和R7的情况下、它们可以彼此相同或不同。可以R4和R5键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R5和R6键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R6和R7键合、与各自键合的碳原子一起形成环。]
[3]下述式(1-b)表示的、[2]中记载的金属络合物。
[化学式4]
[式中，
M、n1、n2、E2、E3、E4、R2、R3、R4、R5、R6、R7、环B和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。
R8、R9、R10、R11和R12各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。存在多个R8、R9、R10、R11和R12的情况下，它们可以彼此相同或不同。可以R8和R9键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R9和R10键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R10和R11键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R11和R12键合、与各自键合的碳原子一起形成环。]
[4]下述式(1-c)表示的、[3]中记载的金属络合物。
[化学式5]
[式中，M、n1、n2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。]
[5]下述式(1-d)表示的、[3]中记载的金属络合物。
[化学式6]
[式中，M、n1、n2、R2、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。]
[6]下述式(1-e)表示的、[4]中记载的金属络合物。
[化学式7]
[式中，
M、n1、n2、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。
R13、R14、R15、R16和R17各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。存在多个R13、R14、R15、R16和R17的情况下，它们可以彼此相同或不同。可以R13和R14键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R14和R15键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R15和R16键合、与各自键合的碳原子一起形成环，可以R16和R17键合、与各自键合的碳原子一起形成环。]
[7]上述R9和R11为烷基或芳基的、[3]～[6]中的任一项记载的金属络合物。
[8]选自上述R1、R2、R3、R5、R6、R10和R15中的至少之一为树枝状的、[1]～[6]中的任一项记载的金属络合物。
[9]选自上述R1、R2、R3、R5、R6、R10和R15中的至少之一为下述式(D-A)或(D-B)表示的基团的、[8]中记载的金属络合物。
[化学式8]
[式中，
mDA1、mDA2和mDA3各自独立地表示0以上的整数。
GDA表示芳香烃基或杂环基，这些基团可以具有取代基。
ArDA1、ArDA2和ArDA3各自独立地表示亚芳基或2价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个ArDA1、ArDA2和ArDA3的情况下，它们可以彼此相同或不同。
TDA表示芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的TDA可以相同或不同。]
[化学式9]
[式中，
mDA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6和mDA7各自独立地表示0以上的整数。
GDA表示芳香烃基或杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的GDA可以相同或不同。
ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6和ArDA7各自独立地表示亚芳基或2价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6和ArDA7的情况下，它们可以彼此相同或不同。
TDA表示芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的TDA可以相同或不同。]
[10]上述式(D-A)表示的基团为下述式(D-A1)、(D-A2)或(D-A3)表示的基团的、[9]中记载的金属络合物。
[化学式10]
[式中，
Rp1、Rp2和Rp3各自独立地表示烷基、环烷基或卤原子。存在多个Rp1和Rp2的情况下，它们可以彼此相同或不同。此外，选自多个存在的Rp1中的至少之一是碳数4以上的烷基。
np1表示1～5的整数，np2表示0～3的整数，np3表示0或1。多个存在的np1可以相同或不同。]
[11]上述式(D-A)表示的基团为上述式(D-A1)表示的基团的、[10]中记载的金属络合物。
[12]上述M为铱原子的、[1]～[11]中的任一项记载的金属络合物。
[13]上述n1为3的、[12]中记载的金属络合物。
[14]一种组合物，其含有[1]～[13]中的任一项所述的金属络合物和下述式(H-1)表示的化合物。
[化学式11]
[式中，
ArH1和ArH2各自独立地表示芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。
nH1和nH2各自独立地表示0或1。存在多个nH1的情况下，它们可以相同或不同。多个存在的nH2可以相同或不同。
nH3表示0以上的整数。
LH1表示亚芳基、2价杂环基、或-[C(RH11)2]nH11-所示的基团，这些基团可以具有取代基。存在多个LH1的情况下，它们可以相同或不同。
nH11表示1以上且10以下的整数。RH11表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RH11可以相同或不同，可以彼此键合、与各自键合的碳原子一起形成环。
LH2表示-N(-LH21-RH21)-所示的基团。存在多个LH2的情况下，它们可以相同或不同。
LH21表示单键、亚芳基或2价杂环基，这些基团可以具有取代基。RH21表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。]
[15]一种组合物，其含有[1]～[13]中的任一项记载的金属络合物和包含下述式(Y)表示的构成单元的高分子化合物。
[化学式12]
[式(Y)中，ArY1表示亚芳基、2价杂环基、或者、至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团，这些基团可以具有取代基。]
[16]一种组合物，其含有[1]～[13]中的任一项记载的金属络合物和选自空穴传输材料、空穴注入材料、电子传输材料、电子注入材料、发光材料、抗氧化剂和溶剂中的至少1种材料。
[17]一种发光元件，其使用[1]～[13]中的任一项记载的金属络合物得到。
发明效果
按照本发明，可以提供发光稳定性优异的金属络合物。此外，按照本发明，可以提供含有该金属络合物的组合物和使用该金属络合物得到的发光元件。本发明的金属络合物发光稳定性优异，因此，使用该金属络合物得到的发光元件亮度寿命优异。
具体实施方式
以下针对本发明的优选实施方式进行详细说明。
<通用的用语说明>
本说明书中通用的用语，若无特别说明，是以下含义。
Me表示甲基，Et表示乙基，Bu表示丁基，i-Pr表示异丙基，t-Bu表示叔丁基。
氢原子可以是氘原子，也可以是氕原子。
表示金属络合物的式中，表示与中心金属的键合的实线意指共价键或配位键。
“高分子化合物”意指：具有分子量分布、聚苯乙烯换算的数均分子量为1×103～1×108的聚合物。
高分子化合物可以是嵌段共聚物、无规共聚物、交替共聚物、接枝共聚物的任意一种，也可以是其他形式。
高分子化合物的末端基若直接残留聚合活性基团，则在制作发光元件时使用高分子化合物的情况下，存在发光特性或亮度寿命降低的可能性，因此优选是稳定的基团。作为该末端基，优选与主链共轭键合的基团，可以列举例如介由碳-碳键而与芳基或1价杂环基键合的基团。
“低分子化合物”意指：不具有分子量分布、分子量为1×104以下的化合物。
“构成单元”意指：高分子化合物中存在的1个以上的单元。
“烷基”可以是直链和支链的任意一种。直链烷基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为1～50，优选3～30，更优选4～20。支链烷基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为3～50，优选3～30，更优选4～20。
烷基可以具有取代基，可以列举：例如，甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、异丁基、叔丁基、戊基、异戊基、2-乙基丁基、己基、庚基、辛基、2-乙基己基、3-丙基庚基、癸基、3，7-二甲基辛基、2-乙基辛基、2-己基癸基癸基、十二烷基、以及这些基团中的氢原子被环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、氟原子等取代了的基团，可以列举例如，三氟甲基、五氟乙基、全氟丁基、全氟己基、全氟辛基、3-苯基丙基、3-(4-甲基苯基)丙基、3-(3，5-二-己基苯基)丙基、6-乙氧基己基。
“环烷基”的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为3～50，优选3～30，更优选4～20。
环烷基可以具有取代基，可以列举：例如，环己基、环己基甲基、环己基乙基。
“芳基”意指：从芳香烃除去1个与构成环的碳原子直接键合的氢原子后剩余的原子团。芳基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为6～60，优选6～20，更优选6～10。
芳基可以具有取代基，可以列举：例如，苯基、1-萘基、2-萘基、1-蒽基、2-蒽基、9-蒽基、1-芘基、2-芘基、4-芘基、2-芴基、3-芴基、4-芴基、2-苯基苯基、3-苯基苯基、4-苯基苯基、以及这些基团中的氢原子被烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、氟原子等取代了的基团。
“烷氧基”可以是直链和支链的任意一种。直链烷氧基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为1～40，优选4～10。支链烷氧基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，因此通常为3～40，优选4～10。
烷氧基可以具有取代基，可以列举：例如，甲氧基、乙氧基、丙氧基、异丙氧基、丁氧基、异丁氧基、叔丁氧基、戊氧基、己氧基、庚氧基、辛氧基、2-乙基己氧基、壬氧基、癸氧基、3，7-二甲基辛氧基、十二烷氧基、以及这些基团中的氢原子被环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、氟原子等取代了的基团。
“环烷氧基”的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为3～40，优选4～10。
环烷氧基可以具有取代基，可以列举：例如，环己基氧基。
“芳氧基”的碳原子数不包括取代基的碳原子数，因此通常为6～60，优选7～48。
芳氧基可以具有取代基，可以列举：例如，苯氧基、1-萘氧基、2-萘氧基、1-蒽氧基、9-蒽氧基、1-芘氧基、以及这些基团中的氢原子被烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、氟原子等取代了的基团。
“p价杂环基”(p表示1以上的整数。)意指：从杂环化合物上除去与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢原子中的p个氢原子后剩余的原子团。p价杂环基中优选“p价芳香杂环基”，其为从芳香杂环化合物上除去与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢原子中的p个氢原子后剩余的原子团。
“芳香杂环化合物”意指：噁二唑、噻二唑、噻唑、噁唑、噻吩、吡咯、磷杂茂、呋喃、吡啶、吡嗪、嘧啶、三嗪、哒嗪、喹啉、异喹啉、咔唑、二苯并磷杂茂等杂环本身显示芳香性的化合物、以及吩噁嗪、吩噻嗪、二苯并硼杂环戊二烯、二苯并噻咯(Dibenzosilole)、苯并吡喃等杂环本身即使不显示芳香性，也是芳香环与杂环稠合成环而成的化合物。
1价杂环基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为2～60，优选4～20。
1价杂环基可以具有取代基，可以列举：例如，噻吩基、吡咯基、呋喃基、吡啶基、哌啶基、喹啉基、异喹啉基、嘧啶基、三嗪基、以及这些基团中的氢原子被烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基等取代了的基团。
“卤原子”表示氟原子、氯原子、溴原子或碘原子。
“氨基”可以具有取代基，优选取代氨基。作为氨基具有的取代基，优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基。
作为取代氨基，可以列举：例如，二烷基氨基、二环烷基氨基和二芳基氨基。
作为氨基，可以列举：例如，二甲基氨基、二乙基氨基、二苯基氨基、二(4-甲基苯基)氨基、二(4-叔丁基苯基)氨基、二(3，5-二-叔丁基苯基)氨基。
“烯基”可以是直链和支链的任意一种。直链烯基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为2～30，优选3～20。支链烯基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为3～30，优选4～20。
“环烯基”的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为3～30，优选4～20。
烯基和环烯基可以具有取代基，可以列举：例如，乙烯基、1-丙烯基、2-丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、3-戊烯基、4-戊烯基、1-己烯基、5-己烯基、7-辛烯基、以及这些基团具有取代基的基团。
“炔基”可以是直链和支链的任意一种。炔基的碳原子数不包括取代基的碳原子，通常为2～20，优选3～20。支链炔基的碳原子数不包括取代基的碳原子，因此，通常为4～30，优选4～20。
“环炔基”的碳原子数不包括取代基的碳原子，因此，通常为4～30，优选4～20。
炔基和环炔基可以具有取代基，可以列举：例如：乙炔基、1-丙炔基、2-丙炔基、2-丁炔基、3-丁炔基、3-戊炔基、4-戊炔基、1-己炔基、5-己炔基、以及这些基团具有取代基的基团。
“亚芳基”意指：从芳香烃上除去与构成环的碳原子直接键合的2个氢原子后剩余的原子团。亚芳基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为6～60，优选6～30，更优选6～18。
亚芳基可以具有取代基，可以列举：例如，亚苯基、萘二基、蒽二基、菲二基、二氢菲二基、并四苯二基、芴二基、芘二基、苝二基、二基、以及这些基团具有取代基的基团，优选式(A-1)～式(A-20)表示的基团。亚芳基包含多个这些基团键合而成的基团。
[化学式13]
[化学式14]
[化学式15]
[化学式16]
[式中，R和Ra各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基。多个存在的R和Ra可以各自相同或不同，可以Ra之间彼此键合、与各自键合的原子一起形成环。]
2价杂环基的碳原子数不包括取代基的碳原子数，通常为2～60，优选3～20，更优选4～15。
2价杂环基可以具有取代基，可以列举：例如，从吡啶、二氮杂苯、三嗪、氮杂萘、二氮杂萘、咔唑、二苯并呋喃、二苯并噻吩、二苯并噻咯(Dibenzosilole)、吩噁嗪、吩噻嗪、吖啶、二氢吖啶、呋喃、噻吩、唑、二唑、***上除去与构成环的碳原子或杂原子直接键合的氢原子中的2个氢原子后剩余的2价基团，优选式(AA-1)～式(AA-34)表示的基团。2价杂环基包含多个这些基团键合而成的基团。
[化学式17]
[化学式18]
[化学式19]
[化学式20]
[化学式21]
[化学式22]
[化学式23]
[式中，R和Ra表示与上述相同的含义。]
所谓“交联基团”，是指可通过供给至加热处理、紫外线照射处理、自由基反应等生成新的键的基团，优选式(B-1)-(B-17)的任意一种表示的基团。这些基团可以具有取代基。
[化学式24]
所谓“取代基”，表示卤原子、氰基、烷基、环烷基、芳基、1价杂环基、烷氧基、环烷氧基、芳氧基、氨基、取代氨基、烯基、环烯基、炔基或环炔基。取代基可以是交联基团。
所谓“树枝状”，意指具有以原子或环作为分支点的规则的树枝状分支结构(即，树状物结构)的基团。作为具有树枝状的化合物(以下称作“树状物”。)，可以列举：例如，国际公开第02/067343号、日本特开2003-231692号公报、国际公开第2003/079736号、国际公开第2006/097717号等文献中记载的结构。
作为树枝状，优选式(D-A)或(D-B)表示的基团。
mDA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6和mDA7通常为10以下的整数，优选5以下的整数，更优选0或1。mDA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6和mDA7优选为相同的整数。
GDA优选式(GDA-11)～(GDA-15)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
[化学式25]
[式中，
