CN106304667A - 一种轮廓蚀刻方法及装置 - Google Patents
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Abstract
本发明实施例公开一种轮廓蚀刻方法及装置，该方法中，根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和光圈半径，计算轮廓掩膜。其中，所述轮廓掩膜在各轮廓段的补偿蚀刻量均相同，这种情况下，即使在拐角处得到的蚀刻量，也和在轮廓的其他部位得到的蚀刻量是完全相同的，因此，若待蚀刻图形中的拐角为圆角，在蚀刻后仍为圆角，而不会变成尖角。并且，该方法通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将经过蚀刻补偿的所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，能够去除多余的轮廓段。因此，通过本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法，能够使蚀刻结果与期望蚀刻结果相同，从而解决现有技术中存在的蚀刻结果与期望蚀刻结果不同的问题。
Description
技术领域
本发明实施例涉及工业制造技术领域，尤其涉及一种轮廓蚀刻方法及装置。
背景技术
蚀刻，指的是一种将材料使用化学反应移除的技术。目前，在制作PCB线路板时，通常会采用蚀刻技术。
在根据蚀刻技术制作PCB线路板时，需要根据蚀刻资料中包含的设计尺寸进行蚀刻。但是由于蚀刻工艺本身的原因，线路板图形中往往存在过蚀刻的问题，从而导致线路板图形的尺寸不符合设计尺寸。例如，在蚀刻线路板的外轮廓时，过蚀刻会导致实际得到的外轮廓尺寸小于设计尺寸。这种情况下，工作人员通常会根据以往蚀刻的经验对过蚀刻量进行估计，得到一个过蚀刻量的经验值(即经验蚀刻量)，根据所述经验蚀刻量修改蚀刻资料中的设计尺寸，并利用修改后的蚀刻资料建立一个检测基准模型。然后，采集实际蚀刻的PCB板的图像并提取轮廓，将实际蚀刻的PCB板的轮廓与所述检测基准模型中包含的轮廓进行比对，根据比对结果判断实际蚀刻的PCB板中的轮廓是否存在缺陷，从而实现对实际蚀刻的PCB板的检测。
另外，若直接根据修改后的蚀刻资料创建检测基准模型，则检测基准模型中的轮廓会比实际蚀刻的PCB的轮廓增加一个蚀刻补偿量(例如，检测基准模型中蚀刻的直线宽了一个蚀刻补偿量，圆形焊盘的半径大了一个蚀刻补偿量等)，因此，在创建检测基准模型时需要进行模拟蚀刻，以使所述检测基准模型中的轮廓更接近实际蚀刻的PCB板的轮廓。目前，模拟蚀刻主要采用以下几种方法：(1)对于直线型轮廓段，沿梯度方向平移一个经验蚀刻量；(2)对于圆弧段轮廓段，圆心不变，沿梯度方向增大或减少一个经验蚀刻量；(3)对于整圆轮廓，若该圆外轮廓的半径小于经验蚀刻量，则不再蚀刻，若该圆外轮廓的半径大于所述经验蚀刻量，则圆心不变，半径增大或减少一个经验蚀刻量；(4)若轮廓中存在交点，则将经过(1)(2)和(3)的操作后得到的轮廓段作为新轮廓段，并计算各个新轮廓段的交点，取其中合适的交点作为新的交点。
但是，发明人在采用上述现有技术提供的方法进行模拟蚀刻后发现，其蚀刻结果往往与期望蚀刻结果不同。该缺陷通常由以下原因导致：(1)待蚀刻的轮廓中若存在拐角，在拐角处得到的蚀刻结果往往与期望蚀刻结果不同。例如，参见图1所示的示意图，其中，工作人员的期望蚀刻结果包括两条线段，并且两条线段之间通过一条圆弧段实现连接，形成圆角。采用现有技术进行模拟蚀刻后，两条线段经过蚀刻补偿后，对应的新轮廓段平移了一个经验蚀刻量，并且，由于将新轮廓段的交点作为蚀刻后的交点，因此，在实际蚀刻结果中新轮廓段之间形成尖角，而期望蚀刻结果为圆角，与期望蚀刻结果相比二者不同；(2)如果两个待蚀刻的轮廓之间存在重叠区域，在蚀刻之后，重叠区域中往往包含多余的蚀刻轮廓，从而导致实际蚀刻结果与期望蚀刻结果不同。例如，参见图2所示的示意图，其中，图2(a)为未进行蚀刻补偿的轮廓示意图，该图中包含两个整圆，在经过蚀刻补偿后，这两个整圆的圆心不变，半径增大一个经验蚀刻量后，会出现重叠区域，按照现有技术进行蚀刻后，实际蚀刻结果如图2(b)所示，其中重叠区域中包含蚀刻补偿后的新轮廓的部分轮廓，而期望蚀刻结果如图2(c)所示，也就是说，实际蚀刻结果与期望蚀刻结果不同。
发明内容
为克服相关技术中存在的问题，本发明实施例提供一种轮廓蚀刻方法及装置。
为了解决上述技术问题，本发明实施例公开了如下技术方案：
根据本发明实施例的第一方面，提供一种轮廓蚀刻方法，包括：
获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆；
根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量；
根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜；
通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓。
优选的，
若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e；
所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：
根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ；
计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(-d/2,-r)，P1(d/2,-r)，P2(d/2,r)，P3(-d/2,r)，P4(-d/2,0)和P5(d/2,0)；
构建有向线段以P5为圆心的有向圆弧有向线段和以P4为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线；
以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
优选的，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆，所述轮廓段的尺寸参数为圆的半径R1和圆心O2(xa,ya)；
所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：
若r＜R1，获取一个以所述圆心O2为中心的环形，其中，所述环形的边界分别为以(R1+r)为半径的圆形外轮廓和以(R1-r)为半径的圆形内轮廓，所述环形即为所述轮廓掩膜。
优选的，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，所述轮廓段的尺寸参数为圆弧段的起始角度α1和终止角度α2，半径R2和圆心O3(xc,yc)；
所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：
