CN105607344B - 彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置 - Google Patents

彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN105607344B
CN105607344B CN201610176754.1A CN201610176754A CN105607344B CN 105607344 B CN105607344 B CN 105607344B CN 201610176754 A CN201610176754 A CN 201610176754A CN 105607344 B CN105607344 B CN 105607344B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
quantum dot
photoresist layer
pfa
thickness
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201610176754.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN105607344A (zh
Inventor
王海军
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201610176754.1A priority Critical patent/CN105607344B/zh
Priority to PCT/CN2016/078797 priority patent/WO2017161606A1/zh
Priority to US15/031,742 priority patent/US20180088408A1/en
Publication of CN105607344A publication Critical patent/CN105607344A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN105607344B publication Critical patent/CN105607344B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G02F1/133617—Illumination with ultraviolet light; Luminescent elements or materials associated to the cell
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133528—Polarisers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/1336—Illuminating devices
    • G02F1/133614—Illuminating devices using photoluminescence, e.g. phosphors illuminated by UV or blue light
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2202/00—Materials and properties
    • G02F2202/36—Micro- or nanomaterials

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

本发明公开了一种彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置，其中彩膜基板包括量子点/PFA层及彩色滤光层，其制作方法包括：将量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板上，利用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层，并在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层。因此，本发明通过在彩膜基板上设置一层量子点/PFA层，能够提高液晶显示装置的背光亮度，提高面板的整体色彩饱和度和色域。