＊表示与式(D-A)中的ArDA1、式(D-B)中的ArDA1、式(D-B)中的ArDA2、或式(D-B)中的ArDA3所成的键。
＊＊表示与式(D-A)中的ArDA2、式(D-B)中的ArDA2、式(D-B)中的ArDA4、或式(D-B)中的ArDA6所成的键。
＊＊＊表示与式(D-A)中的ArDA3、式(D-B)中的A3、式(D-B)中的ArDA5、或式(D-B)中的ArDA7所成的键。
RDA表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可进一步具有取代基。存在多个RDA的情况下，其可以相同或不同。]
RDA优选氢原子、烷基、环烷基、烷氧基或环烷氧基，更优选氢原子、烷基或环烷基，这些基团可以具有取代基。
ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6和ArDA7优选式(ArDA-1)～(ArDA-3)表示的基团。
[化学式26]
[式中，
RDA表示与上述相同的含义。
RDB表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。存在多个RDB的情况下，其可以相同或不同。]
RDB优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选芳基或1价杂环基，进一步优选芳基。
TDA优选式(TDA-1)～(TDA-3)表示的基团。
[化学式27]
[式中，RDA和RDB表示与上述相同的含义。]
式(TDA-1)～(TDA-3)表示的基团中，优选存在的多个RDA和RDB中的至少之一是碳原子数4以上的烷基或碳原子数4以上的环烷基，优选存在的多个RDA中的至少之一是碳原子数4以上的烷基或碳原子数4以上的环烷基。
式(D-A)表示的基团优选式(D-A1)～(D-A3)表示的基团。
式(D-B)表示的基团优选式(D-B1)～(D-B3)表示的基团。
[化学式28]
[式中，
Rp1、Rp2和Rp3各自独立地表示烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基或卤原子。存在多个Rp1和Rp2的情况下，它们可以各自相同或不同。
np1表示0～5的整数，np2表示0～3的整数，np3表示0或1。存在多个np1和np2的情况下，它们可以各自相同或不同。]
np1优选0或1，更优选1。np2优选0或1，更优选0。np3优选0。
Rp1、Rp2和Rp3优选烷基或环烷基。
<金属络合物>
接着，对本发明的金属络合物进行说明。本发明的金属络合物为式(1)表示的金属络合物。
式(1)所示的金属络合物由M(铱原子或铂原子)、以下标n1规定了其数目的配体、以下标n2规定了其数目的配体构成。
式(1)中，M优选铱原子。
式(1)中，M为铱原子的情况下，n1优选2或3，更优选3。
式(1)中，M为铂原子的情况下，n1优选2。
式(1)中，关于E2、E3和E4的组合，优选E2和E3为氮原子、E4为碳原子的组合，或者E2和E4为氮原子、E3为碳原子的组合，更优选E2和E3为氮原子、E4为碳原子的组合。
式(1)中，R1优选芳基，其原因在于，本发明的金属络合物的合成容易。
式(1)中，作为R1表示的芳基或1价杂环基，可以列举：例如，式(L-1)～(L-19)表示的基团，优选式(L-1)～(L-16)表示的基团，更优选式(L-1)～(L-10)表示的基团，进一步优选式(L-1)～(L-5)表示的基团，特别优选式(L-1)表示的基团。
[化学式29]
[化学式30]
[化学式31]
[化学式32]
[化学式33]
[式中，
RL4表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RL4可以相同或不同，可以相邻的RL4之间彼此键合、与各自键合的碳原子一起形成环。
RL5表示烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RL5可以相同或不同，可以彼此键合、与各自键合的碳原子一起形成环。]
式(L-1)～(L-19)中，RL4优选氢原子、烷基或环烷基。作为RL4表示的烷基或环烷基，优选选自式(II-01)～(II-010)表示的基团中的基团。
[化学式34]
式(L-1)～(L-19)中，多个存在的RL4中的至少2个优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选烷基、环烷基或芳基，进一步优选烷基或环烷基，特别优选为选自式(II-01)～(II-010)表示的基团中的基团。
式(L-1)～(L-19)中，RL5优选烷基或环烷基，更优选选自式(II-01)～式(II-010)表示的基团中的基团。
式(1)中，E2为氮原子，且存在R2的情况下，R2优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选芳基。
式(1)中，E3为氮原子，且存在R3的情况下，R3优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选芳基。
式(1)中，优选环A为5元或6元芳香烃环、或者、5元或6元芳香杂环，更优选5元或6元芳香烃环，进一步优选6元芳香烃环。
式(1)中，作为环A，可以列举：例如，苯环、萘环、芴环、茚环、菲环、二苯并呋喃环、二苯并噻吩环、咔唑环、吡啶环、二氮杂苯环、三嗪环、吡咯环、呋喃环或噻吩环，优选：苯环、茚环、芴环、菲环、二苯并呋喃环、二苯并噻吩环、咔唑环、吡啶环、二氮杂苯环或三嗪环，更优选：苯环、芴环、菲环、二苯并呋喃环、二苯并噻吩环、咔唑环、吡啶环、二氮杂苯环或三嗪环，进一步优选：苯环、芴环、二苯并呋喃环、二苯并噻吩环、咔唑环、吡啶环或嘧啶环，特别优选：苯环、吡啶环或嘧啶环，尤其优选苯环。
式(1)中的环A表示的芳香烃环或芳香杂环优选至少具有1个取代基，其原因在于，本发明的金属络合物的发光稳定性更优异。环A可以具有的取代基优选烷基、环烷基、芳基、1价杂环基或卤原子，更优选烷基、环烷基或芳基，进一步优选芳基。
式(1)中，作为A1-G1-A2表示的阴离子性的2齿配体，可以列举：例如，下述表示的配体。
[化学式35]
[化学式36]
[式中，＊表示与铱原子或铂原子键合的部位。]
式(1)中，A1-G1-A2表示的阴离子性的2齿配体可以是下述表示的配体。
[化学式37]
[式中，
＊表示与铱原子或铂原子键合的部位。
RL1表示氢原子、烷基、环烷基、芳基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。多个存在的RL1可以相同或不同。
RL2表示烷基、环烷基、芳基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。
RL3表示烷基、环烷基或卤原子，这些基团可以具有取代基。]
式(1)所示的金属络合物从其立体结构的观点出发，存在着具有多个光学异构体和结构异构体的情况。因此，存在着式(1)表示的金属络合物以多个光学异构体和结构异构体的混合物的形式被制造的情况。在式(1)表示的金属络合物以多个光学异构体和结构异构体的混合物的形式被制造的情况下，以填充了非手性硅胶的柱子(ODS)作为固定相的高效液相色谱分析中，式(1)表示的金属络合物的单一成分的面积百分率优选90％以上，更优选95％以上，进一步优选98％以上，尤其优选99.5％以上。
式(1)所示的金属络合物优选式(1-a)表示的金属络合物，其原因在于，发光稳定性更优异。
式(1-a)中，R4和R7优选氢原子、烷基、环烷基、芳基、1价杂环基或卤原子，更优选氢原子、烷基或芳基，进一步优选氢原子，其原因在于，本发明的金属络合物的合成变得容易。
式(1-a)中，R5和R6优选氢原子、烷基、环烷基、芳基、1价杂环基或卤原子，更优选氢原子、烷基、环烷基或芳基，进一步优选氢原子或芳基，特别优选R5和R6的至少之一为芳基，其原因在于，本发明的金属络合物的合成变得容易。
式(1-a)表示的金属络合物优选式(1-b)表示的金属络合物，其原因在于，发光稳定性更优异。
式(1-b)中，R8和R12优选氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选氢原子、烷基或芳基，进一步优选氢原子或烷基，特别优选氢原子，其原因在于，本发明的金属络合物的合成变得容易。
式(1-b)中，R9和R11优选氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选氢原子、烷基或芳基，进一步优选烷基或芳基，特别优选烷基，其原因在于，本发明的金属络合物相对于溶剂的溶解性和成膜性优异。
式(1-b)中，R8、R9、R11和R12优选：R9与R11是相同的原子或基团，更优选R8与R12是相同的原子或基团、且R9与R11是相同的原子或基团，其原因在于，本发明的金属络合物的发光稳定性更优异。
式(1-b)中，R10优选氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选氢原子、烷基或芳基，进一步优选氢原子或烷基，特别优选氢原子，其原因在于，本发明的金属络合物相对于溶剂的溶解性和成膜性优异。
式(1-b)表示的金属络合物优选式(1-c)表示的金属络合物或式(1-d)表示的金属络合物，更优选式(1-c)表示的金属络合物，其原因在于，发光稳定性更优异。式(1-c)表示的金属络合物优选式(1-e)表示的金属络合物，其原因在于，发光稳定性更优异。
式(1-e)中，R13和R17优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选烷基或芳基，进一步优选烷基。
式(1-e)中，R14、R15和R16优选氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选氢原子、烷基或芳基。
式(1)、式(1-a)、式(1-b)、式(1-c)、式(1-d)、式(1-e)中，优选选自R1、R2、R3、R5、R6、R10和R15的至少之一为芳基或1价杂环基，更优选芳基，其原因在于，本发明的金属络合物的发光稳定性更优异。芳基和1价杂环基优选树枝状，更优选式(D-A)或(D-B)表示的基团，进一步优选式(D-A)表示的基团，特别优选式(D-A1)、(D-A2)或(D-A3)表示的基团，尤其优选式(D-A1)表示的基团。
作为式(1)所示的金属络合物，可以列举：例如，式(Ir-1)～(Ir-18)和式(Pt-1)～(Pt-3)表示的金属络合物，优选式(Ir-1)～(Ir-12)或式(Pt-1)表示的金属络合物，更优选式(Ir-1)～(Ir-8)表示的金属络合物，进一步优选式(Ir-1)～(Ir-4)表示的金属络合物。
[化学式38]
[化学式39]
[化学式40]
[化学式41]
[化学式42]
[化学式43]
[化学式44]
[化学式45]
[式中，
R1、RL1和RL2与表示与上述相同的含义。
RL6表示烷基或环烷基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RL6可以相同或不同。
RL7表示烷基、环烷基、芳基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。存在多个RL7的情况下，它们可以相同或不同。]
式(Ir-1)～(Ir-18)和式(Pt-1)～(Pt-3)中，RL6优选烷基或环烷基，更优选选自式(II-01)～式(II-010)表示的基团中的基团，进一步优选式(II-01)～式(II-04)、式(II-09)或式(II-010)表示的基团。
式(Ir-1)～(Ir-18)和式(Pt-1)～(Pt-3)中，RL7优选烷基、芳基或1价杂环基，更优选选自式(II-01)～式(II-010)表示的基团中的基团、选自式(III-01)～式(III-09)表示的基团中的基团、或者式(D-A)表示的基团。
[化学式46]
作为式(1)所示的金属络合物，可以列举：例如，式(Ir-100)～式(Ir-124)和式(Pt-100)～(Pt-103)表示的金属络合物。
[化学式47]
[化学式48]
[化学式49]
[化学式50]
[化学式51]
[化学式52]
[化学式53]
[化学式54]
[化学式55]
[化学式56]
[化学式57]
认为式(1)所示的金属络合物中有多种几何异构体，可以是任意的几何异构体，但是，优选相对于本发明的金属络合物整体，含有80摩尔％以上、更优选含有90摩尔％以上、进一步优选含有99摩尔％以上、特别优选含有100摩尔％的facial体，其原因在于，使用本发明的金属络合物得到的发光元件的亮度寿命优异。
本发明的发光元件中可以单独使用1种本发明的金属络合物，也可以并用2种以上。
<金属络合物的制造方法>
本发明的金属络合物可以通过例如使成为配体的化合物、与金属化合物反应的方法来制造。也可以根据需要，进行金属络合物的配体的官能团变换反应。
式(1)所示的金属络合物可以按照例如下述包括工序A和工序B的方法来制造，所述工序A为使式(M-1)表示的化合物、铱化合物或其水合物、或者、铂化合物或其水合物进行反应的工序；工序B为使式(M-2)表示的金属络合物、式(M-1)表示的化合物或A1-G1-A2表示的配体的前体进行反应的工序。
[化学式58]
[式中，
M、n1、n2、E2、E3、E4、R1、R2、R3、环A、环B和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。
n3表示1或2。M为铱原子的情况下，n3为2，M为铂原子的情况下，n3为1。]
在工序A中，作为铱化合物，可以列举：例如，氯化铱、氯(环辛二烯)铱(I)二聚体。作为铱化合物的水合物，可以列举：例如，氯化铱三水合物。
在工序A中，作为铂化合物，可以列举：例如，氯铂酸钾。
工序A和工序B通常在溶剂中进行。作为溶剂，可以列举：甲醇、乙醇、丙醇、乙二醇、甘油、2-甲氧基乙醇、2-乙氧基乙醇等醇系溶剂；***、四氢呋喃(THF)、二氧六环、环戊基甲醚、二甘醇二甲醚等醚系溶剂；二氯甲烷、氯仿等卤系溶剂；乙腈、苄腈等腈系溶剂；己烷、十氢萘、甲苯、二甲苯、均三甲苯等烃系溶剂；N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺等酰胺系溶剂；丙酮、二甲基亚砜、水等。
在工序A和工序B中，反应时间通常为30分钟～200小时，反应温度通常为反应体系中存在的溶剂的熔点至沸点之间。
在工序A中，相对于铱化合物或其水合物1摩尔、或者、相对于铂化合物或其水合物1摩尔，式(M-1)表示的化合物通常为2～20摩尔。
在工序B中，相对于式(M-2)表示的金属络合物1摩尔，式(M-1)表示的化合物或A1-G1-A2表示的配体的前体的量通常为1～100摩尔。
在工序B中，反应优选在三氟甲磺酸银等银化合物的存在下进行。使用银化合物的情况下，相对于式(M-2)表示的金属络合物1摩尔，其用量通常为2～20摩尔。
作为式(M-1)表示的化合物的1个实施方式的式(M-3)表示的化合物可以通过例如，使式(M-4)表示的化合物与式(2)表示的化合物发生Suzuki反应、Kumada反应、Stille反应等偶联反应的工序来合成。
[化学式59]
[式中，
R1、环B和环A表示与上述相同的含义。
R18、R19、R20、R21和R22各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。其中，R19、R20和R21的至少之一为Z1表示的基团。
R23、R24、R25、R26和R27各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基、卤原子、-B(ORW1)2表示的基团、烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基或芳基磺酰氧基，这些基团可以具有取代基。其中，R24、R25和R26中的至少之一为-B(ORW1)2表示的基团、烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基、芳基磺酰氧基、氯原子、溴原子或碘原子。
Z1表示烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。
W1表示-B(ORW1)2表示的基团、-MgXW1表示的基团、烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基、芳基磺酰氧基、氯原子、溴原子或碘原子，这些基团可以具有取代基。
XW1表示氯原子、溴原子或碘原子。
RW1表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或氨基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RW1可以相同或不同，可以彼此键合、与各自键合的氧原子一起形成环结构。]
作为-B(ORW1)2表示的基团，可以列举：例如，下述式(W-1)-(W-10)表示的基团。
[化学式60]
作为W1表示的烷基磺酰氧基，可以列举：甲磺酰氧基、乙磺酰氧基、三氟甲磺酰氧基等。
作为W1表示的芳基磺酰氧基可以列举：对甲磺酰氧基等。
W1优选-B(ORW1)2表示的基团、三氟甲磺酰氧基、溴原子或碘原子，更优选溴原子或式(W-7)表示的基团，其原因在于可容易地进行式(2)表示的化合物与式(M-4)表示的化合物之间的偶联反应。
R24、R25和R26表示的烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基和芳基磺酰氧基的实例分别与W1表示的烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基和芳基磺酰氧基的实例相同。
R24、R25和R26优选溴原子、碘原子或式(W-7)表示的基团。
Z1优选烷基或芳基，更优选选自上述式(II-01)～式(II-010)表示的基团中的基团、选自上述式(III-01)～式(III-08)表示的基团中的基团、或者、上述式(D-A)表示的基团。
该反应通常在溶剂中进行。溶剂、反应时间和反应温度与工序A和工序B的相关说明相同。
在该反应中，相对于式(M-4)表示的化合物1摩尔，式(2)表示的化合物的量通常为0.05～20摩尔。
式(2)表示的化合物可以按照例如国际公开第2002/067343号、日本特开2003-231692号公报、国际公开第2003/079736号、国际公开第2006/097717号等文献中记载的方法进行合成。