若r＜R2，并且|α1-α2|＜2π，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第二类型标定点，其中，所述起点为：Pc1(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点为：Pc2(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第二类型标定点分别为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
构建以O3为圆心的有向圆弧以Pc1为圆心的有向圆弧以O3为圆心的有向圆弧以Pc2为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线，其中，所述封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
若r＝R2，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第三类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第三类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段和有向线段组成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及构建以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
若r＞R2，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第四类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第四类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧和有向线段构成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
优选的，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述蚀刻掩膜。
优选的，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的差运算。
优选的，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，获取外轮廓并运算结果，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的并运算，获取内轮廓并运算结果；
将所述外轮廓并运算结果与所述内轮廓并运算结果进行图形布尔的差运算。
优选的，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述轮廓掩膜进行图形布尔的并运算，获取轮廓掩膜并运算结果；
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜并运算结果进行图形布尔的差运算。
根据本发明实施例的第二方面，提供一种轮廓蚀刻装置，包括：
轮廓类型获取模块，用于获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆；
光圈半径获取模块，用于根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量；
轮廓掩膜计算模块，用于根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜；
图形运算模块，用于通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓。
优选的，
若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e；
所述轮廓掩膜计算模块包括：
第一参数计算单元，用于根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ；
第一类型标定点计算单元，用于计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(-d/2,-r)，P1(d/2,-r)，P2(d/2,r)，P3(-d/2,r)，P4(-d/2,0)和P5(d/2,0)；
第一封闭曲线构建单元，用于构建有向线段以P5为圆心的有向圆弧有向线段和以P4为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线；
第一轮廓掩膜获取单元，用于以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
优选的，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆，所述轮廓段的尺寸参数为圆的半径R1和圆心O2(xa,ya)；
所述轮廓掩膜计算模块包括：
第二轮廓掩膜获取单元，若r＜R1，获取一个以所述圆心O2为中心的环形，其中，所述环形的边界分别为以(R1+r)为半径的圆形外轮廓和以(R1-r)为半径的圆形内轮廓，所述环形即为所述轮廓掩膜。
优选的，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，所述轮廓段的尺寸参数为圆弧段的起始角度α1和终止角度α2，半径R2和圆心O3(xc,yc)；
所述轮廓掩膜计算模块包括：
第二参数计算单元，若r＜R2，并且|α1-α2|＜2π，所述第二参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第二类型标定点，其中，所述起点为：Pc1(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点为：Pc2(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第二类型标定点分别为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第三轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3为圆心的有向圆弧以Pc1为圆心的有向圆弧以O3为圆心的有向圆弧以Pc2为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线，其中，所述封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
