CN106328557B - 一种用于微纳器件制作过程中样品甩干的新装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，其特征在于，包括用于甩干的铁氟龙装置，所述铁氟龙装置内部设置有凹槽，边缘设置有齿状的圆盘形铁氟龙。本发明专利的这一整套铁氟龙装置及这一整套工艺流程操作简便、廉价实用、适用于各种尺寸及各种类型的样品。

Description

一种用于微纳器件制作过程中样品甩干的新装置
技术领域
本发明专利涉及一整套样品处理铁氟龙装置，更具体的说，涉及一整套用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置。
背景技术
当前，单晶硅、碳化硅、含氧化层基板、玻璃基板及陶瓷基板的微加工制作工艺中，所有与基板接触的外部媒介都是基板上杂质的可能来源。这主要包括以下几个方面：基板在加工成型过程中的污染、环境污染、水造成的污染、试剂带来的污染、工业气体造成的污染、工艺本身造成的污染、人体造成的污染等。半导体器件生产中，基板必须经严格清洗，否则其沾有的微量污染也会导致器件失效。清洗的目的在于清除基板表面的污染杂质，包括金属、有机物和无机物等。这些杂质有的以原子状态或离子状态存在，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于基板表面。微纳器件的制作是以清洗并得到干净的基板为起点的，基板清洗是半导体器件制造中最重要最频繁的步骤，而且其效率将直接影响到器件的成品率、性能和可靠性，这就对清洗工艺的高效性和可靠性提出了很高的要求。
发明内容
本发明要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述基本加工过程中的各种污染缺陷，提供一种高效可靠的获取洁净样品，从而缩短器件制作周期的用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，包括用于甩干的铁氟龙装置，所述铁氟龙装置内部设置有凹槽，边缘设置有齿状的圆盘形铁氟龙。
按上述方案，所述铁氟龙装置上部为呈镂空齿状边缘的铁氟龙载物台，下部为DC-35L-1004型马达，参数为230 V，50 Hz。
按上述方案，所述的铁氟龙载物台与马达之间通过螺纹连接。
按上述方案，所述铁氟龙装置转速方便可调。
实施本发明的用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，具有以下有益效果：
1、本发明专利采用了灵活可拆卸的铁氟龙载物台及马达，可以很方便的控制样品；
2、可适用与各种尺寸的样品，整个过程更加高效可靠；
3、使用更加方便、操作性强，为后续的器件制作打下了良好的基础。
附图说明
下面将结合附图及实施例对本发明作进一步说明，附图中：
图1是本发明用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置中的铁氟龙载物台的俯视图；
图2是本发明用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置中的铁氟龙装置的可拆卸马达实物图结构示意图；
图3是本发明用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置中的铁氟龙装置的装配后的实物图。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本发明的具体实施方式。
一种用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，包括用于甩干的铁氟龙装置，所述铁氟龙装置内部设置有凹槽，边缘设置有齿状的圆盘形铁氟龙，铁氟龙装置上部为呈镂空齿状边缘的铁氟龙载物台，下部为DC-35L-1004型马达，参数为230 V，50 Hz；铁氟龙载物台与马达之间通过螺纹连接；铁氟龙装置转速方便可调。
如图1-图3所示，在本发明的用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置的施例中，
1) 已购置好的硅片切成边长2 cm×2 cm的正方形；
2) 将硅片进行清洗操作；
3）将在去离子水中超声清洗后的硅片平放在用于甩干的铁氟龙装置上，利用铁氟龙装置的自旋将基板甩干（可与小型电机装配）。镂空的齿状边缘，既可以卡住基板的边缘，以防止基板在高转速下被甩出，又可以将基板上残留的液体甩出而使基板不沾有液体以便于接下来的烘干操作。