作为式(M-4)表示的化合物的1个实施方式的式(M-5)表示的化合物可以按照例如使式(M-7)表示的苯甲酰基亚氨酸酯化合物与式(M-6)表示的芳基肼化合物缩合的方法来合成。
[化学式61]
[式中，
R1、R23、R24、R25、R26和R27表示与上述相同的含义。
R28表示烷基，该烷基可以具有取代基。]
该反应通常在溶剂中进行。溶剂、反应时间和反应温度与工序A和工序B的相关说明相同。根据需要，也可以并用碱。
在该反应中，相对于式(M-7)表示的化合物1摩尔，式(M-6)表示的化合物的量通常为0.05～20摩尔。
式(M-6)表示的化合物可以按照例如，日本特开2013-147551号公报、“Journal ofthe American Chemcal Society，Vol.131，p16681(2009)”等文献中记载的方法来合成。式(M-6)表示的化合物可以是盐酸盐等盐。
式(M-7)表示的化合物可以按照例如，“Tetrahedron Letters，No.3，p325(1968)”、“Bioorganic&Medicinal Chemistry，12，p2013(2004)”、“Europian Journal ofOrganic Chemistry，p3197(2011)”等文献中记载的方法来合成。
作为式(1)所示的金属络合物的1个实施方式的式(3)表示的金属络合物，可以通过例如使式(2)表示的化合物、式(4)表示的金属络合物(式(1)表示的金属络合物的1个实施方式。)发生偶联反应来制造。该偶联反应与式(M-3)表示的化合物的相关说明相同。
[化学式62]
[式中，
M、n1、n2、R1、环B、Z1、W1和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。
R29、R30、R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基、卤原子、-B(ORW1)2表示的基团、烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基或芳基磺酰氧基，这些基团可以具有取代基。RW1表示与上述相同的含义。其中，R30、R31、R34、R35和R36的至少之一为-B(ORW1)2表示的基团、烷基磺酰氧基、环烷基磺酰氧基、芳基磺酰氧基、氯原子、溴原子或碘原子。
R38、R39、R40、R41和R42各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、1价杂环基或卤原子，这些基团可以具有取代基。其中，R38、R39、R40、R41和R42的至少之一为Z1表示的基团。]
作为式(4)表示的金属络合物的1个实施方式的式(4-a)或式(4-b)表示的金属络合物，可以由例如，式(5)表示的金属络合物合成。
[化学式63]
[式中，M、n1、n2、R1、环B、R29、R31、R32、R33、R34、R35、R36和R37和A1-G1-A2表示与上述相同的含义。]
更详细而言，式(4a)表示的金属络合物可以通过例如使式(5)表示的金属络合物与N-溴代丁二酰亚胺在有机溶剂中发生反应的工序C来合成。
在工序C中，相对于式(5)表示的化合物1摩尔，N-溴代丁二酰亚胺的量通常为1～50摩尔。
更详细而言，式(4b)表示的金属络合物可以按照例如使式(4a)表示的金属络合物与联硼酸频那醇酯在有机溶剂中反应的工序D来合成。
在工序D中，相对于式(4a)表示的化合物1摩尔，联硼酸频那醇酯的量通常为1～50摩尔。
工序C和工序D通常在溶剂中进行。溶剂、反应时间和反应温度与工序A和工序B的相关说明相同。
本发明的金属络合物的制造方法中采用的上述偶联反应中，为了促进反应，可以使用钯催化剂等催化剂。作为钯催化剂，可以列举：醋酸钯、二(三苯基膦)二氯化钯(II)、四(三苯基膦)钯(0)、[1，1′-二(二苯基膦基)二茂铁]二氯化钯(II)、三(二苄叉基丙酮)二钯(0)等。
钯催化剂也可以与三苯基膦、三(邻甲苯基)膦、三(叔丁基)膦、三环己基膦、1，1′-二(二苯基膦基)二茂铁等磷化合物并用。
偶联反应中使用钯催化剂的情况下，相对于式(M-4)、式(4)、式(4-a)或式(4-b)表示的化合物1摩尔，其用量例如通常为有效量，优选以钯元素换算、为0.00001～10摩尔。
偶联反应中可以根据需要并用碱。
<金属络合物的制造方法>中说明的各反应中可使用的化合物、催化剂和溶剂，分别可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
<组合物>
本发明的组合物含有选自空穴传输材料、空穴注入材料、电子传输材料、电子注入材料、发光材料(与本发明的金属络合物不同。)、抗氧化剂和溶剂中的至少1种材料、以及本发明的金属络合物。
本发明的组合物中，本发明的金属络合物可以单独含有1种，也可以含有2种以上。
[基质材料]
本发明的金属络合物通过与具有选自空穴注入性、空穴传输性、电子注入性和电子传输性中的至少之一的功能的基质材料制成组合物，可以使使用本发明的金属络合物得到的发光元件的发光效率优异。本发明的组合物中，基质材料可以单独含有1种，也可以含有2种以上。
含有本发明的金属络合物与基质材料的组合物中，在将本发明的金属络合物与基质材料的总量设定为100重量份的情况下，本发明的金属络合物的含量通常为0.05～80重量份，优选0.1～50重量份，更优选0.5～40重量份。
基质材料具有的最低激发三线态(T1)优选与本发明的金属络合物具有的T1能级相同、或者能级更高，其原因在于，使用本发明的组合物得到的发光元件的发光效率优异。
作为基质材料，优选相对于可溶解本发明金属络合物的溶剂显示出溶解性，其原因在于，可通过溶液涂布工艺制作使用本发明组合物得到的发光元件。
基质材料分为低分子化合物和高分子化合物。
对作为基质材料优选的低分子化合物(以下称作“低分子基质材料”。)做以下说明。
[低分子基质材料]
低分子基质材料优选式(H-1)表示的化合物。
ArH1和ArH2优选：苯基、芴基、螺二芴基、吡啶基、嘧啶基、三嗪基、喹啉基、异喹啉基、噻吩基、苯并噻吩基、二苯并噻吩基、呋喃基、苯并呋喃基、二苯并呋喃基、吡咯基、吲哚基、氮杂吲哚基、咔唑基、氮杂咔唑基、二氮杂咔唑基、吩噁嗪基或吩噻嗪基；更优选：苯基、螺二芴基、吡啶基、嘧啶基、三嗪基、二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、咔唑基或氮杂咔唑基；进一步优选：苯基、吡啶基、咔唑基或氮杂咔唑基；特别优选上述式(TDA-1)或(TDA-3)表示的基团，尤其优选上述式(TDA-3)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
作为ArH1和ArH2可以具有的取代基，优选卤原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，更优选烷基、环烷氧基、烷氧基或环烷氧基，进一步优选烷基或环烷氧基，这些基团可以进一步具有取代基。
nH1优选1。nH2优选0。
nH3通常为0以上10以下的整数，优选0以上5以下的整数，更优选1以上3以下的整数，特别优选1。
nH11优选1以上5以下的整数，更优选1以上3以下的整数，进一步优选1。
RH11优选氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选氢原子、烷基或环烷基，进一步优选氢原子或烷基，这些基团可以具有取代基。
LH1优选亚芳基或2价杂环基。
LH1优选式(A-1)～(A-3)、式(A-8)～(A-10)、式(AA-1)～(AA-6)、式(AA-10)～(AA-21)或式(AA-24)～(AA-34)表示的基团，更优选式(A-1)、式(A-2)、式(A-8)、式(A-9)、式(AA-1)～(AA-4)、式(AA-10)～(AA-15)或式(AA-29)～(AA-34)表示的基团，进一步优选式(A-1)、式(A-2)、式(A-8)、式(A-9)、式(AA-2)、式(AA-4)、式(AA-10)～(AA-15)表示的基团，特别优选式(A-1)、式(A-2)、式(A-8)、式(AA-2)、式(AA-4)、式(AA-10)、式(AA-12)或式(AA-14)表示的基团，尤其优选式(A-1)、式(A-2)、式(AA-2)、式(AA-4)或式(AA--14)表示的基团。
作为LH1可以具有的取代基，优选卤原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，更优选烷基、烷氧基、芳基或1价杂环基，进一步优选烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以进一步具有取代基。
LH21优选单键或亚芳基，更优选单键，该亚芳基可以具有取代基。
LH21表示的亚芳基或2价杂环基的定义和实例与LH1表示的亚芳基或2价杂环基的定义和实例相同。
RH21优选芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。
RH21表示的芳基和1价杂环基的定义和实例与ArH1和ArH2表示的芳基和1价杂环基的定义和实例相同。
RH21可以具有的取代基的定义和实例与ArH1和ArH2可以具有的取代基的定义和实例相同。
式(H-1)表示的化合物优选式(H-2)表示的化合物。
[化学式64]
[式中，ArH1、ArH2、nH3和LH1表示与上述相同的含义。]
作为式(H-1)表示的化合物，例示下述式(H-101)～(H-118)表示的化合物。
[化合物65]
[化学式66]
[化学式67]
[化学式68]
作为基质材料中使用的高分子化合物，可以列举：例如，后述的作为空穴传输材料的高分子化合物、后述的作为电子传输材料的高分子化合物。
[高分子基质]
对作为基质材料优选的高分子化合物(以下称作“高分子基质”。)进行说明。
高分子基质优选包含式(Y)表示的构成单元的高分子化合物。
ArY1表示的亚芳基更优选式(A-1)、式(A-2)、式(A-6)-(A-10)、式(A-19)或式(A-20)表示的基团，进一步优选式(A-1)、式(A-2)、式(A-7)、式(A-9)或式(A-19)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
ArY1表示的2价杂环基更优选式(AA-1)-(AA-4)、式(AA--10)-(AA-15)、式(AA-18)-(AA-21)、式(AA-33)或式(AA-34)表示的基团，进一步优选式(AA-4)、式(AA-10)、式(AA-12)、式(AA-14)或式(AA-33)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
ArY1表示的至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团中，亚芳基和2价杂环基更优选的范围、进一步优选的范围分别与上述ArY1表示的亚芳基和2价杂环基的更优选范围、进一步优选范围相同。
作为“至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团”可以列举：例如，下述式表示的基团，它们可以具有取代基。
[化学式69]
[式中，RXX表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。]
RXX优选烷基、环烷基或芳基，这些基团可以具有取代基。
ArY1表示的基团可以具有的取代基优选烷基、环烷基或芳基，这些基团可以进一步具有取代基。
作为式(Y)表示的构成单元，可以列举：例如，式(Y-1)-(Y-10)表示的构成单元，从使用了高分子基质与本发明金属络合物的组合物的发光元件的亮度寿命的观点出发，优选式(Y-1)-(Y-3)表示的构成单元，从电子传输性的观点出发，优选式(Y-4)-(Y-7)表示的构成单元，从空穴传输性的观点出发，优选式(Y-8)-(Y-10)表示的构成单元。
[化学式70]
[式中，RY1表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RY1可以相同或不同，可以相邻的RY1之间彼此键合，与各自键合的碳原子一起形成环。]
RY1优选氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些基团可以具有取代基。
式(Y-1)表示的构成单元优选式(Y-1′)表示的构成单元。
[化学式71]
[式中，RY11表示烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RY11可以相同或不同。]
RY11优选烷基、环烷基或芳基，更优选烷基或环烷基，这些基团可以具有取代基。
[化学式72]
[式中，RY1表示与上述相同的含义。XY1表示-C(RY2)2-、-C(RY2)＝C(RY2)-或C(RY2)2-C(RY2)2-表示的基团。RY2表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RY2可以相同或不同，可以RY2之间彼此键合、与各自键合的碳原子一起形成环。]
RY2优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选烷基、环烷基或芳基，这些基团可以具有取代基。
XY1中，-C(RY2)2-表示的基团中的2个RY2的组合优选两者为烷基或环烷基，两者为芳基，两者为1价杂环基，或者其中之一为烷基或环烷基、另一者为芳基或1价杂环基，更优选其中之一为烷基或环烷基、另一者为芳基，这些基团可以具有取代基。存在的2个RY2可以彼此键合，与各自键合的原子一起形成环，在RY2形成环的情况下，作为-C(RY2)2-表示的基团，优选式(Y-A1)-(Y-A5)表示的基团，更优选式(Y-A4)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
[化学式73]
XY1中，-C(RY2)＝C(RY2)-表示的基团中的2个RY2的组合，优选两者为烷基或环烷基，或者，其中之一为烷基或环烷基、另一者为芳基，这些基团可以具有取代基。
XY1中，-C(RY2)2-C(RY2)2-表示的基团中的4个RY2优选为可以具有取代基的烷基或环烷基。存在的多个RY2可以彼此键合，与各自键合的原子一起形成环，在RY2形成环的情况下，-C(RY2)2-C(RY2)2-表示的基团优选式(Y-B1)-(Y-B5)表示的基团，更优选式(Y-B3)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
[化学式74]
[式中，RY2表示与上述相同的含义。]
式(Y-2)表示的构成单元优选式(Y-2′)表示的构成单元。
[化学式75]
[式中，RY11和XY1表示与上述相同的含义。]
[化学式76]
[式中，RY1和XY1表示与上述相同的含义。]
式(Y-3)表示的构成单元优选式(Y-3′)表示的构成单元。
[化学式77]
[式中，RY11和XY1表示与上述相同的含义。]
[化学式78]
[化学式79]
[式中，RY1表示与上述相同的含义。RY3表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。]
RY3优选烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，更优选芳基，这些基团可以具有取代基。
式(Y-4)表示的构成单元优选式(Y-4′)表示的构成单元，式(Y-6)表示的构成单元优选式(Y-6′)表示的构成单元。
[化学式80]
[式中，RY11和RY3表示与上述相同的含义。]
[化学式81]
[式中，RY1表示与上述相同的含义。RY4表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。]
RY4优选烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，更优选芳基，这些基团可以具有取代基。
作为式(Y)表示的构成单元，可以列举：例如，式(Y-101)-(Y-121)表示的包含亚芳基的构成单元、式(Y-201)-(Y-206)表示的包含2价杂环基的构成单元、式(Y-301)-(Y-304)表示的包含至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团的构成单元。
[化学式82]
[化学式83]
[化学式84]
[化学式85]
[化学式86]
[化学式87]
[化学式88]
[化学式89]
[化学式90]
相对于高分子化合物中包含的构成单元的总量，作为式(Y)表示的构成单元的、ArY1为亚芳基的构成单元优选0.5～80摩尔％，更优选30～60摩尔％，其原因在于，使用了高分子基质和本发明金属络合物的组合物的发光元件的亮度寿命优异。
相对于高分子化合物中包含的构成单元的总量，作为式(Y)表示的构成单元的、ArY1为2价杂环基、或者为至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团的构成单元优选0.5～30摩尔％，更优选3～20摩尔％，其原因在于，使用了高分子基质和本发明金属络合物的组合物的电荷传输性优异。
在高分子基质中可以仅含有1种式(Y)表示的构成单元，也可以包含2种以上。
高分子基质优选进一步含有下述式(X)表示的构成单元，其原因在于，空穴传输性优异。
[化学式91]
[式中，aX1和aX2各自独立地表示0以上的整数。ArX1和ArX3各自独立地表示亚芳基或2价杂环基，这些基团可以具有取代基。ArX2和ArX4各自独立地表示亚芳基、2价杂环基、或者至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团，这些基团可以具有取代基。RX1、RX2和RX3各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团可以具有取代基。]
aX1优选2以下，更优选1，其原因在于，使用了高分子基质和本发明金属络合物的组合物的发光元件的亮度寿命优异。
aX2优选2以下，更优选0，其原因在于，使用了高分子基质和本发明金属络合物的组合物的发光元件的亮度寿命优异。
RX1、RX2和RX3优选烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，更优选芳基，这些基团可以具有取代基。