第三参数计算单元，若r＝R2，所述第三参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第三类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第三类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第四轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段和有向线段组成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及构建以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
第四参数计算单元，若r＞R2，所述第四参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第四类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第四类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第五轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧和有向线段构成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
优选的，所述图形运算模块包括：
第一运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述蚀刻掩膜。
优选的，所述图形运算模块包括：
第二运算单元，用于对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
第三运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
第四运算单元，用于对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的差运算。
优选的，所述图形运算模块包括：
第五运算单元，用于对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
第六运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
第六运算单元，用于对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，获取外轮廓并运算结果，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的并运算，获取内轮廓并运算结果；
第七运算单元，用于将所述外轮廓并运算结果与所述内轮廓并运算结果进行图形布尔的差运算。
优选的，所述图形运算模块包括：
第八运算单元，用于对所述轮廓掩膜进行图形布尔的并运算，获取轮廓掩膜并运算结果；
第九运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜并运算结果进行图形布尔的差运算。
本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
本发明实施例公开一种轮廓蚀刻方法及装置，该方法中，根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和光圈半径，计算轮廓掩膜。其中，所述轮廓掩膜在各轮廓段的补偿蚀刻量均相同，这种情况下，即使在拐角处得到的蚀刻量，也和在轮廓的其他部位得到的蚀刻量是完全相同的，因此，若待蚀刻图形中的拐角为圆角，在蚀刻后仍为圆角，而不会变成尖角。并且，该方法通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将经过蚀刻补偿的所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，能够去除多余的轮廓段。因此，通过本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法，能够使蚀刻结果与期望蚀刻结果相同，从而解决现有技术中存在的蚀刻结果与期望蚀刻结果不同的问题。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本发明。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本发明的实施例，并与说明书一起用于解释本发明的原理。
图1是根据现有技术进行模拟蚀刻后的轮廓示意图；
图2(a)是未进行蚀刻补偿的轮廓示意图；
图2(b)是根据现有技术进行模拟蚀刻后的轮廓示意图；
图2(c)是期望蚀刻的轮廓示意图；
图3是根据本发明一示例性实施例示出的一种轮廓蚀刻方法的工作流程示意图；
图4是根据本发明一示例性实施例示出的一种轮廓蚀刻方法进行模拟蚀刻后，获取的直线段的轮廓掩膜的示意图；
图5是根据本发明一示例性实施例示出的一种轮廓蚀刻方法进行模拟蚀刻后，获取的圆的轮廓掩膜的示意图；
图6是根据本发明一示例性实施例示出的一种轮廓蚀刻方法进行模拟蚀刻后，获取的圆弧段的轮廓掩膜的示意图；
图7是根据本发明一示例性实施例示出的一种轮廓蚀刻装置的结构示意图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本发明相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本发明的一些方面相一致的装置和方法的例子。
本发明实施例提供一种轮廓蚀刻方法及装置，以解决利用现有技术进行模拟蚀刻所存在的蚀刻结果与期望蚀刻结果不同的问题。
本发明的第一实施例公开一种轮廓蚀刻方法。参见图3所示的工作流程示意图，该方法包括：
步骤S11、获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆。
待蚀刻图形往往由一种或多种类型的轮廓段构成，因此，在本发明实施例中，需要划分各轮廓段的轮廓类型。
步骤S12、根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量。
本发明实施例中，通常预先存储各个尺寸参数与经验蚀刻量之间的对应关系，这种情况下，在获取所述轮廓段的尺寸参数后，查找该对应关系即可获取本次的经验蚀刻量。另外，还可以由工作人员根据所述轮廓段的尺寸参数设置本次所需的经验蚀刻量。
另外，在本发明实施例中，通过蚀刻光圈对所述待蚀刻图形进行模拟的蚀刻处理，其中，所述蚀刻光圈的半径r即为所述经验蚀刻量。
步骤S13、根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜。
利用一个半径等于经验蚀刻量的蚀刻光圈，沿着待蚀刻图形的轮廓边缘移动，当它回到起点时，该轮廓的边缘就被削掉一圈，从而达到蚀刻效果。其中，轮廓掩膜即为所述蚀刻光圈所移动的路线。
