CN105762170B - Amoled显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种AMOLED显示装置及其制造方法，该AMOLED显示装置包括：设有多个像素电极及驱动晶体管的TFT背板；与所述TFT背板面对设置的面板部件，所述面板部件具有显示面及与所述显示面相背对的封装面；位于所述TFT背板与所述面板部件之间的像素定义层，所述像素定义层包括成型在所述TFT背板上的第一像素定义层、以及成型在所述面板部件的所述封装面上的第二像素定义层，所述第二像素定义层与所述第一像素定义层固定连接。上述AMOLED显示装置制造较为简单、良率较高、并且材料成本较低。

Description

AMOLED显示装置及其制造方法

【技术领域】

本发明涉及一种AMOLED(Active-matrix organic light-emitting diode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示装置，特别是涉及一种具有双层像素定义层的AMOLED显示装置及其制造方法。

【背景技术】

请参阅图1，AMOLED(有源矩阵有机发光二极体面板)显示装置10通常会在TFT(Thin Film Transistor，薄膜场效应晶体管)背板11上设置像素定义层13，以绝缘多个像素结构15，例如，像素定义层13开设有多个开口，红、绿、蓝三种像素结构15分别对应设于多个开口中。

由于AMOLED显示装置10的TFT背板11在蒸镀时，容易受到金属掩膜板(shadowmask)摩擦而损伤。并且，在封装或者使用过程中，TFT背板11与封装玻璃板的相对移动摩擦，而导致对像素电极造成的损伤。为此，像素定义层13通常为双层结构，即在第一像素定义层13a上再形成第二像素定义层13b，以充分保护TFT背板11。

目前双层结构的像素定义层13通过两种方式成型：

一是采用单次光刻工艺成型，即部分区域使用半漏光，然而此种方法对光刻要求太高，工艺窗口小，易残留，难度大，良率低；

二是采用两次光刻工艺，然而采用此种方法时，第二次显影的同时会将第一像素定义层13a显影一部分，同时第二像素定义层13b由于深沟道问题容易残留，工艺难度大。

【发明内容】

鉴于上述状况，有必要提供一种工艺简单并且良率高的AMOLED显示装置。

一种AMOLED显示装置，包括：

设有多个像素电极及驱动晶体管的TFT背板；

与所述TFT背板面对设置的面板部件；以及

位于所述TFT背板与所述面板部件之间的像素定义层，所述像素定义层包括成型在所述TFT背板上的第一像素定义层，及成型在所述面板部件上的第二像素定义层，所述第二像素定义层与所述第一像素定义层固定连接。

在其中一个实施例中，所述第一像素定义层与所述第二像素定义层之间采用光学胶固定连接。

在其中一个实施例中，所述第一像素定义层与所述第二像素定义层的材质不同。

在其中一个实施例中，所述第一像素定义层的材质为聚酰亚胺，所述第二像素定义层的材质为亚克力。

在其中一个实施例中，所述面板部件为封装盖板或触摸屏面板。

在其中一个实施例中，所述第一像素定义层设有多个阵列排列的开口，所述第二像素定义层形成有多个阵列排布的隔离凸台，每个所述开口为矩形，并且每个所述开口仅仅其中一对相对侧边设有所述隔离凸台。

一种如权利要求1～6所述的AMOLED显示装置的制造方法，包括如下步骤：

提供一TFT背板及一面板部件；

在所述TFT背板的部件上形成一层第一像素定义层，在所述面板部件上形成一层第二像素定义层；以及

将所述TFT背板与所述面板部件对应封装起来，使所述第一像素定义层与所述第二像素定义层固定连接。

在其中一个实施例中，所述第一像素定义层通过光刻的方式成型，所述第一像素层设有多个阵列排列的开口。

在其中一个实施例中，所述第二像素定义层通过光刻的方式成型，所述第二像素定义层形成有多个阵列排布的隔离凸台。

在其中一个实施例中，在所述TFT背板与所述面板部件通过光学胶封装的同时，所述多个隔离凸台通过所述光学胶与所述第一像素定义层粘结起来。

上述AMOLED显示装置至少具有如下优点：

(1)上述AMOLED显示装置的像素定义层分成第一像素定义层及第二像素定义层，其中，第一像素定义层成型在TFT背板上，第二像素定义层成型在面板部件上，例如，封装盖板或触摸屏面板上，从而便于分开成型，以降低制造难度，提高成型良率。

(2)上述AMOLED显示装置的第二像素定义层直接设于面板部件，无需采用价格较高的聚酰亚胺，以便于采用价格较低的替代材料，例如，亚克力材料等，从而大大降低了成本。

此外，上述AMOLED显示装置的制造方法采用分开成型的方式制作该像素定义层的第一像素定义层及第二像素定义层，从而降低了AMOLED显示装置的制造方法的难度，提高了AMOLED显示装置的良率。并且，将第二像素定义层的隔离凸台成型在面板部件上，以便于采用比聚酰亚胺成本较低的材料，从而降低了AMOLED显示装置的制造成本。

