CN106370116B - 一种电解质涂层检测方法及*** - Google Patents

一种电解质涂层检测方法及*** Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种电解质涂层检测方法及***，***包括发射源、接收装置、计算模块、检测判断模块和自动调整模块；发射源主要实现向电解质涂层发射X射线或者伽马射线；接收装置实现接收从电解质涂层投射下来的X射线或者伽马射线；涂布机负责对在极片在涂布电解质；计算模块主要是计算出电解质涂层吸收的检测光，从而推算出电解质涂层的厚度；检测判断模块主要是检测判断电解质涂层的厚度，并生成反馈信号反馈给涂布控制结构；自动调整模块主要是根据反馈信号对涂布机的涂布厚度进行动态的调整，保证电解质涂层厚度的均匀性。本发明采用X射线或伽马射线作为发射源进行非接触式实时测量，实现高精度动态检测和闭环控制，大幅度提升产品的一致性。

Description

一种电解质涂层检测方法及***
技术领域
本发明涉及厚度检测技术领域，尤其涉及一种电解质涂层检测方法及***。
背景技术
锂离子电池一般是使用锂合金金属氧化物为正极材料、石墨为负极材料、使用非水电解质溶液的电池。但是，使用液态电解质会带来锂离子电池封装成本高、封装困难和正负极容易短路等问题，本发明采用半固态凝胶电解质解决了这方面的问题。而传统的对液态电解质溶液的常规接触式测量检测方法明显已经不再适用于半固态凝胶电解质涂层厚度的测量检测，因此电解质涂层的检测是一个急需解决的问题。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种电解质涂层检测方法及***，能够解决传统的常规接触式测量检测不能对半固态凝胶电解质涂层厚度进行测量检测的问题。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的：一种电解质涂层检测方法，所述的方法的步骤如下：
S1、发射源发射出A0剂量的检测光；
S2、接收装置接收到A1剂量的检测光；
S3、根据检测光的损耗计算出电解质涂层吸收的检测光为：△A=A0－A1；
S4、根据△A检测判断电解质涂层的厚度；
S5、根据检测的电解质涂层的厚度对涂布控制结构的涂布厚度进行动态调整，实现闭环控制；
S6、达到电解质涂层厚度的要求，完成检测。
所述的S3中的△A与电解质涂层厚度H呈正相关，即：△A=kh＋j，从而得到：H=（△A－j）/k，其中k为厚度变化系数，j为补偿系数。
所述的发射源包括X射线或者伽马射线。
所述的S4中的检测判断的步骤如下：
S41、如果电解质涂层厚度H过厚，将H的变化反馈给涂布控制结构，调整涂布机减小涂布厚度；
S42、如果电解质涂层厚度H过薄，将H的变化反馈给涂布控制结构，调整涂布机增加涂布厚度；
S43、如果电解质涂层厚度H符合要求，则不反馈信号进行涂布。
所述的S5中的闭环控制精度为±2%。
一种电解质涂层检测***，包括发射源、接收装置、计算模块、检测判断模块、涂布机和自动调整模块；所述的发射源主要实现向电解质涂层发射X射线或者伽马射线；
所述的涂布机负责对在极片在涂布电解质；
所述的接收装置实现接收从电解质涂层投射下来的X射线或者伽马射线；
所述的计算模块主要是计算出电解质涂层吸收的检测光，从而推算出电解质涂层的厚度；
所述的检测判断模块主要是检测判断电解质涂层的厚度，并生成反馈信号反馈给涂布控制结构；
所述的自动调整模块主要是根据反馈信号对涂布机的涂布厚度进行动态的调整，保证电解质涂层厚度的均匀性。
本发明的有益效果是：一种电解质涂层检测方法及***，能够采用X射线或者伽马射线作为发射源进行非接触式实时测量，实现高精度动态检测和闭环控制，大幅度提升了产品的一致性。
附图说明
图1为△A与H之间的关系图；
图2为***流程图。
具体实施方式
下面结合附图进一步详细描述本发明的技术方案，但本发明的保护范围不局限于以下所述。
一种电解质涂层检测方法，所述的方法的步骤如下：
S1、发射源发射出A0剂量的检测光；
S2、接收装置接收到A1剂量的检测光；
S3、根据检测光的损耗计算出电解质涂层吸收的检测光为：△A=A0－A1；
S4、根据△A检测判断电解质涂层的厚度；
S5、根据检测的电解质涂层的厚度对涂布控制结构的涂布厚度进行动态调整，实现闭环控制；
S6、达到电解质涂层厚度的要求，完成检测。
如图1所示，所述的S3中的△A与电解质涂层厚度H呈正相关，即：△A=kh＋j，从而得到：H=（△A－j）/k，其中k为厚度变化系数，j为补偿系数。
所述的发射源包括X射线或者伽马射线。
所述的S4中的检测判断的步骤如下：
S41、如果电解质涂层厚度H过厚，将H的变化反馈给涂布控制结构，调整涂布机减小涂布厚度；
S42、如果电解质涂层厚度H过薄，将H的变化反馈给涂布控制结构，调整涂布机增加涂布厚度；
S43、如果电解质涂层厚度H符合要求，则不反馈信号进行涂布。
所述的S5中的闭环控制精度为±2%。
如图2所示，一种电解质涂层检测***，包括发射源、接收装置、计算模块、检测判断模块、涂布机和自动调整模块；所述的发射源主要实现向电解质涂层发射X射线或者伽马射线；
所述的涂布机负责对在极片在涂布电解质；
所述的接收装置实现接收从电解质涂层投射下来的X射线或者伽马射线；
所述的计算模块主要是计算出电解质涂层吸收的检测光，从而推算出电解质涂层的厚度；
所述的检测判断模块主要是检测判断电解质涂层的厚度，并生成反馈信号反馈给涂布控制结构；
所述的自动调整模块主要是根据反馈信号对涂布机的涂布厚度进行动态的调整，保证电解质涂层厚度的均匀性。
本发明若极片单面电解质涂层厚度为40微米，极片基材为厚度9微米的铜箔，则极片的总厚度为89微米。闭环控制精度为±2%，则电解质涂层厚度H变化±0.8微米，就会产生反馈信号到涂布控制结构对涂布机进行动态调整。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当理解本发明并非局限于本文所披露的形式，不应看作是对其他实施例的排除，而可用于各种其他组合、修改和环境，并能够在本文所述构想范围内，通过上述教导或相关领域的技术或知识进行改动。而本领域人员所进行的改动和变化不脱离本发明的精神和范围，则都应在本发明所附权利要求的保护范围内。