Description

彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置
技术领域
本发明涉及平板显示技术领域，特别是涉及彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置。
背景技术
TFT-LCD(薄膜晶体管)结构中，彩色滤膜作为重要组成部分，起到将背光转换为RGB(红绿蓝)三色光的作用，目前背光较多数为白色背光，但目前应用广泛的LED背光虽然具有高色域但亮度较低，若想提高亮度，必须增加LED(发光二极管)数目，这样耗能与成本均会较大幅度提高，因此急需寻找其他方法提高背光源的亮度。
发明内容
有鉴于此，本发明提供一种彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置，能够显著提高背光亮度，提高液晶显示面板整体色彩饱和度及色域。
本发明的第一方面提供一种彩膜基板的制作方法，包括：
提供一衬底基板；
将量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板上，其中，量子点包括R量子点、G量子点及B量子点；
采用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层；
在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层，其中，彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于量子点/PFA层上方。
其中，R光阻层的厚度与G光阻层的厚度相同，B光阻层的厚度比R光阻层的厚度或G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。
其中，在量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层的步骤之后，制作方法还包括：
在彩色滤光层上形成偏光层；
在偏光层上形成ITO层；
在ITO层上形成PI层。
本发明的第二方面提供一种彩膜基板，包括：
衬底基板；
形成在衬底基板上的量子点/PFA层；
形成在量子点/PFA层上的彩色滤光层；
其中，量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于量子点/PFA层上方。
其中，R光阻层的厚度与G光阻层的厚度相同，B光阻层的厚度比R光阻层的厚度或G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。
其中，彩膜基板还包括：
形成在彩色滤光层上的偏光层；
形成在偏光层上的ITO层；
形成在ITO层上的PI层。
本发明的第三方面提供一种液晶显示装置，包括彩膜基板、阵列基板、背光模组及设置于阵列基板与彩膜基板之间的液晶，其中，彩膜基板包括：
第一衬底基板；
形成在第一衬底基板上的量子点/PFA层；
形成在量子点/PFA层上的彩色滤光层；
量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于量子点/PFA层上方。
其中，R光阻层的厚度与G光阻层的厚度相同，B光阻层的厚度比R光阻层的厚度或G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。
其中，彩膜基板还包括：
形成在彩色滤光层上的第一偏光层；
形成在第一偏光层上的第一ITO层；
形成在第一ITO层上的第一PI层。
其中，阵列基板包括：
第二衬底基板；
形成在第二衬底基板上的第二偏光层；
形成在第二衬底基板远离第二偏光层一侧的第二ITO层；
形成在第二ITO层下的第二PI层；
液晶设置于第一PI层与第二PI层之间。
通过上述方案，本发明的有益效果是：区别于现有技术，本发明通过在液晶显示装置的彩膜基板上形成量子点/PFA层，并在具有段差结构的量子点/PFA层上形成彩色滤光层，从而可以显著提高液晶显示装置的背光亮度，并提高显示面板的整体色彩饱和度及色域，还可以降低液晶显示装置的功耗。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。其中：
图1是本发明一实施例的彩膜基板的制作方法的流程示意图；
图2是图1中制得的彩膜基板的结构示意图；
图3是本发明一实施例的液晶显示装置的结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性的劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
请参看图1，图1是本发明一实施例的彩膜基板的制作方法流程示意图。如图1所示，本实施例的彩膜基板1的制作方法包括：
S11：提供一衬底基板11。
该衬底基板11包括但不限于为玻璃或石英基板。
S12：将量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板11上。
其中，量子点包括R(红色)量子点、G(绿色)量子点及B(蓝色)量子点。量子点是一种纳米级材料，其自身具有发光特性，在光的激发下会发出红绿蓝三色光，不同光的半高峰宽较小，色彩纯度较高，混合后得到的白光亮度与纯度相比较传统的背光而言有较大幅度提高。而PFA是一种全氟烷氧基乙烯基醚共聚物。在本实施例中，将R量子点、G量子点及B量子点与PFA材料按一定比例混合后获得量子点化合物，然后采用旋涂或狭缝式涂布的方式将量子点化合物涂布在衬底基板上11。通常，R量子点与G量子点的粒径约为1-10nm，B量子点的粒径约为5nm以下。
S13：采用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影后获得具有段差结构的量子点/PFA层12。