步骤S14、通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓。
在获取所述待蚀刻轮廓后，沿着所述待蚀刻轮廓进行模拟的蚀刻，即可获取蚀刻结果。
本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法中，根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和光圈半径，计算轮廓掩膜。其中，所述轮廓掩膜在各轮廓段的补偿蚀刻量均相同，这种情况下，即使在拐角处得到的蚀刻量，也和在轮廓的其他部位得到的蚀刻量是完全相同的，因此，若待蚀刻图形中的拐角为圆角，在蚀刻后仍为圆角，而不会变成尖角。并且，该方法通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将经过蚀刻补偿的所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，能够去除多余的轮廓段。因此，通过本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法，能够使蚀刻结果与期望蚀刻结果相同，从而解决现有技术中存在的蚀刻结果与期望蚀刻结果不同的问题。
另外，轮廓类型不同，其对应的尺寸参数不同。
其中，若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e。这种情况下，所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括以下步骤：
第一步，根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ。
第二步，计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(-d/2,-r)，P1(d/2,-r)，P2(d/2,r)，P3(-d/2,r)，P4(-d/2,0)和P5(d/2,0)。
第三步，构建有向线段以P5为圆心的有向圆弧有向线段和以P4为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线。
第四步，以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，通过上述步骤即可获取相应的轮廓掩膜。参见图4所示的四条直线段的轮廓掩膜的示意图，该轮廓掩膜的两个端点是以起点为圆心、以蚀刻光圈的半径为半径的半圆，中间部分是分别以轮廓段的尺寸参数中的起点和终点作为起止点、以蚀刻光圈的半径为宽度的直线段。
另外，若所述轮廓段的轮廓类型为圆，所述轮廓段的尺寸参数为圆的半径R1和圆心O2(xa,ya)。这种情况下，所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括以下步骤：
若r＜R1，参见图5所示的示意图，则获取一个以所述圆心O2为中心的环形，其中，所述环形的边界分别为以(R1+r)为半径的圆形外轮廓和以(R1-r)为半径的圆形内轮廓，所述环形即为所述轮廓掩膜。
若r≥R1，则无需获取该轮廓段的轮廓掩膜。
另外，若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，所述轮廓段的尺寸参数为圆弧段的起始角度α1和终止角度α2，半径R2和圆心O3(xc,yc)。
这种情况下，若r＜R2，并且|α1-α2|＜2π，所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括以下步骤：
首先，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第二类型标定点，其中，所述起点为：Pc1(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点为：Pc2(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第二类型标定点分别为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
然后，构建以O3为圆心的有向圆弧以Pc1为圆心的有向圆弧以O3为圆心的有向圆弧以Pc2为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线，其中，所述封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
若r＝R2，所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括以下步骤：
首先，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第三类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第三类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
然后，构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段和有向线段组成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及构建以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
若r＞R2，所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括以下步骤：
首先，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第四类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第四类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
然后，构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧和有向线段构成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，通过上述步骤即可获取相应的轮廓掩膜。参见图6所示的两条圆弧段的轮廓掩膜的示意图，该轮廓掩膜的两个端点分别是以起点以圆心、以蚀刻光圈的半径为半径的半圆，另外，该轮廓掩膜的中间部分为分别以根据尺寸参数计算得到的起点和终点作为起止点、以蚀刻光圈的半径为宽度的圆弧段。
