CN106293294B - 一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置，用以提供一种制作触控模组的方法，节省了制作触控检测电极时设置的掩模版，从而减少触控模组的制作成本。所述触控模组的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。

Description

一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及触控技术领域，尤其涉及一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置。
背景技术
自触摸技术兴起以来，其普及度越来越高，依照感应方式的不同，触摸屏大致可以分为电阻式、电容式、红外线式、声波式四类。其中电阻式与电容式目前的市场用量最大，其他技术短期内恐很难赶上。随着人们对触摸的体验认可，电容屏正逐渐取代电阻屏。其中，电容式触摸屏可以分为互容式触摸屏和自容式触摸屏。
在制作自容式触摸屏或者互容式触摸屏时，一般采用掩模版在衬底基板上进行制作，从而增加了触控模组的制作成本。
发明内容
本发明提供一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置，用以提供一种制作触控模组的方法，节省了制作触控检测电极时设置的掩模版，从而减少触控模组的制作成本。
本发明实施例提供了一种触控模组的制作方法，该方法包括：
在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；
以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形，包括：
在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成负性光刻胶层；
以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过曝光、显影形成负性光刻胶完全保留区域和负性光刻胶完全去除区域；
在曝光、显影后的负性光刻胶层上方形成触控检测电极层；
剥离所述负性光刻胶完全保留区域所对应的负性光刻胶和触控检测电极，形成触控检测电极的图形。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，该方法还包括：
在所述触控检测电极的图形上方形成绝缘层；
通过构图工艺将所述连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，使得所述连接部所对应的触控检测电极露出。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，通过构图工艺将所述连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，包括：
在所述连接部所对应的绝缘层上方形成光刻胶层；
通过曝光、显影形成光刻胶完全保留区域和光刻胶完全去除区域，其中，所述光刻胶完全去除区域与所述连接部相对应；
刻蚀所述光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，刻蚀所述光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层之后，该方法还包括：
剥离所述光刻胶完全保留区域所对应的光刻胶。
相应地，本发明实施例还提供了一种触控模组，所述触控模组包括：
衬底基板；
位于衬底基板上的黑矩阵，其中，所述黑矩阵包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元相连的连接部；
以及位于所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧，且与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述触控模组中，所述触控模组还包括：
位于所述触控检测电极所在膜层之上的绝缘层，且所述连接部所对应的触控检测电极露出。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示面板，所述显示面板包括对盒设置的阵列基板和对向基板，以及位于所述对向基板远离所述阵列基板的一侧的，本发明实施例提供的任一种的触控模组。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述显示面板中，所述显示面板还包括依次位于所述触控模组上方的光学胶和盖板。
相应地，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述任一种的显示面板。
本发明有益效果如下：
本发明实施例提供了一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置，所述触控模组的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。因此，本发明实施例提供的触控模组的制作方法，通过在具有黑矩阵图形的衬底基板上制作触控检测电极，且采用具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版进行制作，从而使得制作触控模组时，节省了制作触控检测电极时设置的掩模版，减少了制作触控模组的成本。
附图说明
图1为本发明实施例提供的一种触控模组的制作方法的流程示意图；
图2(a)和图2(b)为本发明实施例提供的黑矩阵的图形的结构示意图；
图3(a)至图3(j)为本发明实施例提供的触控模组的制作方法在每步骤执行后的结构示意图；
图4为本发明实施例提供的一种触控模组的结构示意图；
图5为本发明实施例提供的另一种触控模组的结构示意图；
图6为本发明实施例提供的一种显示面板的结构示意图；
图7为本发明实施例提供的另一种显示面板的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本发明保护的范围。
本发明提供一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置，用以提供一种制作触控模组的方法，节省了制作触控检测电极时设置的掩模版，从而减少触控模组的制作成本。
下面结合附图，对本发明实施例提供的触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置的具体实施方式进行详细地说明。
附图中各膜层的厚度和形状不反映真实比例，目的只是示意说明本发明内容。
参见图1，本发明实施例提供的一种触控模组的制作方法，包括：
S101、在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一黑矩阵单元连接的连接部；