ArX1和ArX3表示的亚芳基更优选式(A-1)或式(A-9)表示的基团，进一步优选式(A-1)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
ArX1和ArX3表示的2价杂环基更优选式(AA--1)、式(AA-2)或式(AA-7)-(AA-26)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
ArX1和ArX3优选可以具有取代基的亚芳基。
作为ArX2和ArX4表示的亚芳基，更优选式(A-1)、式(A-6)、式(A-7)、式(A-9)-(A-11)或式(A-19)表示的基团，这些基团可以具有取代基。
ArX2和ArX4表示的2价杂环基的更优选的范围与ArX1和ArX3表示的2价杂环基的更优选的范围相同。
ArX2和ArX4表示的至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团中的亚芳基和2价杂环基的更优选范围、进一步优选范围分别与ArX1和ArX3表示的亚芳基和2价杂环基的更优选范围、进一步优选范围相同。
作为ArX2和ArX4表示的至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团，可以列举与式(Y)的ArY1表示的至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成是2价基团相同的基团。
ArX2和ArX4优选可以具有取代基的亚芳基。
作为ArX1～ArX4和RX1～RX3表示的基团可以具有的取代基，优选烷基、环烷基或芳基，这些基团可以进一步具有取代基。
式(X)表示的构成单元优选式(X-1)-(X-7)表示的构成单元，更优选式(X-1)-(X-6)表示的构成单元，进一步优选式(X-3)-(X-6)表示的构成单元。
[化学式92]
[化学式93]
[化学式94]
[化学式95]
[式中，RX4和RX5各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基、芳氧基、卤原子、1价杂环基或氰基，这些基团可以具有取代基。多个存在的RX4可以相同或不同。多个存在的RX5可以相同或不同，可以相邻的RX5之间彼此键合、与各自键合的碳原子一起形成环。]
相对于高分子基质中包含的构成单元的总量，式(X)表示的构成单元优选0.1～50摩尔％、更优选1～40摩尔％、进一步优选5～30摩尔％，其原因在于，空穴传输性优异。
作为式(X)表示的构成单元，可以列举：例如，式(X1-1)-(X1-11)表示的构成单元，优选式(X1-3)-(X1-10)表示的构成单元。
[化学式96]
[化学式97]
[化学式98]
[化学式99]
[化学式100]
高分子基质中可以仅含有1种式(X)表示的构成单元，也可以含有2种以上。
作为高分子基质，可以列举：例如，表1的高分子化合物(P-1)～(P-6)。在此，“其他”的构成单元意指式(Y)表示的构成单元、式(X)表示的构成单元以外的构成单元。
【表1】
[表中、p、q、r、s和t表述各构成单元的摩尔比率。p+q+r+s+t＝100，且100≥p+q+r+s≥70。其他的构成单元意指式(Y)表示的构成单元、式(X)表示的构成单元以外的构成单元。]
高分子基质可以是嵌段共聚物、无规共聚物、交替共聚物、接枝共聚物的任意一种，也可以是其他形态，优选将多种原料单体共聚而成的共聚物。
<高分子基质的制造方法>
高分子基质可以采用Chem.Rev.，第109卷，897-1091页(2009年)等中记载的公知的聚合方法来制造，可例示：通过Suzuki反应、Yamamoto反应、Buchwald反应、Stille反应、Negishi反应和KumaDA反应等使用过渡金属催化剂的偶联反应进行聚合的方法。
在上述聚合方法中，作为投入单体的方法，可以列举：将全部单体一次投入反应体系的方法，投入一部分单体使其反应后、再将剩余单体一次、连续或者分次地投入的方法，将单体连续或者分次地投入的方法等。
作为过渡金属催化剂，可以列举：钯催化剂、镍催化剂等。
聚合反应的后处理可以单独或者组合地采用下述公知的方法进行，例如，通过分液而除去水溶性杂质的方法；向甲醇等低级醇中加入聚合反应后的反应液、过滤掉析出的沉淀后使其干燥的方法等。高分子基质的纯度低的情况下，可以采用例如，重结晶、再沉淀、由索氏提取器的连续提取、柱色谱等通常的方法进行精制。
含有本发明的金属络合物和溶剂的组合物(以下称作“墨液”。)适于采用喷墨印刷法、喷嘴印刷法等印刷法的发光元件的制作。
墨液的粘度可以根据印刷法的种类来调整，但是在用于喷墨印刷法等的、溶液经由喷出装置的印刷法的情况下，优选在25℃为1～20mPa·s，其原因在于，若在喷出时发生堵塞，不易因此飞行弯曲。
墨液中含有的溶剂优选可将油墨中的固体成分溶解或均匀分散的溶剂。作为溶剂，可以列举：例如，1，2-二氯乙烷、1，1，2-三氯乙烷、氯苯、邻二氯苯等氯系溶剂；THF、二氧六环、苯甲醚、4-甲基苯甲醚等醚系溶剂；甲苯、二甲苯、均三甲苯、乙基苯、正己基苯、环己基苯等芳香烃系溶剂；环己烷、甲基环己烷、正戊烷、正己烷、正庚烷、正辛烷、正壬烷、正癸烷、正十二烷、二环己烷等脂肪族烃系溶剂；丙酮、甲乙酮、环己酮、苯乙酮等酮系溶剂；醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙基溶纤剂乙酸酯、苯甲酸甲酯、醋酸苯基酯等酯系溶剂；乙二醇、甘油、1，2-己二醇等多元醇系溶剂；异丙醇、环己醇等醇系溶剂；二甲基亚砜等亚砜系溶剂；N-甲基-2-吡咯烷酮、N，N-二甲基甲酰胺等酰胺系溶剂。溶剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
在墨液中，相对于本发明的金属络合物100重量份，溶剂的配合量通常为1000～100000重量份，优选2000～20000重量份。
[空穴传输材料]
空穴传输材料分为低分子化合物和高分子化合物，优选高分子化合物，更优选具有交联基团的高分子化合物。
作为高分子化合物，可以列举：例如，聚乙烯基咔唑及其衍生物；侧链或主链上具有芳香族胺结构的聚芳烃及其衍生物。高分子化合物可以是键合了受电子性部位的化合物。作为受电子性部位，可以列举：例如，富勒烯、四氟四氰基醌二甲烷、四氰基乙烯、三硝基芴酮等，优选富勒烯。
本发明的组合物中，相对于本发明的金属络合物100重量份，空穴传输材料的配合量通常为1～400重量份，优选5～150重量份。
空穴传输材料可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
[电子传输材料]
电子传输材料分为低分子化合物和高分子化合物。电子传输材料可以具有交联基团。
作为低分子化合物，可以列举：例如，以8-羟基喹啉作为配体是金属络合物、噁二唑、蒽醌二甲烷、苯醌、萘醌、蒽醌、四氰基蒽醌二甲烷、芴醌、二苯基二氰基乙烯和联苯醌、以及它们的衍生物。
作为高分子化合物，可以列举：例如，聚苯、聚芴以及它们的衍生物。高分子化合物可以以金属进行掺杂。
本发明的组合物中，相对于本发明的金属络合物100重量份，电子传输材料的配合量通常为1～400重量份，优选5～150重量份。
电子传输材料可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
[空穴注入材料和电子注入材料]
空穴注入材料和电子注入材料各自分为低分子化合物和高分子化合物。空穴注入材料和电子注入材料可以具有交联基团。
作为低分子化合物，可以列举：例如，酞菁铜等金属酞菁；碳；钼、钨等的金属氧化物；氟化锂、氟化钠、氟化铯、氟化钾等金属氟化物。
作为高分子化合物，可以列举：例如，聚苯胺、聚噻吩、聚吡咯、聚聚对苯撑乙炔、聚亚噻吩基乙炔(poly(thienylene vinylene))、聚喹啉和聚喹喔啉以及它们的衍生物；在主链或侧链上包含芳香族胺结构的聚合物等的导电性高分子。
本发明的组合物中，相对于本发明的金属络合物100重量份，空穴注入材料和电子注入材料的配合量分别通常为1～400重量份，优选5～150重量份。
空穴注入材料和电子注入材料分别可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
[离子掺杂]
在空穴注入材料或电子注入材料包含导电性高分子的情况下，导电性高分子的电导度优选1×10-5S/cm～1×103S/cm。为了将导电性高分子的电导度设定在上述范围，可以在导电性高分子中掺杂适量离子。
关于掺杂的离子种类，若是空穴注入材料则为阴离子，若是电子注入材料则为阳离子。作为阴离子，可以列举：例如，聚苯乙烯磺酸离子、烷基苯磺酸离子、樟脑磺酸离子。作为阳离子，可以列举：例如，锂离子、钠离子、钾离子、四丁基铵离子。
掺杂的离子可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
[发光材料]
发光材料(与本发明的金属络合物不同。)分为低分子化合物和高分子化合物。发光材料可以具有交联基团。
作为低分子化合物，可以列举：例如，萘及其衍生物、蒽及其衍生物、苝及其衍生物、以及以铱、铂或铕作为中心金属的三重态发光络合物。
作为高分子化合物，可以列举：例如，包含亚苯基、萘二基、芴二基、菲二基、二氢菲二基、式(X)表示的基团、咔唑二基、吩噁嗪二基、吩噻嗪二基、蒽二基、芘二基等的高分子化合物。
发光材料优选包含三重态发光络合物和高分子化合物。
作为三重态发光络合物，可以列举：例如以下示出的金属络合物。
[化学式101]
[化学式102]
[化学式103]
[化学式104]
本发明的组合物中，相对于本发明的金属络合物100重量份，发光材料的含量通常为0.1～400重量份。
[抗氧化剂]
抗氧化剂只要为可溶于和本发明的金属络合物相同的溶剂、不损害发光和电荷传输的化合物即可，可以列举：例如，酚系抗氧化剂、磷系抗氧化剂。
本发明的组合物中，相对于本发明的金属络合物100重量份，抗氧化剂的配合量通常为0.001～10重量份。
抗氧化剂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。
<膜>
膜含有本发明的金属络合物。
膜也包括通过交联使本发明的金属络合物对溶剂不溶化后的不溶化膜。不溶化膜是利用加热、光照射等外部刺激使本发明的金属络合物交联而得到的膜。不溶化膜在溶剂中实质上不溶，因此可适用于发光元件的层叠化。
用于使膜交联的加热温度通常为25～300℃，优选50～250℃，更优选150～200℃，其原因在于，外部量子效率优异。
用于使膜交联的光照射所使用的光的种类，为例如紫外光、近紫外光、可见光。
膜适宜作为发光元件中的发光层。
膜可以通过使用墨液，按照例如，旋涂法、流延法、微型凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、辊涂法、线棒涂法、浸渍涂布法、喷雾涂布法、丝网印刷法、柔版印刷法、胶版印刷法、喷墨印刷法、毛细管涂布法、喷嘴涂布法来制造。
膜的厚度通常为1nm～10μm。
<发光元件>
本发明的发光元件是使用本发明的金属络合物得到的发光元件。在本发明的金属络合物具有交联基团的情况下，该发光元件为例如、包含本发明的金属络合物的发光元件，本发明的金属络合物在分子内、分子间或者这两者发生了交联的发光元件，本发明的金属络合物不具有交联基团情况下，该发光元件为例如包含本发明的金属络合物的发光元件。
作为本发明的发光元件的构成，例如，具有包含阳极和阴极的电极、设置在该电极间的、使用本发明的金属络合物得到的层。
[层构成]
使用本发明的金属络合物得到的层通常为发光层、空穴传输层、空穴注入层、电子传输层、电子注入层的1种以上的层，优选发光层。这些层分别包含发光材料、空穴传输材料、空穴注入材料、电子传输材料、电子注入材料。这些层可按照下述形成：使用分别使发光材料、空穴传输材料、空穴注入材料、电子传输材料、电子注入材料溶解在上述溶剂中而制备的墨液，按照与上述膜的制造相同的方法来形成。
发光元件在阳极和阴极之间具有发光层。从空穴注入性和空穴传输性的观点出发，优选本发明的发光元件在阳极和发光层之间具有空穴注入层和空穴传输层的至少1层，从电子注入性和电子传输性的观点出发，优选在阴极和发光层之间具有电子注入层和电子传输层的至少1层。
作为空穴传输层、电子传输层、发光层、空穴注入层和电子注入层的材料，除了本发明的金属络合物之外，可以列举如上分别所述的空穴传输材料、电子传输材料、发光材料、空穴注入材料和电子注入材料等。
发光元件的制作中，就空穴传输层的材料、电子传输层的材料和发光层的材料而言，其溶解于在形成分别与空穴传输层、电子传输层和发光层相邻的层所使用的溶剂中的情况下，为了避免该材料溶解于该溶剂中，优选该材料具有交联基团。使用具有交联基团的材料形成各层后，通过使该交联基团交联，使该层不溶化。
在本发明的发光元件中，作为发光层、空穴传输层、电子传输层、空穴注入层、电子注入层等各层的形成方法，在使用低分子化合物的情况下，可以列举：例如，由粉末的真空蒸镀法、由溶液或熔融状态的成膜方法，在使用高分子化合物的情况下，可以列举：例如，基于溶液或熔融状态的成膜方法。
层叠的层的顺序、数目和厚度考虑外部量子效率和亮度寿命来调整。
[基板/电极]
发光元件中的基板只要是可以形成电极且在形成有机层时不发生化学变化的基板即可，可以是例如，包含玻璃、塑料、硅等材料的基板。在不透明基板的情形下，优选离基板最远的电极为透明或不透明。
作为阳极的材料，可以列举：例如，导电性金属氧化物、半透明金属，优选氧化铟、氧化锌、氧化锡；氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌等导电性化合物；银、钯和铜的复合体(APC)；NESA、金、铂、银、铜。
作为阴极的材料，可以列举：例如，锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、铝、锌、铟等金属；它们中的2种以上的合金；它们中的1种以上与、银、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡中的1种以上的合金；以及石墨和石墨层间化合物。作为合金，可以列举：例如，镁-银合金、镁-铟合金、镁-铝合金、铟-银合金、锂-铝合金、锂-镁合金、锂-铟合金、钙-铝合金。
阳极和阴极可分别为2层以上的层叠结构。
[用途]
为了使用发光元件获得面状发光，只要将面状的阳极和阴极重合配置即可。为了获得图案状的发光，有在面状发光元件的表面设置已经设置好了图案状窗的掩膜的方法，极厚地形成欲作为非发光部的层以使其实质上不发光的方法，将阳极或阴极、或者两者的电极形成为图案状的方法。上述的任意方法中，通过配置可独立地ON/OFF的数个电极，可以得到能够显示数字、文字等的片段型显示装置。为了设置点矩阵显示装置，只要将阳极和阴极以一起形成垂直相交的条状的方法设置即可。通过将多种发光色不同的高分子化合物分别涂布的方法、使用滤色器或荧光转换滤器的方法，可以实现部分彩色显示、多重彩色显示。点矩阵显示装置可以是脉冲驱动，也可以是与TFT等组合的Active驱动。这些显示装置可以用于计算机、电视、便携末端等显示器中。面状发光元件可适宜地用于液晶显示装置的背光用面状光源或者面状的照明用光源。若使用柔性基板，也可以作为曲面状光源和显示装置使用。
实施例
以下通过实施例对本发明做更详细的说明，但本发明并不受这些实施例的限制。
在实施例中，高分子化合物以聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)和聚苯乙烯换算的重均分子量(Mw)利用尺寸排阻色谱法(SEC)(岛津制作所制造、商品名：LC-10Avp)求得。需要说明的是，SEC的测定条件如下所示。
[测定条件]
将待测定的高分子化合物以约0.05重量％的浓度溶解于THF中，注入SEC10μL。使用THF作为SEC的流动相，以2.0mL/分钟的流量流入。使用PLgel MIXED-B(PolymerLaboratories制造)作为柱子。检测器使用UV-VIS检测器(岛津制造所制造、商品名：SPD-10Avp)。
液相质谱质量分析(LC-MS)按照下述方法进行。
按照成为约2mg/mL的浓度的方式将测定试样溶解在氯仿或THF中，向LC-MS(安捷伦科技制造、商品名：1100LCMSD)中注入约1μL。LC-MS的流动相中，使用使乙腈和THF的比率发生变化，以0.2mL/分钟的流量流过。柱子使用L-column2ODS(3μm)(化学物质评价研究机构制造、内径：2.1mm、长度：100mm、粒径3μm)。
NMR的测定按照下述方法进行。
使5～10mg的测定试样溶解至约0.5mL的氘代氯仿(CDCl3-d1)、氘代二氯甲烷(CD2Cl2-d2)、氘代四氢呋喃(THF-d8)或氘代丙酮((CD3)2CO-d6)中，使用NMR装置(Agilent制造、商品名：INOVA300或MERCURY 300)进行测定。
作为化合物纯度的指标，使用高效液相(HPLC)面积百分率的值。该值若无特别记载，采用HPLC(岛津制作所制造、商品名：LC-20A)的254nm下的值。此时，按照成为0.01～0.2重量％的浓度的方式使待测定的化合物溶解在THF或氯仿中，与浓度相对应地，向HPLC中注入1～10μL。HPLC的流动相中使用乙腈和THF，以1mL/分钟的流速、乙腈/THF＝100/0～0/100(体积比)的梯度分析而流过。柱子使用Kaseisorb LC ODS2000(东京化成工业制造)或具有同等性能的ODS柱。检测器使用光电二极管阵列检测器(岛津制作所制造、商品名：SPD-M20A)。
TLC-MS的测定按照下述方法进行。
使测定试样溶解于甲苯、四氢呋喃或氯仿中，涂布在DART用TLC板(TechnoApplications公司制造YSK5-100)上，使用TLC-MS(日本电子(JEOL Ltd.)公司制造、商品名JMS-T100TD(The AccuTOF TLC))进行测定。测定时的氦气温度在200～400℃的范围内调整。
<发光稳定性的评价>
[发光稳定性的评价装置]
发光稳定性的评价装置从后述的测定试样的玻璃基板侧照射激发光，使测定试样中包含的有机层发光。激发光源使用浜松Photonix公司制造的Lightningcure LC-L1V3(波长365nm)。在测定试样发出的发光测定中，使用作为发光亮度测定装置的株式会社TOPCON制造的BM-9。按照不使波长400nm以下的光被测到的方式，在发光亮度测定装置的测光入射口设置短波长不透射过滤器。
[激发光源的激发光强度调整]