进一步的，为了去除多余的轮廓段，本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法中，包括对各轮廓段与轮廓掩膜进行图形布尔运算的操作，以便将经过蚀刻补偿的所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并。
图形布尔运算指的是对平面上的两个图形进行几何运算，以得到新的图形，这种几何运算将图形作为被运算的对象。其中，图形布尔运算包括两个图形的交、并和差等类型的运算。假设进行图形布尔运算的两个图形分别为A和B，图形布尔运算主要分为以下几种：(1)C＝A∪B，或C＝A+B，该运算表示C是A和B的“并”集，用于实现A和B两个图形的“溶合”；(2)C＝A∩B，或C＝A×B，即“交”操作，其运算结果是仅保留A和B两个图形的公共部份；(3)C＝A-B，即执行“差”的运算，其运算结果是实现了B图形对A图形的“切割”；(4)C＝B-A，和上述运算相反，其运算结果是B与A的重合部分被A切割掉。
本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法中可通过多种方法进行图形布尔运算。
在其中一种方法中，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述蚀刻掩膜。
在另一种方法中，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括以下步骤：
首先，对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜。
待蚀刻图形往往由多段轮廓段组成，相应的，会获取多段的蚀刻掩膜。该步骤中，对获取到的多段蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，得到第一蚀刻掩膜。
然后，对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段。
最后，对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的差运算。
在另一种方法中，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括以下步骤：
第一步，对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜。
待蚀刻图形往往由多段轮廓段组成，相应的，会获取多段的蚀刻掩膜。该步骤中，对获取到的多段蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，得到第一蚀刻掩膜。
第二步，对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段。
第三步，对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，获取外轮廓并运算结果，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的并运算，获取内轮廓并运算结果。
第四步，将所述外轮廓并运算结果与所述内轮廓并运算结果进行图形布尔的差运算。
或者，在另一种方法中，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
首先，对所述轮廓掩膜进行图形布尔的并运算，获取轮廓掩膜并运算结果；
然后，对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜并运算结果进行图形布尔的差运算。
通过上述公开的图形布尔运算的方法，能够去除多余轮廓段。
本发明的第二实施例公开一种轮廓蚀刻装置。参见图7所示的结构示意图，所述轮廓蚀刻装置包括：轮廓类型获取模块100、光圈半径获取模块200、轮廓掩膜计算模块300和图形运算模块400。
其中，所述轮廓类型获取模块100，用于获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆。
待蚀刻图形往往由一种或多种类型的轮廓段构成，因此，在本发明实施例中，需要划分各轮廓段的轮廓类型。
所述光圈半径获取模块200，用于根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量。
本发明实施例中，通常预先存储各个尺寸参数与经验蚀刻量之间的对应关系，这种情况下，在获取所述轮廓段的尺寸参数后，查找该对应关系即可获取本次的经验蚀刻量。另外，还可以由工作人员根据所述轮廓段的尺寸参数设置本次所需的经验蚀刻量。
另外，在本发明实施例中，通过蚀刻光圈对所述待蚀刻图形进行模拟的蚀刻处理，其中，所述蚀刻光圈的半径r即为所述经验蚀刻量。
所述轮廓掩膜计算模块300，用于根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜。
利用一个半径等于经验蚀刻量的蚀刻光圈，沿着待蚀刻图形的轮廓边缘移动，当它回到起点时，该轮廓的边缘就被削掉一圈，从而达到蚀刻效果。其中，轮廓掩膜即为所述蚀刻光圈所移动的路线。
所述图形运算模块400，用于通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓。
在获取所述待蚀刻轮廓后，沿着所述待蚀刻轮廓进行模拟的蚀刻，即可获取蚀刻结果。
本发明实施例公开的轮廓蚀刻装置中，根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和光圈半径，计算轮廓掩膜。其中，所述轮廓掩膜在各轮廓段的补偿蚀刻量均相同，这种情况下，即使在拐角处得到的蚀刻量，也和在轮廓的其他部位得到的蚀刻量是完全相同的，因此，若待蚀刻图形中的拐角为圆角，在蚀刻后仍为圆角，而不会变成尖角。并且，该方法通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将经过蚀刻补偿的所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，能够去除多余的轮廓段。因此，通过本发明实施例公开的轮廓蚀刻方法，能够使蚀刻结果与期望蚀刻结果相同，从而解决现有技术中存在的蚀刻结果与期望蚀刻结果不同的问题。
进一步的，若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e；
这种情况下，所述轮廓掩膜计算模块包括：
第一参数计算单元，用于根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ；
第一类型标定点计算单元，用于计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(-d/2,-r)，P1(d/2,-r)，P2(d/2,r)，P3(-d/2,r)，P4(-d/2,0)和P5(d/2,0)；