其中，在将量子点化合物涂覆在衬底基板11上的步骤之前，需要先在衬底基板11上形成间隔设置的黑色矩阵(未图示)，利用黑色矩阵作为挡墙，采用掩膜对量子点与PFA材料进行曝光、显影的制程，形成具有段差结构的量子点/PFA层12，并且通过蚀刻工艺将黑色矩阵去除。
S14：在量子点/PFA层12上涂覆彩色滤光层13。
在具有段差结构的量子点/PFA层12上涂覆彩色滤光层13，其中，彩色滤光层13包括R(红色)光阻层131、G(绿色)光阻层132及B(蓝色)光阻层133，R光阻层131、G光阻层132及B光阻层133依次相邻形成于量子点/PFA层12上方，并且，R光阻层131的厚度与所述G光阻层132的厚度相同，B光阻层133的厚度比R光阻层131的厚度和比G光阻层132的厚度均厚0.1-0.5um，相应的，对应于R光阻层131的量子点/PFA层12与对应于G光阻层132的量子点/PFA层12的厚度相同，对应于B光阻层133的厚度的量子点/PFA层12的厚度比对应于R光阻层131的量子点/PFA层12或对应于G光阻层132的量子点/PFA层12的厚度薄0.1-0.5um。
在其他实施例中，量子点/PFA层12的位置与彩色滤光层13的位置可对调，其制备方法不变。
S15：在彩色滤光层13上形成偏光层14。
S16：在偏光层14上形成ITO层15。
S17：在ITO层15上形成PI层16。
其中，偏光层14、ITO层15及PI层16的制备采用现有的制备方法，在此不再赘述。至此，完成了本发明的彩膜基板1的制作。
请进一步参看图2，图2是图1中制得的彩膜基板的结构示意图。如图2所示，本实施例的彩膜基板1包括衬底基板11、形成在衬底基板11上的量子点/PFA层12，形成在量子点/PFA层12上的彩色滤光层13，形成在彩色滤光层13上的偏光层14，形成在偏光层14上的ITO层15，形成在ITO层15上的PI层16。其中，量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，量子点/PFA层12通过将R量子点、G量子点及B量子点与PFA材料混合后涂覆在衬底基板上方，并通过黄光制程结合蚀刻制程对量子点与PFA材料进行图案经处理后形成。彩色滤光层13包括R光阻层131、G光阻层132及B光阻层133，R光阻层131、G光阻层132及B光阻层133依次相邻形成于量子点/PFA层12上方。因此，本实施例通过在彩膜基板1的衬底基板11与彩色滤光层13之间设置一层量子点/PFA层12，通过量子点/PFA层12的作用，可以显著提高背光的亮度，提高面板的整体色彩饱和度及色域。
本发明还公开一种液晶显示装置，其中液晶显示装置包括上述彩膜基板1及背光模组33和阵列基板2。请进一步参看图3，图3是本发明一实施例的液晶显示装置的结构示意图。如图3所示，液晶显示装置3包括背光模组33、彩膜基板1、阵列基板2及密封设置于彩膜基板1及阵列基板2之间的液晶31。
本实施例中的液晶显示装置中的彩膜基板1为上述实施例中的彩膜基板1，其包括第一衬底基板11、形成在第一衬底基板11上方的量子点/PFA层12，形成在量子点/PFA层12上的彩色滤光层13，形成在彩色滤光层13上的第一偏光层14，形成在第一偏光层14上方的第一ITO层15，形成在第一ITO层15上的第一PI层16。需要说明的是，这里的“第一”是为了和下述的阵列基板中区分，以方便说明。
其中，彩膜基板1中的量子点/PFA层12中的量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，量子点/PFA层12为R量子点、G量子点及B量子点与PFA材料混合后通过黄光制程结合蚀刻制程在衬底基板上形成，其具有段差结构。彩色滤光层13包括R光阻层131、G光阻层132及B光阻层133，R光阻层131的厚度与G光阻层132的厚度相同，而B光阻层133的厚度比R光阻层131的厚度和比G光阻层132的厚度均厚0.1-0.5um，且R光阻层131、G光阻层132及B光阻层133依次相邻设置于量子点/PFA层12上方。
背光模组33设置于彩膜基板1背向阵列基板2的一侧。
阵列基板2包括第二衬底基板21，形成在第二衬底基板21上的第二偏光层22，形成在第二衬底基板21远离第二偏光层22一侧的第二ITO层23，形成在第二ITO层23下的第二PI层24。其中，第二偏光层22通常为偏光板，其设置于阵列基板2背向彩膜基板1的一侧。
其中，第一偏光层14通常采用内置式，设置于彩膜基板1面向阵列基板2的一侧。优选的，第一偏光层14采用染料系列的偏光层。第二偏光层22采用内置或外置的方式，本实施例中第二偏光层22采用外置的方式，第二偏光层22设置于阵列基板2远离彩膜基板1的一侧，且第二偏光层22与第一偏光层14的偏振方式垂直。第二ITO层23设置于阵列基板2面向彩膜基板1的一侧，液晶31设置于第二PI层24与第一PI层16之间。此外，阵列基板2及彩膜基板1之间还设置有感光间隙子32，感光间隙子32设置于液晶31层中，用于支撑与维护阵列基板2与彩膜基板1两者间的成盒距离。
综上，本实施例的液晶显示装置，当背光源为蓝色光源时，在蓝色背光的激发下，量子点/PFA层12中的R量子点及G量子点的会发出半高宽很窄的红、绿混合光，并叠加蓝色背光混合后发出白光，如果背光源为白光时，量子点/PFA层12中的R量子点或G量子点或B量子点中的任何一种量子点与白光叠加后发出白光，因此，本发明通过在彩膜基板上设置量子点/PFA层12，可以显著提高背光亮度，并且降低能耗，节省成本，并且可以提高液晶显示面板整体的色彩饱和度及色域。
其中，本实施例的液晶31显示装置在制作上，通过采用上述实施例的方法制备得彩膜基板1，进而与传统的阵列基板2进行成盒制程，然后通过向盒中注入液晶31，便可制得本发明的具有量子点/PFA层12的液晶显示装置3。
综上所述，区别于现有技术，本发明的液晶显示装置，通过在彩膜基板上设置量子点/PFA层，利用量子点/PFA层的特性，可以提背光亮度，降低显示面板的能耗及降低成本，并且能够提高提高面板的整体色彩饱和度和色域。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (7)