发光稳定性的评价中，按照由后述的各测定试样发光的光子数相同的方式，调整激发光源的激发光强度。
为了算出由各测定试样发光的光子数变得相同的条件，使用式(11)、式(12)、式(13-1)、式(13-2)、式(14)、式(15)、式(16)和式(17)。
第一，由式(11)算出由测定试样发光的光子数。在此，表示发光光谱强度的IntPL(λ)是使用在石英基板上形成后述的测定试样中包含的有机层而得到的试样，使用日本分光公司制造的FP-6500测定的。
(其中，NPL表示发光的光子数[个]。
λ表示波长[nm]。
IntPL(λ)表示发光光谱强度[W]。)
第二，将表示通过式(11)算出的发光光子数的NPL改写成式(12)。
NPL＝κint×nnrm-PL
式(12)
(其中，
NPL表示与上述相同的含义。
Kint表示比例系数。
nnrm-PL表示标准化光子数。)
式(12)中，表示标准化光子数的nnrm-PL由式(13-1)算出。
(其中，
λ和nnrm-PL表示与上述相同的含义。
Intnrm-PL(λ)表示标准化发光光谱。)
式(13-1)中，表示标准化发光光谱的Intnrm-PL(λ)由式(13-2)算出。
Intnrm-PL(λ)＝IntPL(λ)/max(IntPL(λ))
式(13-2)
(其中，λ、Intnrm-PL(λ)和IntPL(λ)表示与上述相同的含义。)
第三，使用表示标准化发光光谱的Intnrm-PL(λ)，由式(14)算出标准化亮度。
(其中，λ和Intnrm-PL(λ)表示与上述相同的含义。)
lnrm表示标准化亮度。
Lf(λ)表示视敏度光谱。)
第四，使用表示标准化亮度的lnrm、由式(15)算出发光亮度。
(其中，
LPL表示发光亮度[cd/m2]。
λ、IntPL(λ)、Lf(λ)、Kint、Intnrm-PL(λ)和lnrm表示与上述相同的含义。)
第五，使用式(12)和式(15)，由式(16)算出发光的光子数相同的条件。通过使用上述式(16)，可以算出满足由各测定试样发光的光子数相同的条件的、各测定试样的发光亮度。
NPL＝κint×nnrm-PL＝constant
发光的光子数为一定的条件
(其中，NPL、Kint和nnrm-PL表示与上述相同的含义。)
(其中，
Leqv表示发光亮度[cd/m2]。
lnrm、nnrm-PL和Kint表示与上述相同的含义。)
例如，使试样A在亮度LA下发光的情况下，发光的光子数与试样A相同的试样B的发光亮度可以通过使用了试样A和试样B的标准化光子数与标准化亮度的式(17)算出。
(其中，
LA表示试样A的发光亮度[cd/m2]。
LB表示试样B的发光亮度[cd/m2]。
nA nrm-PL表示试样A的标准化光子数。
nB nrm-PL表示试样B的标准化光子数。
lA nrm表示试样A的标准化亮度。
lB nrm表述试样B的标准化亮度。)
<比较例1>金属络合物MM1的合成
[化学式105]
金属络合物MM1按照美国专利申请公开第2014/0151659号说明书中记载的方法合成。
<比较例2>金属络合物MM2的合成
[化学式106]
金属络合物MM2按照日本特开2013-147551号公报中记载的方法合成。
<比较例3>金属络合物MM3的合成
[化学式107]
金属络合物MM3按照日本特开2013-147551号公报中记载的方法合成。
<实施例1>金属络合物MC1的合成
[化学式108]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-A(33.7g)和二氯甲烷(400mL)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入25重量％氨水溶液(40.8g)，一边将反应容器在冰浴中冷却一边搅拌1小时，然后，向其中加入离子交换水(200mL)和二氯甲烷(150mL)，提取有机层。将得到的有机层用无水硫酸镁干燥后，加入庚烷(400mL)，通过将二氯甲烷减压浓缩，得到含有白色固体的溶液。将得到的含有白色固体的溶液过滤，随后，通过将得到的白色固体減压干燥，得到作为白色固体的化合物MC1-B(27.8g、收率93％)。化合物MC1-B的HPLC面积百分率值为99.3％。通过重复进行该操作，得到必要量的化合物MC1-B。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝150[M+H]+
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-B(34.3g)和二氯甲烷(1.38L)。然后，向其中加入三乙基氧鎓四氟硼酸盐的二氯甲烷溶液(1mol/L、276mL)，在室温搅拌34小时。然后，向其中加入碳酸氢钠水溶液(1mol/L、352mL)，在室温搅拌30分钟。提取得到的反应溶液的有机层后，用饱和食盐水(300mL)洗涤得到的有机层，得到有机层。向得到的有机层中加入庚烷(200mL)后，通过将二氯甲烷减压浓缩，得到含有白色固体的溶液。将得到的含有白色固体的溶液过滤后，通过将得到的滤液浓缩，得到作为黄色油状物的化合物MC1-c(33.6g、收率82％)。化合物MC1-c的HPLC面积百分率值为98.0％。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝178[M+H]+
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-c(33.5g)、苯甲酰氯(26.6g)和氯仿(570mL)，接着，加入三乙胺(26.4mL)，在室温搅拌66小时。将得到的反应溶液减压浓缩，向得到的残渣中加入离子交换水(210mL)和氯仿(210mL)，提取有机层。用饱和食盐水(150mL)洗涤得到的有机层，用无水硫酸镁干燥后，通过减压浓缩，得到作为橙色油状物的化合物MC1-d(54.2g、收率88％)。化合物MC1-d的HPLC面积百分率值为86.0％。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝282[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CDCl3-d1)：δ(ppm)＝8.01-7.98(m，2H)，7.56-7.51(m，1H)，7.46-7.41(m，2H)，7.19(s，2H)，7.03(s，1H)，4.48-4.41(m，2H)，2.23(s，6H)，1.48(t，3H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-e(55.8g)和甲苯(925mL)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入氢氧化钠水溶液(1mol/L、222mL)，将反应容器在冰浴中边冷却边搅拌30分钟。提取得到的反应溶液的有机层，得到作为有机层的甲苯溶液。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-d(52.0g)和氯仿(925mL)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入上述得到的甲苯溶液。然后，一边将反应容器在冰浴中冷却，一边搅拌7小时，接着，在室温搅拌100小时。向得到的反应溶液中加入离子交换水(500mL)，提取有机层，将得到的有机层减压浓缩。用硅胶柱色谱(氯仿和己烷的混合溶剂)将得到的残渣精制后，使用氯仿和庚烷的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为白色固体的化合物MC1-f(17.6g、收率22％)。化合物MC1-f的HPLC面积百分率值为99.5％以上。通过重复进行该操作，得到必要量的化合物MC1-f。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝432[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)：δ(ppm)＝7.84(s，2H)，7.56-7.54(m，2H)，7.43-7.32(M，5H)，7.09(s，1H)，2.40(s，6H)，1.99(s，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-f(17.3g)、环戊基甲基醚(240mL)和[1，1’-二(二苯基膦基)二茂铁]二氯化钯(II)(98mg)，升温至50℃。然后，向其中加入己基溴化镁的***溶液(2mol/L、40mL)后，在50℃搅拌2小时。然后，向其中加入盐酸水溶液(1mol/L、80mL)，提取有机层。用离子交换水(100mL)对得到的有机层洗涤2次，用无水硫酸镁干燥后进行过滤，并通过对得到的滤液减压浓缩而得到油状物。向得到的油状物中加入甲苯和活性炭，在50℃搅拌30分钟。然后，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩得到固体。使用硅胶柱色谱(己烷和醋酸乙酯的混合溶剂)对得到的固体精制后，用甲醇重结晶。然后，通过在50℃减压干燥得到作为白色固体的化合物MC1-g(12.1g、收率69％)。化合物MC1-g的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝438[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.92(s，2H)，7.65-7.62(m，2H)，7.48-7.35(m，3H)，7.15(s，1H)，7.09(s，2H)，2.70(t，2H)，2.46(s，6H)，2.03(s，6H)，1.77-1.67(m，2H)，1.46-1.36(m，6H)，1.00-0.95(m，3H).
<1-6>金属络合物MC1的合成
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(2.50g)、化合物MC1-g(6.43g)、离子交换水(28mL)和2-乙氧基乙醇(112mL)，加热回流下搅拌25小时。然后，向其中加入甲苯，用离子交换水进行洗涤。提取得到的洗涤液的有机层，通过将得到的有机层减压浓缩得到固体。通过使用硅胶柱色谱(甲苯和甲醇的混合溶剂)对得到的固体进行精制，得到固体(4.82g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(4.81g)、三氟甲磺酸银(1.43g)、化合物MC1-g(4.81g)和十三烷(1.1mL)，在150℃加热搅拌15小时。然后，向其中加入甲苯，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，使用离子交换水对得到的滤液进行洗涤，得到有机层。通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。使用硅胶柱色谱(己烷和甲苯的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，利用醋酸乙酯和乙醇的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥得到作为黄色固体的金属络合物MC1(2.32g、收率35％)。金属络合物MC1的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1502.8[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.96(s，6H)，7.07(s，6H)，6.91(s，3H)，6.60(t，3H)，6.51(t，3H)，6.41(d，3H)，6.29(d，3H)，2.70(t，6H)，2.09(s，18H)，1.85(s，9H)，1.76-1.67(m，6H)，1.60(s，9H)，1.44-1.35(m，18H)，1.00-0.95(m，9H).
<实施例2>金属络合物MC2的合成
[化学式109]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-f(2.00g)、化合物MC2-a(0.62g)、二[三(2-甲氧基苯基)膦](II)二氯化钯(41.0mg)、甲苯(20.0g)和20重量％氢氧化四乙铵水溶液(8.17g)，加热回流下搅拌4小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。使用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，得到有机层。用无水硫酸钠对得到的有机层进行干燥后，过滤，并通过减压浓缩得到的滤液而得到固体。使用胶柱色谱(己烷和氯仿的混合溶剂)对得到的固体精制后，使用庚烷进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥得到作为白色固体的化合物MC2-b(1.29g、收率66％)。化合物MC2-b的HPLC面积百分率值为99.5％以上。通过重复进行该操作，得到必要量的化合物MC2-b。
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.93(s，2H)，7.75-7.68(m，4H)，7.58-7.52(m，4H)，7.50-7.38(m，4H)，7.16(s，1H)，2.47(s，6H)，2.14(s，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(0.27g)、化合物MC2-b(0.68g)、离子交换水(5.35g)、2-乙氧基乙醇(16.0g)和1，4-二氧六环(8.00g)、加热回流下搅拌28小时。然后，向其中加入醋酸乙酯，用离子交换水进行洗涤，得到有机层。通过将得到的有机层减压浓缩得到固体(0.81g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(0.81g)、三氟甲磺酸银(0.29g)、化合物MC2-b(0.645)、二甘醇二甲醚(0.81g)和2，6-二甲基吡啶(0.20g)，在150℃加热搅拌22小时。然后，向其中加入甲苯，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，并使用离子交换水对得到的滤液进行洗涤，得到有机层。通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。使用硅胶柱色谱(己烷和甲苯的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，用甲苯和庚烷的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC2(0.17g、收率16％)。金属络合物MC2的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1478.6[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝8.02(s，6H)，7.75(d，6H)，6.66-6.44(m，15H)，6.97(s，3H)，6.68-6.44(m，12H)，2.14(s，18H)，1.98(s，9H)，1.74(s，9H).
<实施例3>金属络合物MC3的合成
[化学式110]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC1(0.50g)、二氯甲烷(25mL)和N-溴代丁二酰亚胺(203mg)，在室温搅拌27.5小时。然后，向其中加入10重量％的亚硫酸钠水溶液(4.20g)，接着，加入离子交换水(8.40mL)，在室温搅拌30分钟。从得到的反应溶液提取有机层，并使用铺上了硅胶的过滤器对得到的有机层进行过滤。向得到的滤液中加入甲醇而析出沉淀。将得到的沉淀过滤后，在50℃真空干燥，由此得到作为黄色固体的金属络合物MC1TBR(0.55g、收率95％)。金属络合物MC1TBR的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1736.5[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.94(s，6H)，7.71(d，6H)，6.94(s，3H)，6.73-6.70(m，3H)，6.29(d，3H)，6.25(d，3H)，2.72(t，6H)，2.10(s，18H)，1.84(s，9H)，1.77-1.67(m，6H)，1.57(s，9H)，1.45-1.34(m，18H)，0.99-0.94(m，9H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC1TBR(0.50g)、化合物MC3-a(0.44g)、甲苯(30mL)、三(二苄叉基丙酮)二钯(0)(7.9mg)和2-二环己基膦基-2’，6’-二甲氧基联苯(8.5mg)，升温至80℃。然后，向其中加入20重量％的四乙基氢氧化铵水溶液(4.2mL)，在加热回流下搅拌6小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。使用离子交换水洗涤得到的有机层，并用无水硫酸镁进行干燥后，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩得到固体。通过使用硅胶柱色谱(己烷和甲苯的混合溶剂)对得到的固体进行精制，得到作为黄色固体的金属络合物MC3(0.54g、收率74％)。金属络合物MC3的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝2523.5[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝8.05(s(Br)，6H)，7.70-7.50(m，27H)，7.38(s(Br)，6H)，7.13-7.01(m，9H)，6.95(s，3H)，6.82(s(Br)，3H)，6.65(s(Br)，3H)，2.25(t，6H)，2.11(s，18H)，2.02(s，9H)1.71-1.64(m，9H)，1.48-1.20(M，78H)，0.96-0.86(m，9H).