【附图说明】

图1为现有的AMOLED显示装置的结构示意图；

图2为本发明AMOLED显示装置封装前的结构示意图；

图3为本发明AMOLED显示装置封装后的结构示意图。

【具体实施方式】

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。相反，当元件被称作“直接在”另一元件“上”时，不存在中间元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图2，本发明的AMOLED显示装置100，包括TFT背板110、面板部件120及像素定义层130。

TFT背板110设有多个像素电极111及驱动晶体管(图未示)。例如，在其中一个实施例中，TFT背板110上设有多个像素区域和非像素区域，非像素区域是与多个像素区域中的相邻的两个像素区域之间对应的区域。具体地，TFT背板110包括基板113、多个像素电极111、多个驱动部(图未示)、栅极绝缘膜(图未示)、层间绝缘膜(图未示)、绝缘性覆盖膜(图未示)、有机发光层(图未示)以及共同电极(图未示)。

在本实施例中，多个驱动部以第一驱动部、第二驱动部为例进行说明，多个像素电极111以第一像素电极、第二像素电极为例进行说明。

第一驱动部以及第二驱动部布置在基板113之上。第一驱动部包括与第一像素电极电连接而对向第一像素电极侧提供的电源信号进行开闭的第一驱动晶体管，第二驱动部包括与第二像素电极电连接而对向第二像素电极侧提供的电源信号进行开闭的第二驱动晶体管。第一驱动晶体管以及第二驱动晶体管具有相同的构成和功能。

第一驱动晶体管包括栅极、有源图案、源极以及漏极。源极与电源线电连接，该电源线对应于非像素区域而布置以传送电源信号，漏极与第一像素电极电连接。因此，第一驱动晶体管被接通时，电源信号可从电源线通过第一驱动晶体管提供至第一像素电极侧。

栅极绝缘膜覆盖有源图案，使得栅极和有源图案相互绝缘，层间绝缘膜覆盖第一驱动晶体管的栅极，以使源极和漏极与栅极形成绝缘。

绝缘性覆盖膜具备绝缘性，并覆盖第一驱动晶体管和第二驱动晶体管。绝缘性覆盖膜可以是有机膜，且绝缘性覆盖膜可以以足够的厚度提供，以使其上部表面能够变得平坦。并且，绝缘性覆盖膜形成有第一通孔和第二通孔。据此，第一驱动晶体管的漏极可通过第一通孔电连接于第一像素电极，第二驱动晶体管的漏极可通过第二通孔电连接于第二像素电极。

第一像素电极和第二像素电极布置于绝缘性覆盖膜之上。第一像素电极对应于第一像素区域而布置，第二像素电极对应于第二像素区域而布置。据此，第一像素电极和第二像素电极在中间隔着非像素区域而相互之间隔开。

同理，第三像素电极对应于第三像素区域而布置在绝缘性覆盖膜之上。第三像素电极中间隔着非像素区域而与第一像素电极分隔。即，与多个像素区域一对一对应地布置的多个像素电极111中，相邻的两个像素电极111中间隔着非像素区域而相互之间隔开。

如此，有机发光层可以布置于所述多个像素电极111上。共同电极可以布置于所述有机发光层上。

请参阅图2和图3，面板部件120与TFT背板110面对设置，面板部件120具有显示面及与显示面相背对的封装面。在其中一个实施例中，面板部件120可以为封装盖板，例如，玻璃盖板、树脂盖板等。当然，在另外一个实施例中，面板部件120也可以为触摸屏面板，例如，电容屏面板、电阻屏面板等等。

像素定义层130位于TFT背板110与面板部件120之间。像素定义层130包括成型在TFT背板110上的第一像素定义层131、以及成型在面板部件120上的第二像素定义层133。第一像素定义层131上设有多个呈阵列排列的开口，并且每个开口用于暴露出一个像素电极111。例如，在其中一个实施例中，第一像素定义层131布置在TFT背板110的绝缘性覆盖膜之上。第一像素定义层131对应于第一像素区域和第二像素区域而形成有开口。据此，随着有机发光层填充到开口，有机发光层可被提供至第一像素电极以及第二像素电极之上。

第二像素定义层133形成有多个隔离凸台。

请参阅图3，第一像素定义层131与第二像素定义层133固定连接。例如，第一像素定义层131与第二像素定义层133之间采用光学胶固定连接。

进一步地，第一像素定义层131的材质与第二像素定义层133的材质可以不同。例如，第一像素定义层131的材质为聚酰亚胺，第二像素定义层133的材质为亚克力。

进一步地，第二像素定义层133的多个隔离凸台可以呈阵列分布，第一像素定义层131的每个开口为矩形，并且每个开口仅仅其中一对相对侧边设有隔离凸台。

上述AMOLED显示装置100至少具有如下优点：

(1)上述AMOLED显示装置100的像素定义层130分成第一像素定义层131及第二像素定义层133，第一像素定义层131成型在TFT背板110上，第二像素定义层133成型在面板部件120上，例如，封装盖板或触摸屏面板上，从而便于分开成型，以降低制造难度，提高成型良率。