1.一种彩膜基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括：
提供一衬底基板；
将量子点与PFA材料混合后涂覆在所述衬底基板上，其中，所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点；
采用掩膜对所述量子点与PFA材料进行曝光、显影后形成具有段差结构的量子点/PFA层，去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵；
在所述量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层，其中，所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起，其中，所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同，所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，在所述量子点/PFA层上涂覆彩色滤光层的步骤之后，所述制作方法还包括：
在所述彩色滤光层上形成偏光层；
在所述偏光层上形成ITO层；
在所述ITO层上形成PI层。
3.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板包括：
衬底基板；
形成在所述衬底基板上的量子点/PFA层，去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵；
形成在所述量子点/PFA层上的彩色滤光层；
其中，所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起，其中，所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同，所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。
4.根据权利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
形成在所述彩色滤光层上的偏光层；
形成在所述偏光层上的ITO层；
形成在所述ITO层上的PI层。
5.一种液晶显示装置，其特征在于，所液晶显示装置包括彩膜基板、阵列基板、背光模组及设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶，其中，所述彩膜基板包括：
第一衬底基板；
形成在所述第一衬底基板上的量子点/PFA层，去除在所述衬底基板上形成的黑色矩阵；
形成在所述量子点/PFA层上的彩色滤光层；
所述量子点包括R量子点、G量子点及B量子点，所述彩色滤光层包括R光阻层、G光阻层及B光阻层，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻形成于所述量子点/PFA层上方，所述R光阻层、G光阻层及B光阻层依次相邻紧靠在一起，其中，所述R光阻层的厚度与所述G光阻层的厚度相同，所述B光阻层的厚度比所述R光阻层的厚度或所述G光阻层的厚度厚0.1-0.5um。
6.根据权利要求5所述的液晶显示装置，其特征在于，所述彩膜基板还包括：
形成在所述彩色滤光层上的第一偏光层；
形成在所述第一偏光层上的第一ITO层；
形成在所述第一ITO层上的第一PI层。
7.根据权利要求6所述的液晶显示装置，其特征在于，所述阵列基板包括：
第二衬底基板；
形成在所述第二衬底基板上的第二偏光层；
形成在所述第二衬底基板远离所述第二偏光层一侧的第二ITO层；形成在所述第二ITO层下的第二PI层；
所述液晶设置于所述第一PI层与所述第二PI层之间。
CN201610176754.1A 2016-03-24 2016-03-24 彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置 Active CN105607344B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610176754.1A CN105607344B (zh) 2016-03-24 2016-03-24 彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置
PCT/CN2016/078797 WO2017161606A1 (zh) 2016-03-24 2016-04-08 彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置
US15/031,742 US20180088408A1 (en) 2016-03-24 2016-04-08 Color film substrate, manufacturing metho, and liquid crystal device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201610176754.1A CN105607344B (zh) 2016-03-24 2016-03-24 彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN105607344A CN105607344A (zh) 2016-05-25
CN105607344B true CN105607344B (zh) 2019-06-11