<实施例4>金属络合物MC4的合成
[化学式111]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC4-a(13.1g)和叔丁基甲基醚(110mL)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入氢氧化钠水溶液(1mol/L、125mL)，一边将反应容器在冰浴中冷却，一边搅拌30分钟。提取得到的反应溶液的有机层，得到作为有机层的叔丁基甲基醚溶液。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-d(11.0g)和氯仿(220mL)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入上述得到的叔丁基甲基醚溶液。然后，一边将反应容器在冰浴中冷却，一边搅拌7小时，接着，在室温搅拌110小时。向得到的反应溶液中加入离子交换水(330mL)，提取有机层，将得到的有机层减压浓缩。使用硅胶柱色谱(氯仿和己烷的混合溶剂)对得到的残渣进行精制后，使用氯仿和庚烷的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为白色固体的化合物MC4-b(10.2g、收率55％)。化合物MC4-b的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝488.2[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.92(s，2H)，7.66-7.62(m，2H)，7.52(s，2H)，7.52-7.36(m，3H)，7.16(s，1H)，2.57-2.46(M，8H)，1.20(d，6H)，0.97(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC4-b(10.2g)、化合物MC2-a(2.8g)、二[三(2-甲氧基苯基)膦](II)二氯化钯(92.1mg)、甲苯(102mL)和20重量％四乙基氢氧化铵水溶液(36.9g)，加热回流下搅拌4小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，得到有机层。使用无水硫酸钠将得到的有机层干燥后，加入硅胶(10g)进行过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。使用庚烷和氯仿的混合溶剂对得到的固体进行重结晶。然后，通过在50℃进行减压干燥，得到作为白色固体的化合物MC4-c(8.55g、收率84％)。化合物MC4-c的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝486.3[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.96(s，2H)，7.75(t，4H)，7.60-7.55(m，4H)，7.51-7.41(m，4H)，7.17(s，1H)，2.63-2.58(m，2H)，2.47(d，6H)，1.27(d，6H)，1.05(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(1.96g)、化合物MC4-c(5.61g)、离子交换水(20mL)和二甘醇二甲醚(80mL)，在150℃加热搅拌18小时。然后，向其中加入甲苯，用离子交换水进行洗涤，得到有机层。通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。用硅胶色谱法(甲苯和甲醇的混合溶剂)对得到的固体进行精制。然后，通过在50℃减压干燥而得到固体(5.16g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(4.5g)、三氟甲磺酸银(1.93g)、化合物MC4-c(2.78g)、二甘醇二甲醚(4.5mL)、癸烷(4.5mL)和2，6-二甲基吡啶(1.1mL)，在160℃加热搅拌31小时。然后，向其中加入二氯甲烷，使用铺上了硅藻土的过滤器过滤，使用离子交换水对得到的滤液进行洗涤，得到有机层。用无水硫酸镁对得到的有机层干燥后，加入硅胶(18.6g)进行过滤，通过对得到的滤液进行减压浓缩而得到固体。使用硅胶柱色谱(环己烷和二氯甲烷的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，使用甲苯和乙腈的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥得到作为黄色固体的金属络合物MC4(1.9g、收率24％)。金属络合物MC4的HPLC面积百分率值为98.9％。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1646.8[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝9.12-7.10(m，27H)，7.00(s，3H)，6.72(t，3H)，6.62-6.33(m，9H)，2.74-1.67(m，24H)，1.25(d，9H)，1.15-1.00(m，18H)，0.84(d，9H).
<实施例5>金属络合物MC5的合成
[化学式112]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC4(0.70g)、二氯甲烷(35mL)和N-溴代丁二酰亚胺(825mg)，在室温搅拌40小时。然后，向其中加入10重量％的亚硫酸钠水溶液(7.7g)，接着，加入离子交换水(15mL)，在室温搅拌30分钟。从得到的反应溶液提取有机层，使用铺上了硅胶的过滤器对得到的有机层进行过滤。通过向得到的滤液中加入乙醇使沉淀析出。将得到的沉淀过滤后，通过在50℃真空干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC4TBR(0.73g、收率91％)。金属络合物MC4TBR的HPLC面积百分率值为96％。通过重复进行该操作，得到必要量的化合物MC4TBR。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1880.5[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝8.25-7.83(m，6H)，7.76(d，6H)，7.76-7.46(m，15H)，7.04(s，3H)，6.83(d，3H)，6.50(s，3H)，6.31(d，3H)，2.33-1.85(m，24H)，1.25(d，9H)，1.12-1.07(m，18H)，0.84(d，9H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC4TBR(0.60g)、化合物MC5-a(0.52g)、甲苯(18mL)和二氯双(二-叔丁基(4-二甲基氨基苯基)膦)钯(II)(6.8mg)，升温至90℃。然后，向其中加入20重量％的四乙基氢氧化铵水溶液(9.1mL)，在加热回流下搅拌19小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，并使用无水硫酸镁干燥后，用铺上了硅胶的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。使用硅胶柱色谱(环己烷和二氯甲烷的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，用甲苯和乙腈的混合溶剂重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC5(0.30g、收率47％)。金属络合物MC5的HPLC面积百分率值为97.5％。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝2001.1[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.70-7.40(m，27H)，7.04(s，3H)，6.78(s，9H)，6.56-6.52(m，3H)，6.21(s，3H)，2.43-1.88(m，42H)，1.75(s，9H)，1.23(d，9H)，1.07-1.01(m，18H)，0.85(d，9H).
<实施例6>金属络合物MC6的合成
[化学式113]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC4TBR(0.31g)、化合物MC3-a(0.31g)、甲苯(9.3mL)和二氯双(二-叔丁基(4-二甲基氨基苯基)膦)钯(II)(3.5mg)，升温至90℃。然后，向其中加入20重量％的四乙基氢氧化铵水溶液(2.7mL)，加热回流下搅拌5小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，使用无水硫酸镁干燥后，采用铺上了硅胶的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。用硅胶柱色谱(环己烷和二氯甲烷的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，使用二氯甲烷和己烷的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC6(0.26g、收率60％)。金属络合物MC6的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝2667.5[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝8.40-7.32(M，60H)，7.15(d，3H)，7.05-7.03(m，6H)，6.76(s，3H)，2.54-2.50(m，3H)，2.18-2.13(m，18H)，1.38(s，54H)，1.31-1.13(m，30H)，0.90(d，9H).
<实施例7>金属络合物MC7的合成
[化学式114]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC7-a(100g)、碳酸钾(110g)和N，N’-二甲基甲酰胺(500mL)，升温至90℃。然后，向其中加入包含化合物MC7-b(109g)的N，N’-二甲基甲酰胺(100mL)溶液，在100℃搅拌1小时。然后，冷却至室温，加入离子交换水和氯仿，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，并使用无水硫酸镁干燥后，用铺上了硅胶的过滤器过滤，并通过将得到的滤液减压浓缩而得到油状物。使用硅胶柱色谱(庚烷和醋酸乙酯的混合溶剂)对得到的油状物进行精制后，通过在45℃减压干燥，得到作为无色油状物的化合物MC7-c(117g、收率94％)。化合物MC7-c的HPLC面积百分率值为99.5％以上。通过重复进行该操作，得到必要量的化合物MC7-c。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝281.9[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝3.94(d，2H)，2.32-2.23(m，1H)，0.95(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC7-c(127g)、化合物MC7-d(88.9g)、乙醇(380mL)、甲苯(1140mL)和四(三苯基膦)钯(0)(15.6g)。升温至55℃。然后，向其中加入碳酸钠水溶液(2mol/L，450mL)，在70℃搅拌29小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，并使用无水硫酸镁干燥后，通过对得到的溶液减压浓缩而得到油状物。使用硅胶柱色谱(甲苯和醋酸乙酯的混合溶剂)将得到的油状物进行多次精制后，通过在45℃减压干燥，得到作为无色油状物的化合物MC7-e(63.2g、收率39％)。化合物MC7-e的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝356.1[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.83-7.82(m，1H)，7.76-7.74(m，1H)，7.63-7.53(m，4H)，7.56-7.46(m，2H)，7.42-7.39(m，1H)，4.03(d，2H)，2.38-2.28(m，1H)，0.88(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC7-e(25.0g)、化合物MC7-f(11.6g)、乙醇(75mL)、甲苯(225mL)和四(三苯基膦)钯(0)(2.43g)，升温至80℃。然后，向其中加入碳酸钠水溶液(2mol/L，70mL)，在80℃搅拌16小时。然后，向其中加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，并使用无水硫酸镁干燥后，通过将得到的溶液减压浓缩而得到油状物。使用硅胶柱色谱(庚烷和醋酸乙酯的混合溶剂)对得到的油状物进行精制后，通过在45℃减压干燥，得到作为无色油状物的化合物MC7-g(26.5g、收率99％)。化合物MC7-g的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝382.2[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.88-7.87(m，1H)，7.82-7.80(m，2H)，7.75-7.72(m，1H)，7.67-7.56(m，4H)，7.49-7.45(m，2H)，7.41-7.37(m，1H)，7.05-7.04(m，1H)，4.06(d，2H)，2.42-2.38(m，7H)，0.88(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(1.43g)、化合物MC7-g(3.20g)、离子交换水(11mL)和二甘醇二甲醚(35mL)，在140℃加热加班18小时。然后，向其中加入甲苯，用离子交换水进行洗涤，得到有机层。通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。通过使用叔丁基甲基醚和庚烷的混合溶剂对得到的固体进行重结晶，得到固体(2.5g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(1.0g)、三氟甲磺酸银(0.58g)、化合物MC7-g(1.16g)和2，6-二甲基吡啶(0.9mL)，在160℃加热搅拌12小时。然后，向其中加入二氯甲烷，使用铺上了硅藻土的过滤器过滤，将得到的滤液加至乙腈后，生成了沉淀。通过将得到的沉淀过滤而得到固体。使得到的固体溶解在二氯甲烷中，并加入硅胶进行过滤。将得到的滤液减压浓缩、并使用柱色谱法(甲苯)精制后，使用甲苯和甲醇的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC7(270mg、收率20％)。金属络合物MC7的HPLC面积百分率值为88％。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1334.6[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.75(d，3H)，7.67-7.64(m，6H)，7.49(t，6H)，7.39-7.34(m，3H)，7.12-7.08(m，3H)，6.96(s，3H)，6.86-6.83(m，3H)，6.50(s，6H)，4.53-4.46(m，3H)，4.14-4.00(m，3H)，2.45-2.32(m，3H)，2.23-2.18(m，18H)，1.08(d，9H)，0.91(d，9H).
<实施例8>金属络合物MC8的合成
[化学式115]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC7-e(25.0g)、化合物MC8-a(18.0g)、乙醇(75mL)、甲苯(225mL)和四(三苯基膦)钯(0)(2.43g)，升温至80℃。然后，向其中加入碳酸钠水溶液(2mol/L，70mL)，在80℃搅拌48小时。然后，冷却至室温，加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，并使用无水硫酸镁干燥后，通过将得到的溶液减压浓缩而得到油状物。使用硅胶柱色谱(甲苯和醋酸乙酯的混合溶剂)对得到的油状物进行多次精制后，通过在45℃减压干燥而得到作为黄色油状物的化合物MC8-b(24.2g、收率90％)。化合物MC8-b的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝383.2[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝1H-NMR(CDCl3，300MHz)：δ(ppm)＝7.87(s，1H)，7.78-7.72(m，3H)，7.66-7.59(m，4H)，7.50-7.46(m，2H)，7.42-7.38(m，1H)，4.09(d，2H)，2.60(m，6H)，2.42-2.33(m，1H)，0.89(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(1.43g)、化合物MC8-b(3.21g)、离子交换水(11mL)和二甘醇二甲醚(35mL)，加热回流下加热搅拌18小时。然后，向其中加入二氯甲烷，用饱和食盐水进行洗涤，得到有机层。用无水硫酸镁对得到的有机层进行干燥，通过将得到的滤液进行减压浓缩而得到油状物。通过向得到的油状物中加入己烷而使沉淀析出。将得到的沉淀过滤，并使用环戊基甲基醚洗涤后，通过在50℃减压干燥而得到固体(3.0g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(1.5g)、三氟甲磺酸银(0.58g)、化合物MC8-b(0.87g)和2，6-二甲基吡啶(0.9mL)，在160℃加热搅拌12小时。然后，向其中加入包含1vol％甲醇的二氯甲烷，接着，加入硅胶，并使用铺上了硅藻土的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。使用柱色谱法(甲苯和甲醇的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，再使用甲苯和乙腈的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC8(130mg、收率13％)。金属络合物MC8的HPLC面积百分率值为98.6％。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1337.6[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝7.77(d，3H)，7.66-7.63(m，6H)，7.50(t，6H)，7.40-7.35(m，3H)，7.14-7.10(m，3H)，6.80(d，3H)，6.72-6.48(m，6H)，4.57-4.50(m，3H)，4.21-4.13(m，3H)，2.45-2.31(m，21H)，1.09(d，9H)，0.92(d，9H).
<实施例9>金属络合物MC9的合成
[化学式116]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC4-b(17.0g)、环戊基甲基醚(150mL)和[1，1’-二(二苯基膦基)二茂铁](II)二氯化钯(172mg)，升温至50℃。然后，向其中加入己基溴化镁的***溶液(2mol/L、35mL)后，在50℃搅拌5小时。然后，向其中加入盐酸水溶液(1mol/L、35mL)，提取有机层。用离子交换水(85mL)对得到的有机层洗涤2次，用无水硫酸镁干燥后，过滤，并通过将得到的滤液减压浓缩而得到油状物。向得到的油状物中加入甲苯和硅胶，在室温搅拌30分钟。然后，使用铺上了硅藻土的过滤器过滤，并通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。使用乙腈对得到的固体进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥而得到作为白色固体的化合物MC9-a(13.7g、收率80％)。化合物MC9-a的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝494[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.92(s，2H)，7.67-7.63(m，2H)，7.46-7.33(m，3H)，7.18(s，2H)，7.14(s，1H)，2.76(t，2H)，2.57-2.46(M，8H)，1.77-1.70(m，2H)，1.48-1.42(m，6H)，1.21-1.19(m，6H)，0.98-0.96(m，9H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(2.96g)、化合物MC9-a(8.65g)、离子交换水(30mL)和二甘醇二甲醚(74mL)，在加热回流下搅拌18小时。然后，冷却至室温，加入甲苯，用离子交换水洗涤。提取得到的洗涤液的有机层，通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。通过使用硅胶柱色谱(甲苯和乙醇的混合溶剂)对得到的固体进行精制而得到固体(7.51g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(7.40g)、三氟甲磺酸银(3.19g)、化合物MC9-a(4.59g)、2，6-二甲基吡啶(1.66g)和癸烷(15mL)，在150℃加热搅拌20小时。然后，冷却至室温，加入甲苯，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，使用离子交换水对得到的滤液进行洗涤，得到有机层。通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。使用硅胶柱色谱(二氯甲烷和环己烷的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，用甲苯和甲醇的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC9(1.47g、收率14％)。金属络合物MC9的HPLC面积百分率值为99.4％。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1671.0[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝8.03(Br，6H)，7.17(s，6H)，6.96(s，3H)，6.66(t，3H)，6.51-6.41(m，6H)，6.32(d，3H)，2.76(t，6H)，2.23-1.92(m，21H)，1.76-1.69(m，6H)，1.58(s，3H)，1.53-1.42(m，18H)，1.16(d，9H)，1.01-0.96(m，27H)，0.73(d，9H).