Claims (1)

1.一种电解质涂层检测***，其特征在于：包括发射源、接收装置、计算模块、检测判断模块、涂布机和自动调整模块；所述的发射源主要实现向电解质涂层发射X射线或者伽马射线；
所述的涂布机负责对极片涂布电解质；
所述的接收装置实现接收从电解质涂层投射下来的X射线或者伽马射线；
所述的计算模块主要是计算出电解质涂层吸收的检测光，从而推算出电解质涂层的厚度；
所述的检测判断模块主要是检测判断电解质涂层的厚度，并生成反馈信号反馈给涂布控制结构；
所述的自动调整模块主要是根据反馈信号对涂布机的涂布厚度进行动态的调整，保证电解质涂层厚度的均匀性；
所述***对应的电解质涂层检测方法，包括步骤如下：
S1、发射源发射出A 0剂量的检测光；
S2、接收装置接收到A 1剂量的检测光；
S3、根据检测光的损耗计算出电解质涂层吸收的检测光为：△A=A 0－A 1；
S4、根据△A检测判断电解质涂层的厚度；
S5、根据检测的电解质涂层的厚度对涂布控制结构的涂布厚度进行动态调整，实现闭环控制；
S6、达到电解质涂层厚度的要求，完成检测；
所述的S3中的△A与电解质涂层厚度H呈正相关，即：△A=kH ＋j，从而得到：H=（△A－j）/k，其中k为厚度变化系数，j为补偿系数；
所述的发射源包括X 射线或者伽马射线；
所述的S4中的检测判断的步骤如下：
S41、如果电解质涂层厚度H过厚，将H的变化反馈给涂布控制结构，调整涂布机减小涂布厚度；
S42、如果电解质涂层厚度H过薄，将H的变化反馈给涂布控制结构，调整涂布机增加涂布厚度；
S43、如果电解质涂层厚度H符合要求，则不反馈信号进行涂布；
所述的S5中的闭环控制精度为±2%。
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