(2)上述AMOLED显示装置100的像素定义层130的第二像素定义层133直接设于面板部件120，无需采用价格较高的聚酰亚胺，以便于采用价格较低的替代材料，例如，亚克力材料等，从而大大降低了成本。

基于上述AMOLED显示装置100，本发明还提供一种AMOLED显示装置100的制造方法。该AMOLED显示装置100的制造方法包括如下步骤a～步骤c。

步骤a，提供一TFT背板110及一面板部件120。具体在其中一个实施例中，TFT背板110包括多个像素电极111、基板113、多个驱动部、栅极绝缘膜、层间绝缘膜、绝缘性覆盖膜、有机发光层以及共同电极。

多个驱动部布置在基板113之上。每个驱动部包括与像素电极111电连接而对向像素电极111侧提供的电源信号进行开闭的驱动晶体管。驱动晶体管包括栅极、有源图案、源极以及漏极。源极与电源线电连接，该电源线对应于非像素区域而布置以传送电源信号，漏极与像素电极111电连接。因此，驱动晶体管被接通时，电源信号可从电源线通过驱动晶体管提供至像素电极111侧。

栅极绝缘膜覆盖有源图案，使得栅极和有源图案相互绝缘，层间绝缘膜覆盖第一驱动晶体管的栅极，以使源极和漏极与栅极形成绝缘。

绝缘性覆盖膜具备绝缘性，并覆盖多个驱动晶体管和第二驱动晶体管。多个像素电极111布置于绝缘性覆盖膜之上。有机发光层可以布置于所述多个像素电极111上。共同电极可以布置于所述有机发光层上。

步骤b，在TFT背板110上形成第一像素定义层131，在面板部件120上形成第二像素定义层133。

具体在本实施例中，第一像素定义层131通过光刻的方式成型，第一像素层131设有多个阵列排列的开口；第二像素定义层133也通过光刻的方式成型，第二像素定义层133形成有多个阵列排布的隔离凸台。

步骤c，将TFT背板110与面板部件120对应封装起来，使第二像素定义层133与第一像素定义层131固定连接。具体在本实施例中，在TFT背板110与面板部件120通过光学胶封装的同时，第二像素定义层133通过光学胶与第一像素定义层131粘结起来，使第二像素定义层133的多个隔离凸台与第一像素定义层131的多个开口边缘对应固定连接。

上述AMOLED显示装置100的制造方法采用分开成型的方式制作该像素定义层130的第一像素定义层131及第二像素定义层133，从而降低了AMOLED显示装置100的制造方法的难度，提高了AMOLED显示装置100的良率。并且，将像素定义层130的第二像素定义层133成型在面板部件120上，以便于采用比聚酰亚胺成本较低的材料，从而降低了AMOLED显示装置100的制造成本。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (9)

1.一种AMOLED显示装置，其特征在于，包括：

设有多个像素电极及驱动晶体管的TFT背板；

与所述TFT背板面对设置的面板部件；以及

位于所述TFT背板与所述面板部件之间的像素定义层，所述像素定义层包括成型在所述TFT背板上的第一像素定义层，及成型在所述面板部件上的第二像素定义层，所述第二像素定义层与所述第一像素定义层固定连接，所述第一像素定义层与所述第二像素定义层之间采用光学胶固定连接；

所述TFT背板还包括绝缘性覆盖膜；

所述第一像素定义层布置在所述绝缘性覆盖膜上。

2.如权利要求1所述的AMOLED显示装置，其特征在于，所述第一像素定义层与所述第二像素定义层的材质不同。

3.如权利要求2所述的AMOLED显示装置，其特征在于，所述第一像素定义层的材质为聚酰亚胺，所述第二像素定义层的材质为亚克力。

4.如权利要求1所述的AMOLED显示装置，其特征在于，所述面板部件为封装盖板或触摸屏面板。

5.如权利要求1所述的AMOLED显示装置，其特征在于，所述第一像素定义层设有多个阵列排列的开口，所述第二像素定义层形成有多个阵列排布的隔离凸台，每个所述开口为矩形，并且每个所述开口仅仅其中一对相对侧边设有所述隔离凸台。

6.一种如权利要求1～5任一项所述的AMOLED显示装置的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供一TFT背板及一面板部件；

在所述TFT背板的部件上形成一层第一像素定义层，在所述面板部件上形成一层第二像素定义层；以及

将所述TFT背板与所述面板部件对应封装起来，使所述第一像素定义层与所述第二像素定义层固定连接。

7.如权利要求6所述的AMOLED显示装置的制造方法，其特征在于，所述第一像素定义层通过光刻的方式成型，所述第一像素层设有多个阵列排列的开口。

8.如权利要求6所述的AMOLED显示装置的制造方法，其特征在于，所述第二像素定义层通过光刻的方式成型，所述第二像素定义层形成有多个阵列排布的隔离凸台。

9.如权利要求8所述的AMOLED显示装置的制造方法，其特征在于，在所述TFT背板与所述面板部件通过光学胶封装的同时，所述多个隔离凸台通过所述光学胶与所述第一像素定义层粘结起来。