<实施例10>金属络合物MC10的合成
[化学式117]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC9(1.36g)、二氯甲烷(68mL)和N-溴代丁二酰亚胺(1.23g)，在室温搅拌32小时。然后，向其中加入10重量％的亚硫酸钠水溶液(8.71g)，接着，加入离子交换水(70mL)，在室温搅拌30分钟。从得到的反应溶液提取有机层，使用铺上了硅胶的过滤器对得到的有机层进行过滤。通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。使得到的固体溶解于甲苯后，通过添加甲醇使沉淀析出，将得到的沉淀过滤后，通过在50℃真空干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC9TBR(1.47g、收率95％)。金属络合物MC9TBR的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1903.7[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝8.00(Br，6H)，7.20(s，6H)，6.99(s，3H)，6.67(d，3H)，6.36(d，3H)，6.25(d，3H)，2.78(t，6H)，2.06-1.69(m，30H)，1.46-1.41(m，18H)，1.16(d，9H)，1.03-0.94(m，27H)，0.74(d，9H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入金属络合物MC9TBR(1.30g)、化合物MC10-a(0.44g)、甲苯(65mL)和二氯(二-叔丁基(4-二甲基氨基苯基)膦)钯(II)(16mg)，升温至80℃。然后，向其中加入20重量％的四丁基氢氧化铵水溶液(23mL)，在加热回流下搅拌36小时。然后，冷却至室温，加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，用无水硫酸镁干燥后，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，通过对得到的滤液减压浓缩而得到固体。使用硅胶柱色谱(二氯甲烷和环己烷的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，用醋酸乙酯和乙腈的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为黄色固体的金属络合物MC10(0.93g、收率72％)。金属络合物MC10的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝2067.3[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2C12-d2)δ(ppm)＝8.04(Br，6H)，7.30-7.26(m，12H)，7.06-6.98(m，12H)，6.70(s，3H)，6.54(d，3H)，2.82(t，6H)，2.32-1.78(m，27H)，1.59-1.42(m，21H)，1.34(s，27H)，1.20(d，9H)，1.10(d，9H)，1.04-0.98(m，18H)，0.73(d，9H).
<实施例11>金属络合物MC11的合成
[化学式118]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC11-a(140g)和浓盐酸(1.26L)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入亚硝酸钠(50g)，一边将反应容器在冰浴中冷却，一边搅拌30分钟。然后，向其中加入氯化锡(II)(400g)后，在室温搅拌18小时。然后，将得到的反应液减压浓缩，通过使用己烷和***的混合溶剂对得到的残渣进行洗涤而得到固体。向得到的固体中加入叔丁基甲基醚和10％氢氧化钠水溶液，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，加入无水硫酸钠使其干燥后，通过减压浓缩，得到作为白色固体的化合物MC11-b(125g、收率83％)。
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC1-c(80g)、3-溴苯甲酰氯(100g)和氯仿，接着，加入三乙胺(94mL)，在室温搅拌16小时。将得到的反应溶液减压浓缩，向得到的残渣中加入庚烷，得到含有白色固体的溶液。将得到的含有白色固体的溶液过滤后，通过将得到的滤液浓缩，得到化合物MC11-c(90g、收率55％)。
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC11-c(90g)、化合物MC11-b(56g)、三乙胺(100mL)和四氯化碳，在50℃搅拌3天。通过使用硅胶柱色谱(醋酸乙酯和己烷的混合溶剂)对得到的反应混合物进行精制，得到作为白色固体的化合物MC11-d(45g、收率32％)。化合物MC11-d的HPLC面积百分率值为94.8％。通过重复进行该操作，得到必要量的化合物MC11-d。
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC11-d(60g)、化合物MC3-a(55g)、三(二苄叉基丙酮)二钯(0)(980mg)、2-二环己基膦基-2’，6’-二甲氧基联苯(440mg)、甲苯和40重量％四乙基氢氧化铵水溶液(156g)，在加热回流下搅拌18小时。然后，冷却至室温，提取有机层，通过将得到的有机层减压浓缩而得到固体。使用硅胶柱色谱(己烷和醋酸乙酯的混合溶剂)对得到的固体进行精制后，使用甲苯和乙腈的混合溶剂重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为白色固体的化合物MC11-e(85g、收率97％)。化合物MC11-e的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝826.5[M+H]+
1H-NMR(CD2Cl2，300MHz)：δ(ppm)＝8.00(t，1H)，7.96(s，2H)，7.87-7.82(m，3H)，7.68-7.46(m，18H)，7.17(s，1H)，2.71-2.62(m，2H)，2.47(s，6H)，1.42(s，18H)，1.29(d，6H)，1.07(s，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(6.38g)、化合物MC11-e(31.1g)、离子交换水(51mL)和二甘醇二甲醚(151mL)，在加热回流下搅拌36小时。然后，向其中加入甲苯，用离子交换水洗涤。提取得到的洗涤液的有机层，通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。通过使用硅胶柱色谱(甲苯和乙醇的混合溶剂)对得到的固体进行精制而得到固体(28.5g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(0.60g)、乙酰丙酮(0.96g)、碳酸钠(0.34g)和2-乙氧基乙醇(18mL)，在120℃搅拌2小时使沉淀析出。过滤得到的沉淀，通过依次用2-乙氧基乙醇(30mL)、离子交换水(30mL)和甲醇(30mL)进行洗涤而得到固体。使得到的固体溶解于二氯甲烷(5mL)后，使用铺上了硅胶(3g)的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到固体。使用醋酸乙酯对得到的固体进行重结晶后，进一步使用甲苯和乙腈的混合溶剂进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥而得到作为黄色固体的金属络合物MC11(0.40g、收率65％)。金属络合物MC11的HPLC面积百分率值为97.9％。
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝1980.0[M+K]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.78(d，4H)，7.69-7.65(m，10H)，7.53-7.50(m，18H)，7.36-7.30(m，12H)，7.07-7.04(m，4H)，4.71(s，1H)，3.15-3.06(m，2H)，2.86-2.77(m，2H)，2.25(s，12H)，1.46-1.26(m，66H).
<实施例12>金属络合物MC12、MC13和MC14的合成
[化学式119]
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC12-a(90.0g)和二氯甲烷(900mL)。然后，向其中加入三乙基氧鎓四氟硼酸盐的二氯甲烷溶液(1mol/L、525mL)，在室温搅拌38小时。然后，向其中加入碳酸氢钠水溶液(1mol/L、525mL)，在室温搅拌30分钟。提取得到的反应溶液的有机层后，用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，得到有机层。向得到的有机层中加入庚烷(200mL)后，通过减压浓缩二氯甲烷，得到含有白色固体的溶液。将得到的含有白色固体的溶液过滤后，通过将得到的滤液浓缩，得到作为黄色油状物的化合物MC12-b(74.2g、收率65％)。化合物MC12-b的HPLC面积百分率值为98.6％。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝228[M+H]+
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC12-b(33.5g)、苯甲酰氯(52.4g)和氯仿(730mL)，接着，加入三乙胺(52.0mL)，在室温搅拌66小时。将得到的反应溶液减压浓缩，向得到的残渣中加入环戊基甲基醚(600mL)、过滤，得到滤液。将得到的滤液减压浓缩，通过使用硅胶柱色谱(氯仿)将得到的残渣精制，得到作为黄色油状物的化合物MC12-c(88.0g、收率78％)。化合物MC12-c的HPLC面积百分率值为91.3％。
TLC/MS(DART，positive)：m/z＝332[M+H]+
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC4-a(56.8g)和叔丁基甲基醚(570mL)，用冰浴将反应容器冷却至0℃～10℃の范围。然后，向其中加入氢氧化钠水溶液(1mol/L、550mL)，一边用冰浴将反应容器冷却至0℃～10℃の范围，一边搅拌30分钟。提取得到的反应溶液的有机层，得到作为有机层的叔丁基甲基醚。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC12-c(60.0g)和氯仿(1.20L)，将反应容器设置在冰浴中进行冷却。然后，向其中加入上述得到的叔丁基甲基醚溶液。然后，一边用冰浴将反应容器冷却一边搅拌6小时，接着，在室温搅拌100小时，随后，在加热回流下搅拌200小时后，冷却至室温。向得到的反应溶液中加入离子交换水(500mL)，提取有机层，将得到的有机层减压浓缩。用硅胶柱色谱(甲苯)将得到的残渣精制后，使用庚烷进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为白色固体的化合物MC12-d(58.5g、收率66％)。化合物MC12-d的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝538.1[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)：δ(ppm)＝8.06-8.04(m，1H)，7.82-7.79(m，1H)，7.68-7.62(m，2H)，7.53-7.36(m，7H)，2.63-2.49(m，2H)，1.22(d，6H)，1.00(d，6H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC12-d(30.0g)、环戊基甲基醚(1.20L)和[1，1’-二(二苯基膦基)二茂铁](II)二氯化钯(230mg)，升温至40℃。接着，向其中加入己基溴化镁的***溶液(2mol/L、33.4mL)后，在40℃搅拌3小时。然后，向其中加入盐酸水溶液(1mol/L、80mL)，提取有机层。使用离子交换水(300mL)将得到的有机层洗涤3次，用无水硫酸镁干燥后，加入硅胶(30g)过两次，通过将得到的滤液减压浓缩，得到油状物。通过用硅胶柱色谱(己烷和醋酸乙酯的混合溶剂)将得到的油状物精制，得到作为无色油状物的化合物MC12-e(28.5g、收率79％)。化合物MC12-e的HPLC面积百分率值为84％。
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝544.2[M+H]+
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入化合物MC12-e(23.0g)、化合物MC2-a(5.20g)、甲苯(460mL)和二氯(二-叔丁基(4-二甲基氨基苯基)膦)钯(II)(251mg)，升温至80℃。然后向其中加入10重量％的四丁基氢氧化铵水溶液(276mL)，在加热回流下搅拌32小时。然后，冷却至室温，加入甲苯，提取有机层。用离子交换水对得到的有机层进行洗涤，用无水硫酸镁干燥后，使用铺上了硅胶和硅藻土的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到油状物。使用硅胶柱色谱(己烷和醋酸乙酯的混合溶剂)对得到的油状物进行精制后，用乙腈进行重结晶。然后，通过在50℃减压干燥，得到作为白色固体的化合物MC12-f(15.2g、收率79％)。化合物MC12-f的HPLC面积百分率值为99.5％以上。
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝542.4[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.96-7.93(m，1H)，7.63-7.53(m，3H)，7.45-7.27(m，10H)，7.14(s，2H)，2.75(t，2H)，2.46-2.33(m，2H)，1.78-1.68(m，2H)，1.48-1.38(m，6H)，1.12(d，6H)，1.01-0.94(m，9H).
将反应容器内置换为氩气气氛后，加入氯化铱n水合物(3.14g)、化合物MC12-f(10.0g)、离子交换水(25mL)和二甘醇二甲醚(78mL)，在130℃搅拌42小时后，冷却至室温。然后，向其中加入甲苯，用离子交换水进行洗涤，得到有机层。通过对得到的有机层减压浓缩得到固体。通过使用硅胶柱色谱(甲苯和乙醇的混合溶剂)对得到的固体进行精制而得到固体(10.0g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(10.0g)、三氟甲磺酸银(2.94g)和乙腈(250mL)，在加热回流下搅拌2小时。然后，冷却至室温，使用铺上了硅藻土的过滤器过滤，通过将得到的滤液减压浓缩而得到油状物。用氧化铝柱色谱法(乙腈)对得到的油状物进行精制后，通过在室温使用氩气干燥而得到固体(9.94g)。
将另行准备的反应容器内置换为氩气气氛后，加入上述得到的固体(9.0g)、化合物MC12-f(4.54g)、2，6-二甲基吡啶(3.5mL)和十五烷(4.5mL)，在190℃搅拌70小时。然后，冷却至室温，加入二氯甲烷(130mL)，使反应混合物溶剂在二氯甲烷中。然后，向其中加入2-丙烷(30mL)，将二氯甲烷减压浓缩则产生沉淀。将得到的沉淀过滤，得到滤液。通过将得到的滤液减压浓缩而得到油状物。使用硅胶柱色谱(甲苯和己烷的混合溶剂)将得到的油状物进行精制后，进一步通过反相柱色谱法(乙腈和醋酸乙酯的混合溶剂)多次精制，得到金属络合物MC12、金属络合物MC13和金属络合物MC14各自分离的状态。
进一步使用乙腈将得到的金属络合物MC12重结晶，通过在50℃减压干燥而得到黄色固体(70mg、收率0.6％)。金属络合物MC12的HPLC面积百分率值为99.5％以上。进一步使用二氯甲烷、乙腈和甲醇的混合溶剂对得到的金属络合物MC13进行重结晶，通过在50℃减压干燥而得到黄色固体(120mg、收率1.1％)。金属络合物MC13的HPLC面积百分率值为99.5％以上。进一步使用二氯甲烷和乙腈的混合溶剂对得到的金属络合物MC14进行重结晶，通过在50℃减压干燥而得到黄色固体(230mg、收率2.1％)。金属络合物MC14的HPLC面积百分率值为98.7％。
金属络合物MC12
LC-MS(APCI，positive)：m/z＝1815.0[M+H]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝9.19-9.16(m，3H)，7.39-7.26(m，9H)，6.97-6.88(m，15H)，6.72(t，3H)，6.61(t，3H)，6.52(d，3H)，6.44-6.35(m，6H)，6.22(d，3H)，2.54(t，6H)，1.89-1.83(m，3H)，1.60-1.50(m，6H)，1.43-1.34(m，3H)，1.30-1.24(m，18H)，0.86-0.72(m，27H)，0.55(d，9H)，0.47(d，18H).
金属络合物MC13
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝1852.9[M+K]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.96(d，1H)，7.46(t，1H)，7.37(d，1H)，7.29-6.36(m，41H)6.22(d，1H)，2.62(t，2H)，2.53(t，2H)，2.48-2.31(m，4H)，2.21-2.06(m，1H)，1.90-1.74(m，1H)，1.67-1.57(m，2H)，1.37-1.15(m，27H)，1.04(d，3H)，0.96-0.91(m，6H)，0.87-0.73(m，15H)，0.65-0.51(m，12H)，0.35(d，3H)，0.26(d，3H).
金属络合物MC14
LC-MS(ESI，positive)：m/z＝1852.9[M+K]+
1H-NMR(300MHz、CD2Cl2-d2)δ(ppm)＝7.47-7.33(m，4H)，7.28-7.18(m，4H)，7.11-6.78(25H)，6.67-6.51(m，9H)，6.31(d，1H)，6.21(d，2H)，2.63-2.50(m，3H)，2.43-2.37(m，4H)，2.30-2.19(m，1H)，2.18-2.06(m，1H)，2.05-1.97(m，1H)，1.65-1.53(m，2H)，1.42-1.15(m，27H)，1.05-1.01(m，3H)，0.97-0.93(m，3H)，0.87-0.76(m，18H)，0.72-0.64(m，9H)，0.62-0.56(m，6H)，0.43(d，3H).