第一封闭曲线构建单元，用于构建有向线段以P5为圆心的有向圆弧有向线段和以P4为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线；
第一轮廓掩膜获取单元，用于以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，通过上述单元，即可获取相应的轮廓掩膜。参见图4所示的四条直线段的轮廓掩膜的示意图，该轮廓掩膜的两个端点是以起点为圆心、以蚀刻光圈的半径为半径的半圆，中间部分是分别以轮廓段的尺寸参数中的起点和终点作为起止点、以蚀刻光圈的半径为宽度的直线段。
进一步的，若所述轮廓段的轮廓类型为圆，所述轮廓段的尺寸参数为圆的半径R1和圆心O2(xa,ya)；
这种情况下，所述轮廓掩膜计算模块包括：
第二轮廓掩膜获取单元，若r＜R1，参见图5所示的示意图，所述第二轮廓掩膜获取单元用于获取一个以所述圆心O2为中心的环形，其中，所述环形的边界分别为以(R1+r)为半径的圆形外轮廓和以(R1-r)为半径的圆形内轮廓，所述环形即为所述轮廓掩膜。
另外，若r≥R1，则无需获取该轮廓段的轮廓掩膜。
进一步的，若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，所述轮廓段的尺寸参数为圆弧段的起始角度α1和终止角度α2，半径R2和圆心O3(xc,yc)；
这种情况下，所述轮廓掩膜计算模块包括：
第二参数计算单元，若r＜R2，并且|α1-α2|＜2π，所述第二参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第二类型标定点，其中，所述起点为：Pc1(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点为：Pc2(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第二类型标定点分别为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第三轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3为圆心的有向圆弧以Pc1为圆心的有向圆弧以O3为圆心的有向圆弧以Pc2为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线，其中，所述封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
第三参数计算单元，若r＝R2，所述第三参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第三类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第三类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第四轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段和有向线段组成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及构建以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
第四参数计算单元，若r＞R2，所述第四参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第四类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第四类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第五轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧和有向线段构成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，通过上述步骤即可获取相应的轮廓掩膜。参见图6所示的两条圆弧段的轮廓掩膜的示意图，该轮廓掩膜的两个端点分别是以起点以圆心、以蚀刻光圈的半径为半径的半圆，另外，该轮廓掩膜的中间部分为分别以根据尺寸参数计算得到的起点和终点作为起止点、以蚀刻光圈的半径为宽度的圆弧段。
进一步的，所述图形运算模块包括：
第一运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述蚀刻掩膜。
进一步的，所述图形运算模块包括：
第二运算单元，用于对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
第三运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
第四运算单元，用于对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的差运算。
进一步的，所述图形运算模块包括：
第五运算单元，用于对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
第六运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
第六运算单元，用于对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，获取外轮廓并运算结果，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的并运算，获取内轮廓并运算结果；
第七运算单元，用于将所述外轮廓并运算结果与所述内轮廓并运算结果进行图形布尔的差运算。
进一步的，所述图形运算模块包括：
第八运算单元，用于对所述轮廓掩膜进行图形布尔的并运算，获取轮廓掩膜并运算结果；
第九运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜并运算结果进行图形布尔的差运算。
为了描述的方便，描述以上装置时以功能分为各种单元分别描述。当然，在实施本发明时可以把各单元的功能在同一个或多个软件和/或硬件中实现。
本说明书中的各个实施例均采用递进的方式描述，各个实施例之间相同相似的部分互相参见即可，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处。尤其，对于装置或***实施例而言，由于其基本相似于方法实施例，所以描述得比较简单，相关之处参见方法实施例的部分说明即可。以上所描述的装置及***实施例仅仅是示意性的，其中所述作为分离部件说明的单元可以是或者也可以不是物理上分开的，作为单元显示的部件可以是或者也可以不是物理单元，即可以位于一个地方，或者也可以分布到多个网络单元上。可以根据实际的需要选择其中的部分或者全部模块来实现本实施例方案的目的。本领域普通技术人员在不付出创造性劳动的情况下，即可以理解并实施。