具体地，黑矩阵的图形参见图2(a)或图2(b)所示，其中，黑矩阵12包括多个呈阵列排布的黑矩阵单元121和与黑矩阵单元121连接的连接部122。其中，图2中仅是作为较佳的实施例示意了黑矩阵的图形结构，每一黑矩阵单元的大小和形状不做具体限定。可以将每一黑矩阵单元设计成正方形、长方形等形状，且每一黑矩阵单元的大小可以根据实际制作触控检测电极的大小进行设定。黑矩阵的图形为非连续的非封闭图形。
需要说明的是，每一黑矩阵单元121的大小可以相等，或者各不相同。如图2(a)每一黑矩阵单元的大小相等，如图2(b)每一黑矩阵单元的大小各不相等。在此不作具体限定。
S102、以具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在衬底基板远离黑矩阵的一侧形成与黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。
具体地，触控检测电极的图形与图2(a)或图2(b)所示的黑矩阵的图形相同，且触控检测电极的图形是采用黑矩阵的图形的掩模版进行制作的。因此，本发明实施例中的触控检测电极的图形包括多个呈阵列排布的与黑矩阵单元的图形相同的用于触控的触控检测子电极，由于每一触控检测子电极相互绝缘，因此可以采用自电容的方式进行驱动，实现触控功能。
通过本发明实施例提供的触控模组的制作方法，该方法包括：在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。因此，本发明实施例提供的触控模组的制作方法，通过在具有黑矩阵图形的衬底基板上制作触控检测电极，且采用具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版进行制作，从而使得制作触控模组时，节省了制作触控检测电极时设置的掩模版，减少了制作触控模组的成本。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，步骤S102以具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在衬底基板远离黑矩阵的一侧形成与黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形，包括：在衬底基板远离黑矩阵的一侧形成负性光刻胶层；以具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过曝光、显影形成负性光刻胶完全保留区域和负性光刻胶完全去除区域；在曝光、显影后的负性光刻胶层上方形成触控检测电极层；剥离负性光刻胶完全保留区域所对应的负性光刻胶和触控检测电极，形成触控检测电极的图形。
具体地，在衬底基板原理黑矩阵的一侧形成整层的负性光刻胶层，以具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，在黑矩阵侧进行光照，并通过显影形成负性光刻胶完全保留区域和负性光刻胶完全去除区域，其中，负性光刻胶完全去除区域与黑矩阵相对应；在曝光、显影后的负性光刻胶层上方形成整层的触控检测电极层，可以采用沉积或者镀膜的方式进行形成；剥离衬底基板上的负性光刻胶，同时将位于负性光刻胶上方的触控检测电极层的部分进行剥离，从而使得剩下的触控检测电极层形成了触控检测电极的图形，其中，触控检测电极的图形与黑矩阵的图形相同，具体结构参见图2的黑矩阵的结构。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，形成触控检测电极的图形之后，该方法还包括：在触控检测电极的图形上方形成绝缘层；通过构图工艺将连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，使得连接部所对应的触控检测电极露出。
具体地，在触控检测电极的图形上方形成的绝缘层可以起到保护触控检测电极的作用，绝缘层可以为任何具有绝缘性的材料进行制作，在此不作具体限定。为了将触控检测电极与绑定区域的印制电路板进行电性连接，将连接部所对应的触控检测电极部分进行外露。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，通过构图工艺将连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，包括：在连接部所对应的绝缘层上方形成光刻胶层；通过曝光、显影形成光刻胶完全保留区域和光刻胶完全去除区域，其中，光刻胶完全去除区域与连接部相对应；刻蚀光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层。
具体地，在形成绝缘层的图形时，通过构图工艺将连接部所对应的触控检测电极上方的绝缘层进行刻蚀，使得连接部所对应的触控检测电极进行外露。其中，对绝缘层进行处理的步骤可以采用光刻工艺或者其他工艺，在此不作具体限定。其中，在形成绝缘层的图形，进行曝光时，可以采用曝光机本身的掩模片(Mask Blade)为掩模版进行曝光。因此，在形成绝缘层的图形使得连接部所对应的触控检测电极进行外露的过程中，也无需使用额外的掩模版，进一步减小了制作触控模组的成本。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法中，刻蚀光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层之后，该方法还包括：剥离光刻胶完全保留区域所对应的光刻胶。
在具体实施例中，本发明实施例提供的触控检测电极的材料为铜(Cu)、铝(Al)或纳米银(Ag)中的一种或几种。在此不作具体限定。
下面通过一个具体实施例说明本发明实施例提供的上述触控模组的制作方法，该方法包括：
步骤一、在衬底基板11上形成黑矩阵12的图形，其中，黑矩阵12的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元121和与每一黑矩阵单元相连的连接部122，如图3(a)所示；
其中，黑矩阵的平面图参见图2(a)或图2(b)所示。
步骤二、在衬底基板11远离黑矩阵12的一侧形成负性光刻胶层14，如图3(b)所示；
步骤三、以具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，在黑矩阵侧进行光照，经过显影后形成负性光刻胶完全保留区域141和负性光刻胶完全去除区域142，如图3(c)所示；
步骤四、在图3(c)的负性光刻胶层上方形成触控检测电极层131，如图3(d)所示；
步骤五、剥离负性光刻胶完全保留区域141所对应的负性光刻胶和触控检测电极，形成触控检测电极13的图形，如图3(e)所示；
步骤六、在触控检测电极的图形上方形成绝缘层15，如图3(f)所示；
步骤七、在连接部122所对应的绝缘层上方形成光刻胶层16，如图3(g)所示；
步骤八、通过曝光、显影形成光刻胶完全保留区域161和光刻胶完全去除区域162，其中，光刻胶完全去除区域162与连接部122相对应，如图3(h)所示；
步骤九、刻蚀光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层15，如图3(i)所示；