具体实例，但不对本发明专利的权利要求作任何限定，例如碳化硅的清洗及甩干：
实例1，步骤如下：
1) 已购置好的碳化硅切成边长2 cm×2 cm的正方形；
2) 将碳化硅基板进行清洗操作；
3) 将在去离子水中超声清洗后的碳化硅基板平放在用于甩干的铁氟龙装置上，利用铁氟龙装置的自旋将基板甩干。镂空的齿状边缘，既可以卡住基板的边缘，以防止基板在高转速下被甩出，又可以将基板上残留的液体甩出而使基板不沾有液体以便于接下来的烘干操作。
实例2，步骤如下：
1) 已购置好的含氧化层硅基板切成边长1.5 cm×2 cm的正方形；
2) 将硅片进行清洗操作；
3）将在去离子水中超声清洗后的硅片平放在用于甩干的铁氟龙装置上，利用铁氟龙装置的自旋将基板甩干（可与小型电机装配）。镂空的齿状边缘，既可以卡住基板的边缘，以防止基板在高转速下被甩出，又可以将基板上残留的液体甩出而使基板不沾有液体以便于接下来的烘干操作。
实例3，步骤如下：
1) 已购置好的陶瓷基板切成边长1.5 cm×1.5 cm的正方形；
2) 将陶瓷基板进行清洗操作；
3) 将清洗后的陶瓷基板平放在用于甩干的铁氟龙装置上，利用铁氟龙装置的自旋将基板甩干。镂空的齿状边缘，既可以卡住基板的边缘，以防止基板在高转速下被甩出，又可以将基板上残留的液体甩出而使基板不沾有液体以便于接下来的烘干操作。
实例4，步骤如下：
1) 2 cm×2 cm的已进行了紫外光刻的样品，所使用的光刻胶为PR1 9000A，厚度为10m,光刻剂量为400 mJ/cm2；
2) 将用于样品显影和润洗的烧杯及其他装置用去离子水在超声装置中清洗4遍，再将已进行了紫外光刻的样品装载在铁氟龙装置中，并置于该烧杯中；
3) 在用于显影的烧杯中注入适量RD 6显影液（显影液没过基板少许），持续浸泡50秒，在浸泡过程中可控制该铁氟龙装置的提杆可使装置上下左右晃动，从而可使样品与试剂充分接触，然后将显影液倒入回收瓶；
4) 在用于润洗的烧杯中注入适量去离子水，持续浸泡30秒，在浸泡过程中可控制该铁氟龙装置的提杆可使装置上下左右晃动，从而可使样品与去离子水充分接触，然后将去离子水倒入回收瓶；
5) 将上述各烧杯用去离子水在超声装置中清洗4遍；
6) 将样品平放在用于甩干的铁氟龙装置上，利用铁氟龙装置的自旋将样品甩干。镂空的齿状边缘，既可以卡住基板的边缘，以防止基板在高转速下被甩出，又可以将基板上残留的液体甩出而使基板不沾有液体以便于接下来的烘干操作。
上面结合附图对本发明的实施例进行了描述，但是本发明并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本发明的启示下，在不脱离本发明宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，这些均属于本发明的保护之内。

Claims (3)

1.一种用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，其特征在于，包括用于甩干的铁氟龙装置，所述铁氟龙装置内部设置有凹槽，边缘设置有齿状的圆盘形铁氟龙，所述铁氟龙装置上部为呈镂空齿状边缘的铁氟龙载物台，下部DC-35L-1004型马达，参数为230V，50Hz。
2.根据权利要求1所述的用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，其特征在于，所述的铁氟龙载物台与马达之间通过螺纹连接。
3.根据权利要求1所述的用于微纳器件制作过程中样品甩干的装置，其特征在于，所述铁氟龙装置转速可调。
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CN103008309A (zh) * 2011-09-23 2013-04-03 南亚科技股份有限公司 晶片洗涤器和晶片清洗方法
CN203170629U (zh) * 2013-04-09 2013-09-04 湖南省康普通信技术有限责任公司 光分路器芯片夹具
CN104752282A (zh) * 2015-02-27 2015-07-01 武汉理工大学 一种用于微纳器件制作的样品处理装置及处理工艺

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