Claims (16)
1.一种轮廓蚀刻方法，其特征在于，包括：
获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆；
根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量；
根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜；
通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓。
2.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，
若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e；
所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：
根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ；
计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(-d/2,-r)，P1(d/2,-r)，P2(d/2,r)，P3(-d/2,r)，P4(-d/2,0)和P5(d/2,0)；
构建有向线段以P5为圆心的有向圆弧有向线段和以P4为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线；
以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
3.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆，所述轮廓段的尺寸参数为圆的半径R1和圆心O2(xa,ya)；
所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：
若r＜R1，获取一个以所述圆心O2为中心的环形，其中，所述环形的边界分别为以(R1+r)为半径的圆形外轮廓和以(R1-r)为半径的圆形内轮廓，所述环形即为所述轮廓掩膜。
4.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，所述轮廓段的尺寸参数为圆弧段的起始角度α1和终止角度α2，半径R2和圆心O3(xc,yc)；
所述根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜，包括：
若r＜R2，并且|α1-α2|＜2π，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第二类型标定点，其中，所述起点为：Pc1(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点为：Pc2(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第二类型标定点分别为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
构建以O3为圆心的有向圆弧以Pc1为圆心的有向圆弧以O3为圆心的有向圆弧以Pc2为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线，其中，所述封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
若r＝R2，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第三类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第三类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段和有向线段组成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及构建以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
若r＞R2，分别计算所述圆弧段的起点、终点和第四类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第四类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧和有向线段构成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
5.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述蚀刻掩膜。
6.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的差运算。
7.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，获取外轮廓并运算结果，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的并运算，获取内轮廓并运算结果；
将所述外轮廓并运算结果与所述内轮廓并运算结果进行图形布尔的差运算。
8.根据权利要求1所述的轮廓蚀刻方法，其特征在于，所述通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，包括：
对所述轮廓掩膜进行图形布尔的并运算，获取轮廓掩膜并运算结果；
对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜并运算结果进行图形布尔的差运算。
9.一种轮廓蚀刻装置，其特征在于，包括：
轮廓类型获取模块，用于获取待蚀刻图形中包含的各轮廓段的轮廓类型，其中，所述轮廓类型包括：直线段、圆弧段和圆；
光圈半径获取模块，用于根据所述各轮廓段的尺寸参数，获取经验蚀刻量，并确定蚀刻光圈的光圈半径r为所述经验蚀刻量；
轮廓掩膜计算模块，用于根据所述轮廓类型选取所述各轮廓段对应的轮廓掩膜算法，并根据所述轮廓段的尺寸参数、轮廓掩膜算法和所述光圈半径r，计算在所述各轮廓段的补偿蚀刻量均相同的轮廓掩膜；
图形运算模块，用于通过对所述各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔运算，将所述待蚀刻图形中的重叠区域中包含的轮廓段合并，其中，图形布尔运算后得到的结果为待蚀刻轮廓。
10.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，
若所述轮廓段的轮廓类型为直线段，所述轮廓段的尺寸参数为所述直线段的起点s和终点e；