步骤十、剥离光刻胶完全保留区域161所对应的光刻胶16，如图3(j)所示。
具体地，本发明实施例中的构图工艺可只包括光刻工艺，或，可以包括光刻工艺以及刻蚀步骤，同时还可以包括打印、喷墨等其他用于形成预定图形的工艺；光刻工艺是指包括成膜、曝光、显影等工艺过程的利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。在具体实施时，可根据本发明中所形成的结构选择相应的构图工艺。
综上，本发明实施例提供的触控模组的形成，首先在衬底基板上形成黑矩阵的图形，然后以该黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，在衬底基板远离黑矩阵的一侧形成触控检测电极的图形，且触控检测电极的图形与黑矩阵的图形相同。因此，本发明实施例提供的触控检测电极的形成无需设置额外的掩模版，使得采用0掩模版制作触控检测电极，从而节省了制作成本，优化了制作工艺流程，且触控检测电极的图形与黑矩阵的图形完全重叠，从而避免了触控检测电极影响开口率的问题。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种触控模组，参见图4，包括：衬底基板11；位于衬底基板11上的黑矩阵12，其中，黑矩阵包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元121和与每一黑矩阵单元相连的连接部122；以及位于衬底基板远离黑矩阵的一侧，且与黑矩阵的图形相同的触控检测电极13。其中，黑矩阵的图形参见图2(a)或图2(b)所示，触控检测电极的图形与黑矩阵的图形相同。
具体地，本发明实施例提供的触控检测电极是采用黑矩阵的图形为掩模版进行制作的，因此，触控检测电极的图形与黑矩阵的图形相同。本发明实施例提供的触控模组与上述触控模组制作方法制作的触控模组结构相同。相同之处，在此不再赘述。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述触控模组中，参见图5，触控模组还包括：位于触控检测电极13所在膜层之上的绝缘层15，且连接部122所对应的触控检测电极13露出。
具体地，将连接部所对应的触控检测电极露出，为了更加方便触控检测电极与印制电路板的连接。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种显示面板，参见图6，显示面板包括对盒设置的阵列基板2和对向基板3，以及位于对向基板3远离阵列基板2的一侧的，本发明实施例提供的任一种的触控模组1。
其中，触控模组1的衬底基板11为对向基板3。
在具体实施例中，本发明实施例提供的上述显示面板中，参见图7，显示面板还包括依次位于触控模组1上方的光学胶4和盖板5。
基于同一发明思想，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括本发明实施例提供的上述任一种的显示面板。该显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示和触控功能的产品或部件。该显示装置的实施可以参见上述触控模组的实施例，重复之处不再赘述。
本发明实施例提供了一种触控模组及其制作方法、显示面板和显示装置，所述触控模组的制作方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形。因此，本发明实施例提供的触控模组的制作方法，通过在具有黑矩阵图形的衬底基板上制作触控检测电极，且采用具有黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版进行制作，从而使得制作触控模组时，节省了制作触控检测电极时设置的掩模版，减少了制作触控模组的成本。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (9)

1.一种触控模组的制作方法，其特征在于，该方法包括：
在衬底基板上形成黑矩阵的图形，其中，所述黑矩阵的图形包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元连接的连接部；
以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过构图工艺在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极的图形，包括：
在所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧形成负性光刻胶层；
以具有所述黑矩阵的图形的衬底基板为掩模版，通过曝光、显影形成负性光刻胶完全保留区域和负性光刻胶完全去除区域；
在曝光、显影后的负性光刻胶层上方形成触控检测电极层；
剥离所述负性光刻胶完全保留区域所对应的负性光刻胶和触控检测电极，形成触控检测电极的图形。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，该方法还包括：
在所述触控检测电极的图形上方形成绝缘层；
通过构图工艺将所述连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，使得所述连接部所对应的触控检测电极露出。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，通过构图工艺将所述连接部所对应的绝缘层进行刻蚀，包括：
在所述连接部所对应的绝缘层上方形成光刻胶层；
通过曝光、显影形成光刻胶完全保留区域和光刻胶完全去除区域，其中，所述光刻胶完全去除区域与所述连接部相对应；
刻蚀所述光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，刻蚀所述光刻胶完全去除区域所对应的绝缘层之后，该方法还包括：
剥离所述光刻胶完全保留区域所对应的光刻胶。
5.一种触控模组，其特征在于，所述触控模组包括：
衬底基板；
位于衬底基板上的黑矩阵，其中，所述黑矩阵包括多个呈阵列排布且相互绝缘的黑矩阵单元和与每一所述黑矩阵单元相连的连接部；
以及位于所述衬底基板远离所述黑矩阵的一侧，且与所述黑矩阵的图形相同的触控检测电极。
6.根据权利要求5所述的触控模组，其特征在于，所述触控模组还包括：
位于所述触控检测电极所在膜层之上的绝缘层，且所述连接部所对应的触控检测电极露出。
7.一种显示面板，其特征在于，所述显示面板包括对盒设置的阵列基板和对向基板，以及位于所述对向基板远离所述阵列基板的一侧的，如权利要求5或6所述的触控模组。
8.根据权利要求7所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括依次位于所述触控模组上方的光学胶和盖板。
9.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求7或8所述的显示面板。
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