<合成例1>单体CM1的合成
[化学式120]
单体CM1按照日本特开2010-189630号公报中记载的方法合成。
<合成例2>单体CM2的合成
[化学式121]
单体CM2按照国际公开第2015/008851号中记载的方法合成。
<合成例3>高分子化合物P1的合成
将反应容器内的气体置换为氮气气氛后，加入化合物CM1(1.28g)、化合物CM2(2.18g)和甲苯(55ml)，在80℃加热。然后，向其中加入二[三(2-甲氧基苯基)膦]二氯化钯(2.34mg)和20重量％四乙基氢氧化铵水溶液(9.1g)，在氩气回流下搅拌4小时。然后，向其中加入2-异丙基苯基硼酸(0.0630g)、二[三(2-甲氧基苯基)膦]二氯化钯(2.17mg)和20重量％四乙基氢氧化铵水溶液(9.1g)，在氩气回流下搅拌15.5小时。然后，向其中加入使N，N-二乙基二硫代氨基甲酸钠三水合物(0.72g)溶解在离子交换水(14ml)中而成的溶液，在85℃搅拌5小时。将得到的有机层冷却后，依次用3.6重量％盐酸洗涤2次、用2.5重量％氨水洗涤2次、用离子交换水洗涤5次。向甲醇中滴加得到的有机层后生成沉淀。将得到的沉淀过滤，通过使其干燥而得到固体。使得到的固体溶解在甲苯中，向预先通液了甲苯的硅胶柱和氧化铝柱中通液。将得到的溶液滴加到甲醇中使其生成沉淀、过滤，通过使其干燥而得到高分子化合物P1(2.279g)。高分子化合物P1以聚苯乙烯换算的数均分子量(Mn)和重均分子量(Mw)为：Mn＝7.4×104、Mw＝2.3×105。
以投入原料求出的理论值来计，高分子化合物P1为由各个单体衍生的构成单元以下述表2所示的摩尔比所构成的共聚物。
【表2】
<实施测定例1>发光稳定性的测定
制备使金属络合物MC1和式(H-113)表示的化合物(以下称作“化合物H-113”。)(Luminescence Technology公司制造、T-N4013)以2.0重量％的浓度溶解而成的甲苯溶液(金属络合物MC1∶化合物H-113＝25重量％∶75重量％)。
[化学式122]
按照旋涂法、将上述得到的甲苯溶液以75nm的厚度在玻璃基板上成膜，通过在氮气氛围下(氧浓度10ppm以下、水分浓度10ppm以下)、130℃、加热10分钟而形成有机层。
在蒸镀机内，将形成了有机层的基板减压至1.0×10-4Pa以下后，蒸镀约80nm的铝。蒸镀后，在氮气氛围下(氧浓度10ppm以下、水分浓度10ppm以下)，通过使用玻璃基板进行封装，制作测定试样FL-1。
按照测定试样FL-1的发光亮度变为2130cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-1观测到的发光的发光光谱峰为462nm，色度CIE(x，y)为(0.150，0.224)，为来源于金属络合物MC1的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-1连续发光，测定直至发光亮度相对于测定开始时的发光亮度变为85％的时间(以下称作“LT85”)。结果示于表3。
<实施测定例2>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC2代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-2，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-2的发光亮度，为2290cd/m2。
按照测定试样FL-2的发光亮度变为2290cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-2观测到的发光的发光光谱峰为466nm，色度CIE(x，y)为(0.154，0.251)，为来源于金属络合物MC2的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-2连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例3>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC3代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-3，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-3的发光亮度，为2570cd/m2。
按照测定试样FL-3的发光亮度变为2570cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-3观测到的发光的发光光谱峰为473nm，色度CIE(x，y)为(0.150，0.315)，为来源于金属络合物MC3的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-3连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例4>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC4代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-4，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-4的发光亮度，为2010cd/m2。
按照测定试样FL-4的发光亮度变为2010cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-4观测到的发光的发光光谱峰为455nm，色度CIE(x，y)为(0.149，0.204)，为来源于金属络合物MC4的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-4连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例5>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC5代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-5，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-5的发光亮度，为2280cd/m2。
按照测定试样FL-5的发光亮度变为2280cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-3观测到的发光的发光光谱峰为464nm，色度CIE(x，y)为(0.150，0.253)，为来源于金属络合物MC5的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-5连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例6>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC6代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-6，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-6的发光亮度，为2460cd/m2。
按照测定试样FL-6的发光亮度变为2460cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-6观测到的发光的发光光谱峰为472nm，色度CIE(x，y)为(0.147，0.296)，为来源于金属络合物MC6的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-6连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例7>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC7代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-7，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-7的发光亮度，为2560cd/m2。
按照测定试样FL-7的发光亮度变为2560cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-7观测到的发光的发光光谱峰为474nm，色度CIE(x，y)为(0.150，0.315)，为来源于金属络合物MC7的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-7连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例8>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC8代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-8，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-8的发光亮度，为2480cd/m2。
按照测定试样FL-8的发光亮度变为2480cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-8观测到的发光的发光光谱峰为472nm，色度CIE(x，y)为(0.150，0.300)，为来源于金属络合物MC8的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-8连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例9>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC9代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-9，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-9的发光亮度，为1890cd/m2。
按照测定试样FL-9的发光亮度变为1890cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-9观测到的发光的发光光谱峰为454nm，色度CIE(x，y)为(0.149，0.190)，为来源于金属络合物MC9的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-9连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例10>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC10代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-10，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-10的发光亮度，为2530cd/m2。
按照测定试样FL-10的发光亮度变为2530cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-10观测到的发光的发光光谱峰为473nm，色度CIE(x，y)为(0.149，0.309)，为来源于金属络合物MC10的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-10连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例11>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC12代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-11，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-11的发光亮度，为1950cd/m2。
按照测定试样FL-11的发光亮度变为1950cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-11观测到的发光的发光光谱峰为455nm，色度CIE(x，y)为(0.157，0.199)，为来源于金属络合物MC12的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-11连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例12>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC13代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-12，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-12的发光亮度，为1870cd/m2。
按照测定试样FL-12的发光亮度变为1870cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-12观测到的发光的发光光谱峰为456nm，色度CIE(x，y)为(0.148，0.192)，为来源于金属络合物MC13的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-12连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例13>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC14代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-13，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样FL-13的发光亮度，为1910cd/m2。
按照测定试样FL-13的发光亮度变为1910cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-13观测到的发光的发光光谱峰为455nm，色度CIE(x，y)为(0.148，0.196)，为来源于金属络合物MC14的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-13连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<比较测定例1>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MM1代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样CFL-1，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样CFL-1的发光亮度，为1980cd/m2。
按照测定试样CFL-1的发光亮度变为1980cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样CFL-1观测到的发光的发光光谱峰为461nm，色度CIE(x，y)为(0.146，0.203)，为来源于金属络合物MM1的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样CFL-1连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<比较测定例2>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MM2代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样CFL-2，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样CFL-2的发光亮度，为2490cd/m2。
按照测定试样CFL-2的发光亮度变为2490cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样CFL-2观测到的发光的发光光谱峰为474nm，色度CIE(x，y)为(0.149，0.299)，为来源于金属络合物MM2的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样CFL-2连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<比较测定例3>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MM3代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样CFL-3，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-1的发光光子数相同的测定试样CFL-3的发光亮度，为2070cd/m2。
按照测定试样CFL-3的发光亮度变为2070cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样CFL-3观测到的发光的发光光谱峰为455nm，色度CIE(x，y)为(0.153，0.214)，为来源于金属络合物MM3的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样CFL-3连续发光，测定LT85。结果示于表3。
<实施测定例14>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC11代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-14，测定发光稳定性。
按照测定试样FL-14的发光亮度变为430cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-14观测到的发光的发光光谱峰为480nm，色度CIE(x，y)为(0.164，0.300)，为来源于金属络合物MC11的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-14连续发光，测定LT85。结果示于表4。
<比较测定例4>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MM3代替实施测定例1中的金属络合物MC1以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样CFL-4，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-14的发光光子数相同的测定试样CFL-4的发光亮度，为430cd/m2。
按照测定试样CFL-4的发光亮度变为430cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样CFL-4观测到的发光的发光光谱峰为455nm，色度CIE(x，y)为(0.153，0.214)，为来源于金属络合物MM3的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样CFL-4连续发光，测定LT85。结果示于表4。
<实施测定例15>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MC6和高分子化合物P1代替实施测定例1中的金属络合物MC1和化合物H-113以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样FL-15，测定发光稳定性。
按照测定试样FL-15的发光亮度变为2460cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样FL-15观测到的发光的发光光谱峰为472nm，色度CIE(x，y)为(0.143，0.265)，为来源于金属络合物MC6的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样FL-15连续发光，测定LT85。结果示于表5。
<比较测定例5>发光稳定性的测定
除了使用金属络合物MM2和高分子化合物P1代替实施测定例1中的金属络合物MC1和化合物H-113以外，按照与实施测定例1相同的方式制作测定试样CFL-5，测定发光稳定性。
按照上述式(17)，算出变为与测定试样FL-15的发光光子数相同的测定试样CFL-5的发光亮度，为2490cd/m2。
按照测定试样CFL-5的发光亮度变为2490cd/m2的方式调整激发光源的激发光强度。需要说明的是，由测定试样CFL-5观测到的发光的发光光谱峰为474nm，色度CIE(x，y)为(0.147，0.271)，为来源于金属络合物MM2的发光。
然后，保持恒定调整好的激发光强度，使测定试样CFL-5连续发光，测定LT85。结果示于表5。
【表3】
【表4】
【表5】
由上述结果可知，与金属络合物MM1、金属络合物MM2和金属络合物MM3相比，本发明的金属络合物(金属络合物MC1、金属络合物MC2、金属络合物MC3、金属络合物MC4、金属络合物MC5、金属络合物MC6、金属络合物MC7、金属络合物MC8、金属络合物MC9、金属络合物MC10、金属络合物MC11、金属络合物MC12、金属络合物MC13和金属络合物MC14)发光稳定性优异。
【工业实用性】
按照本发明，可提供发光稳定性优异的金属络合物。此外，按照本发明，可以提供含有该金属络合物的组合物和使用该金属络合物所得到的发光元件。本发明的金属络合物发光稳定性优异，因此，使用该金属络合物得到的发光元件亮度寿命优异。

Claims (10)

1.一种下述式(1-c)表示的金属络合物，
式(1-c)中，
M表示铱原子，
n1表示2或3，
n2表示0或1，
n1+n2为3，
R3表示烷基、环烷基或芳基，这些基团具有或不具有取代基，多个存在的R3相同或不同，
R4和R7各自独立地表示氢原子、烷基或芳基，这些基团具有或不具有取代基，R5和R6各自独立地表示氢原子、烷基、环烷基或芳基，这些基团具有或不具有取代基，多个存在的R4、R5、R6和R7彼此相同或不同，
R8和R12表示氢原子，R9和R11表示甲基，R10表示氢原子或烷基，该烷基具有或不具有取代基，多个存在的R10相同或不同，
A1-G1-A2表示下述任一个表示的阴离子性的2齿配体，
式中，＊表示与铱原子键合的部位。
2.根据权利要求1所述的金属络合物，其由下述式(1-e)表示，
式(1-e)中，M、n1、n2、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、R12和A1-G1-A2表示与上述相同的含义，
R13和R17各自独立地表示烷基或芳基，这些基团具有或不具有取代基，R14、R15和R16各自独立地表示氢原子、烷基或芳基，这些基团具有或不具有取代基，多个存在的R13、R14、R15、R16和R17彼此相同或不同。
3.根据权利要求1或2所述的金属络合物，其中，选自所述R3、R5、R6和R15中的至少一个为树枝状。
4.根据权利要求3所述的金属络合物，其中，选自所述R3、R5、R6和R15中的至少一个为下述式(D-A)或(D-B)表示的基团，
式(D-A)中，
mDA1、mDA2和mDA3各自独立地表示0以上的整数，
GDA表示芳香烃基，该芳香烃基具有或不具有取代基，
ArDA1、ArDA2和ArDA3各自独立地表示亚芳基，该亚芳基具有或不具有取代基，存在多个ArDA1、ArDA2和ArDA3的情况下，它们彼此相同或不同，
TDA表示芳基，该芳基具有或不具有取代基，多个存在的TDA相同或不同，
式(D-B)中，
mDA1、mDA2、mDA3、mDA4、mDA5、mDA6和mDA7各自独立地表示0以上的整数，
GDA表示芳香烃基，该芳香烃基具有或不具有取代基，多个存在的GDA相同或不同，
ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6和ArDA7各自独立地表示亚芳基，该亚芳基具有或不具有取代基，存在多个ArDA1、ArDA2、ArDA3、ArDA4、ArDA5、ArDA6和ArDA7的情况下，它们彼此相同或不同，
TDA表示芳基，该芳基具有或不具有取代基，多个存在的TDA相同或不同。
5.根据权利要求4所述的金属络合物，其中，
所述式(D-A)表示的基团为下述式(D-A1)表示的基团，
上述式中，
Rp1和Rp2各自独立地表示烷基、环烷基或卤原子，存在多个Rp1和Rp2的情况下，它们彼此相同或不同，此外，选自多个存在的Rp1中的至少之一为碳数4以上的烷基，
np1表示1～5的整数，np2表示0～3的整数，多个存在的np1相同或不同。
6.根据权利要求1或2所述的金属络合物，其中，所述n1为3。
7.一种组合物，其含有权利要求1～6中的任一项所述的金属络合物和下述式(H-1)表示的化合物，
式(H-1)中，
ArH1和ArH2各自独立地表示芳基或1价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，
nH1和nH2各自独立地表示0或1，存在多个nH1的情况下，它们相同或不同，多个存在的nH2相同或不同，
nH3表示0以上的整数，
LH1表示亚芳基、2价杂环基、或-[C(RH11)2]nH11-所示的基团，这些基团具有或不具有取代基，存在多个LH1的情况下，它们相同或不同，
nH11表示1以上且10以下的整数，RH11表示氢原子、烷基、环烷基、烷氧基、环烷氧基、芳基或1价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，多个存在的RH11相同或不同，任选地彼此键合、与各自键合的碳原子一起形成环，
LH2表示以-N(-LH21-RH21)-所示的基团，存在多个LH2的情况下，它们相同或不同，
LH21表示单键、亚芳基或2价杂环基，这些基团具有或不具有取代基，
RH21表示氢原子、烷基、环烷基、芳基或1价杂环基，这些基团具有或不具有取代基。
8.一种组合物，其含有权利要求1～6中的任一项所述的金属络合物和包含下述式(Y)所示构成单元的高分子化合物，
式(Y)中，
ArY1表示亚芳基、2价杂环基、或者、至少1种亚芳基与至少1种2价杂环基直接键合而成的2价基团，这些基团具有或不具有取代基。
9.一种组合物，其含有权利要求1～6中任一项所述的金属络合物和选自空穴传输材料、空穴注入材料、电子传输材料、电子注入材料、发光材料、抗氧化剂和溶剂中的至少1种材料。
10.一种发光元件，其使用权利要求1～6中的任一项所述的金属络合物得到。
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