所述轮廓掩膜计算模块包括：
第一参数计算单元，用于根据所述直线段的起点s和终点e，计算所述起点s和终点e之间的欧氏距离d，并计算所述起点s和终点e的中点O1，以及所述直线段与x轴的夹角θ；
第一类型标定点计算单元，用于计算第一类型标定点，其中，所述第一类型标定点为：P0(-d/2,-r)，P1(d/2,-r)，P2(d/2,r)，P3(-d/2,r)，P4(-d/2,0)和P5(d/2,0)；
第一封闭曲线构建单元，用于构建有向线段以P5为圆心的有向圆弧有向线段和以P4为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线；
第一轮廓掩膜获取单元，用于以原点为中心，将所述封闭曲线旋转θ角度，并将旋转后的封闭曲线的中心平移到所述中点O1，平移后的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
11.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆，所述轮廓段的尺寸参数为圆的半径R1和圆心O2(xa,ya)；
所述轮廓掩膜计算模块包括：
第二轮廓掩膜获取单元，若r＜R1，获取一个以所述圆心O2为中心的环形，其中，所述环形的边界分别为以(R1+r)为半径的圆形外轮廓和以(R1-r)为半径的圆形内轮廓，所述环形即为所述轮廓掩膜。
12.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，
若所述轮廓段的轮廓类型为圆弧段，所述轮廓段的尺寸参数为圆弧段的起始角度α1和终止角度α2，半径R2和圆心O3(xc,yc)；
所述轮廓掩膜计算模块包括：
第二参数计算单元，若r＜R2，并且|α1-α2|＜2π，所述第二参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第二类型标定点，其中，所述起点为：Pc1(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点为：Pc2(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第二类型标定点分别为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第三轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3为圆心的有向圆弧以Pc1为圆心的有向圆弧以O3为圆心的有向圆弧以Pc2为圆心的有向圆弧组成的封闭曲线，其中，所述封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
第三参数计算单元，若r＝R2，所述第三参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第三类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第三类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第四轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段和有向线段组成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及构建以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜；
第四参数计算单元，若r＞R2，所述第四参数计算单元用于分别计算所述圆弧段的起点、终点和第四类型标定点，其中，所述起点Pc1为：(xc+R2×cosα1,yc+R2×sinα1)，所述终点Pc2为：(xc+R2×cosα2,yc+R2×sinα2)，所述第四类型标定点为：P1(xc+(R2-r)cosα1,yc+(R2-r)sinα1)、P2(xc+(R2-r)cosα2,yc+(R2-r)sinα2)、P3(xc+(R2+r)cosα1,yc+(R2+r)sinα1)和P4(xc+(R2+r)cosα2,yc+(R2+r)sinα2)；
第五轮廓掩膜获取单元，用于构建以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧有向线段以O3(xc,yc)为圆心的有向圆弧和有向线段构成的封闭图形G1，构建以Pc1为圆心，r为半径的整圆G2，以及以Pc2为圆心，r为半径的整圆G3，并对封闭图形G1、整圆G2和整圆G3进行求并集的图形布尔运算，运算后得到的封闭曲线即为所述轮廓掩膜。
13.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，所述图形运算模块包括：
第一运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述蚀刻掩膜。
14.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，所述图形运算模块包括：
第二运算单元，用于对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
第三运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
第四运算单元，用于对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的差运算。
15.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，所述图形运算模块包括：
第五运算单元，用于对所述蚀刻掩膜进行图形布尔的并运算，将运算结果作为第一蚀刻掩膜；
第六运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述第一蚀刻掩膜进行图形布尔的差运算，从所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段中减去所述第一蚀刻掩膜，获取各第一轮廓段；
第六运算单元，用于对所述各第一轮廓段的外轮廓进行图形布尔的并运算，获取外轮廓并运算结果，并对所述各第一轮廓段的内轮廓进行图形布尔的并运算，获取内轮廓并运算结果；
第七运算单元，用于将所述外轮廓并运算结果与所述内轮廓并运算结果进行图形布尔的差运算。
16.根据权利要求9所述的轮廓蚀刻装置，其特征在于，所述图形运算模块包括：
第八运算单元，用于对所述轮廓掩膜进行图形布尔的并运算，获取轮廓掩膜并运算结果；
第九运算单元，用于对所述待蚀刻图形中包含的各轮廓段与所述轮廓掩膜并运算结果进行图形布尔的差运算。
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