Family

ID=55987380

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201610176754.1A Active CN105607344B (zh) 2016-03-24 2016-03-24 彩膜基板及其制作方法、液晶显示装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US20180088408A1 (zh)
CN (1) CN105607344B (zh)
WO (1) WO2017161606A1 (zh)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN108666349B (zh) 2018-05-09 2020-04-07 深圳市华星光电技术有限公司 彩色滤光基板及其制作方法与woled显示器
CN113035077A (zh) * 2021-03-09 2021-06-25 深圳市科伦特电子有限公司 量子点灯珠以及led显示屏

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104460103A (zh) * 2014-12-29 2015-03-25 厦门天马微电子有限公司 彩色滤光基板和显示模组
CN105116604A (zh) * 2015-09-24 2015-12-02 深圳市华星光电技术有限公司 量子点显示装置及其制作方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1533631A4 (en) * 2002-06-04 2006-01-11 Toray Industries COLOR FILTER FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY AND LIQUID SEMI-TRANSMISSION CRYSTAL DISPLAY
US7791271B2 (en) * 2006-02-24 2010-09-07 Global Oled Technology Llc Top-emitting OLED device with light-scattering layer and color-conversion
KR20110096046A (ko) * 2008-12-17 2011-08-26 그린, 트위드 오브 델라웨어, 인코포레이티드 티타늄산 바륨 충전제를 포함하는 퍼플루오로탄성체 조성물
KR101701835B1 (ko) * 2010-06-29 2017-02-02 엘지전자 주식회사 이동 단말기
US20130235310A1 (en) * 2012-03-06 2013-09-12 Guofu Tang LCD Panel and LCD Device
CN102591074A (zh) * 2012-03-06 2012-07-18 深圳市华星光电技术有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示装置
US9585403B2 (en) * 2012-05-21 2017-03-07 Hotbake Systems (Proprietary) Limited Microwaveable batter composition and a method for preparing same
TW201427893A (zh) * 2013-01-07 2014-07-16 群康科技(深圳)有限公司 圖案化色轉換膜及應用其之顯示裝置
CN103412435B (zh) * 2013-07-24 2015-11-25 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示屏及显示装置

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104460103A (zh) * 2014-12-29 2015-03-25 厦门天马微电子有限公司 彩色滤光基板和显示模组
CN105116604A (zh) * 2015-09-24 2015-12-02 深圳市华星光电技术有限公司 量子点显示装置及其制作方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2017161606A1 (zh) 2017-09-28
US20180088408A1 (en) 2018-03-29
CN105607344A (zh) 2016-05-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN105204103B (zh) 量子点彩色滤光片及液晶显示装置
CN103278876A (zh) 量子点彩色滤光片及其制作方法、显示装置
CN105353554A (zh) 彩膜基板的制作方法及液晶显示装置
CN102914905B (zh) 一种彩膜基板及半透半反式液晶显示装置
CN105404047A (zh) Coa型液晶显示面板的制作方法及coa型液晶显示面板
CN202049252U (zh) 一种彩色滤光片、液晶面板及显示装置
CN100573261C (zh) 彩膜基板及其制造方法
CN104749817B (zh) 一种显示面板及显示装置
CN104965341A (zh) 一种显示面板及显示器
CN105467670A (zh) 一种阵列基板、显示面板及液晶显示器
US10146082B2 (en) Display devices and the color filters thereof
CN104538427B (zh) 一种有机发光显示装置及其制备方法
CN106098742A (zh) 有机发光显示装置及制造方法
CN104765184B (zh) 液晶显示面板
CN108873470B (zh) 一种量子点彩膜背光结构
CN104730754A (zh) 液晶显示面板
CN104865735A (zh) 彩膜基板及其制作方法、液晶显示面板
JP2011007847A5 (zh)
CN104133320A (zh) 彩色液晶显示模组结构及其背光模组
CN106773263A (zh) 显示面板及其制造方法、显示装置
CN204576023U (zh) 一种液晶显示装置
CN107765475A (zh) 彩膜基板和显示装置
CN102707355A (zh) 一种半反半透彩色滤光片及其制作方法
CN105652508A (zh) 彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板
CN107315287A (zh) 一种显示面板及其制程

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant