CN106292173B - 一种选择性调整尺寸图形的添加方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种选择性调整尺寸图形的添加方法,对光掩膜图形进行修正,包括:计算预添加选择性调整尺寸图形的边所在位置的线宽和间距;按照预先设定的选择性调整尺寸图形表格对预添加选择性调整尺寸图形的边进行预先移动;检查预先移动后的图形的边的线宽和间距;判断预先移动后的图形的边所在位置是否违反所设定的设计规则;如果否,则对预先移动后的图形的边按照所述表格添加偏移量,从而得到目标图形;如果是,直接对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形。本发明对预移动后,针对因设计规则限制无法添加偏移量的地方,可以适当添加偏移量,从而减少断裂和桥接的发生。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,具体涉及一种选择性调整尺寸图形的添加方法。
背景技术
在先进光刻工艺中,因曝光图形尺寸的缩小,须对光掩模图形进行预先的光学临近效应修正(Optical Proximity Correction,简称OPC),来弥补由光学***的有限分辨率造成的光学临近效应。
随着特征尺寸的不断减小和图形复杂程度变得越来越高,OPC技术也不断发展以适应图形成像过程中不断出现的问题。在某些关键层上需要通过添加选择性调整尺寸(SSA,selective size adjust)来提高工艺窗口。传统的SSA添加规则是对预添加SSA后的边进行线宽(line)和间距(space)值的判断,来确定是否要添加偏移量(bias),添加限制条件为:如果添加bias,那么添加bias后此处的line和space值不能小于设计规则,否则不添加。
传统的SSA添加方法是通过对预添加SSA后该边所对应的line和space值进行检查,预添加bias后符合设计规则的bias添加,否则不添加。这种方法在预添加SSA后违反设计规则的地方因为无法把bias添加上去,可能会发生断裂或桥接。
发明内容
为了克服以上问题,本发明旨在提供一种选择性调整尺寸的添加方法,对预添加bias后违反设计规则的地方循环后,退掉一定bias直至符合设计规则,降低传统添加方法中的添加或不添加指定bias所带来的工艺风险。
为了达到上述目的,本发明提供了一种选择性调整尺寸图形的添加方法,对光掩膜图形进行修正,其包括:
步骤01:计算预添加选择性调整尺寸图形的边所在位置的线宽和间距;
步骤02:按照预先设定的选择性调整尺寸图形表格对预添加选择性调整尺寸图形的边进行预先移动;
步骤03:检查预先移动后的图形的边的线宽和间距;
步骤04:判断预先移动后的图形的边所在位置是否违反所设定的设计规则;如果否,则对预先移动后的图形的边按照所述表格添加偏移量,从而得到目标图形;如果是,直接执行步骤05;
步骤05:对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形。
优选地,所述步骤05具体包括:
步骤051:对预先移动后的图形的边和相应的未移动前的边进行差值计算,得到一系列的尺寸差值;
步骤052:选取一系列的尺寸差值中的最大值;
步骤053:把该最大值设置为循环移动的初始值;
步骤054:以所设的初始值开始对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则。
优选地,所述最大值为尺寸差值的绝对值的最大值。
优选地,所述步骤02中,所述预先移动为将预添加选择性调整尺寸图形的两边向两侧分别移动。
优选地,所述方法应用于对光掩膜图形的OPC修正。
本发明的采用优化的SSA添加方法,对预添加SSA后,针对因设计规则限制无法添加bias的地方,可以适当添加bias,从而减少断裂和桥接的发生。
附图说明
图1为本发明的一个较佳实施例的SSA添加方法的流程示意图
图2为现有的预移动后不能添加SSA的对比示意图
图3为本发明的一个较佳实施例的预移动后和添加偏移量之后的对比示意图
图4为常规的SSA添加方法得到的模拟图形和本发明的一个较佳实施例的SSA添加方法得到的模拟图形的对比示意图
具体实施方式
为使本发明的内容更加清楚易懂,以下结合说明书附图,对本发明的内容作进一步说明。当然本发明并不局限于该具体实施例,本领域内的技术人员所熟知的一般替换也涵盖在本发明的保护范围内。
以下结合附图1-4和具体实施例对本发明作进一步详细说明。需说明的是,附图均采用非常简化的形式、使用非精准的比例,且仅用以方便、清晰地达到辅助说明本实施例的目的。
请参阅图1,本实施例的选择性调整尺寸图形的添加方法,可以用于对光掩膜图形进行OPC修正,包括:
步骤01:计算预添加选择性调整尺寸图形的边所在位置的线宽和间距;
步骤02:按照预先设定的选择性调整尺寸图形表格对预添加选择性调整尺寸图形的边进行预先移动;
具体的,预先移动可以为将预添加选择性调整尺寸图形的两边向两侧分别移动。
步骤03:检查预先移动后的图形的边的线宽和间距;
步骤04:判断预先移动后的图形的边所在位置是否违反所设定的设计规则;如果否,则对预先移动后的图形的边按照所述表格添加偏移量,从而得到目标图形;如果是,直接执行步骤05:
步骤05:对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形。
具体的,本步骤05具体包括:
步骤051:对预先移动后的图形的边和相应的未移动前的边进行差值计算,得到一系列的尺寸差值;
步骤052:选取一系列的尺寸差值中的最大值;这里,最大值为尺寸差值的绝对值的最大值;
步骤053:把该最大值设置为循环移动的初始值;
步骤054:以所设的初始值开始对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形。
请参阅图2,在常规的SSA添加方法中,图2左边所示,中间图形两边的间距原来为a,采用常规的SSA预移动了偏移量bias1和bias2后,中间图形两边的间距变为b,中间图形的两边预移动后,其两边分别与其上下方图形之间的间距c违反了设计规则,图2右边所示,按照常规的SSA添加方法,对该违反设计规则的边无法添加偏移量。
请参阅图3,在本实施例的SSA添加方法中,图3左边所示,中间图形两边的间距原来为a,采用常规的SSA预移动了偏移量bias1和bias2后,中间图形两边的间距变为b,中间图形的两边预移动后,其两边与其上下方图形之间的间距c违反了设计规则,图3右边所示,按照本实施的SSA添加方法,在中间图形的两边分别向上和向下添加了偏移量bias3和bias4,最后得到的中间图形与上下方图形的间距分别为e,且中间图形的宽度为d,因此,克服了常规SSA添加方法在无法添加偏移量的位置适当添加了偏移量,偏移量bias3并非预移动时指定的偏移量bias1,偏移量bias4并非预移动时指定的偏移量bias2,也即是本实施例的方法在常规方法不能添加偏移量的位置所添加的偏移量与预移动时添加的偏移量不相同。
请参阅图4,f所指的两条边所在图形为常规的SSA添加方法得到的模拟图形,g所指的两条边所在图形为按照本实施例的SSA添加方法得到的模拟图形,g>f,因此,采用本实施例的方法得到的图形,可以减少断裂和桥接的发生。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然所述实施例仅为了便于说明而举例而已,并非用以限定本发明,本领域的技术人员在不脱离本发明精神和范围的前提下可作若干的更动与润饰,本发明所主张的保护范围应以权利要求书所述为准。
Claims (4)
1.一种选择性调整尺寸图形的添加方法,对光掩膜图形进行修正,其特征在于,包括:
步骤01:计算预添加选择性调整尺寸图形的边所在位置的线宽和间距;
步骤02:按照预先设定的选择性调整尺寸图形表格对预添加选择性调整尺寸图形的边进行预先移动;
步骤03:检查预先移动后的图形的边的线宽和间距;
步骤04:判断预先移动后的图形的边所在位置是否违反所设定的设计规则;如果否,则对预先移动后的图形的边按照所述表格添加偏移量,从而得到目标图形;如果是,直接执行步骤05;
步骤05:对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则,从而得到目标图形;具体包括:
步骤051:对预先移动后的图形的边和相应的未移动前的边进行差值计算,得到一系列的尺寸差值;
步骤052:选取一系列的尺寸差值中的最大值;
步骤053:把该最大值设置为循环移动的初始值;
步骤054:以所设的初始值开始对移动后违反设计规则的边进行循环后退,直至符合设计规则。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述最大值为尺寸差值的绝对值的最大值。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述步骤02中,所述预先移动为将预添加选择性调整尺寸图形的两边向两侧分别移动。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法应用于对光掩膜图形的OPC修正。
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