CN105468184B - 透明电极层压体和包括该透明电极层压体的触摸屏面板 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种透明电极层压体和包括该透明电极层压体的触摸屏面板。所述透明电极层压体包括：传感电极，其包括在第一方向上形成的第一图案和在第二方向上形成的第二图案；桥电极，其配置成使第二图案的独立的单元图案电连接；和绝缘层，其设置在传感电极和桥电极之间，其中，金属图案形成在暴露于第一图案和第二图案之间的绝缘层上，由此通过最小化各个位置的反射率的差异和降低图案视觉识别度，来获得高的透明度。

Description

透明电极层压体和包括该透明电极层压体的触摸屏面板

技术领域

本发明涉及一种透明电极层压体和一种包括该透明电极层压体的触摸屏面板，尤其涉及一种具有低的图案视觉识别度的透明电极层压体和一种具有所述透明电极层压体的触摸屏面板。

背景技术

通常，触摸屏是配备有专用输入装置的屏幕，以接收通过用户的手指或者手写笔触摸屏幕所输入的位置。这样的触摸屏不使用键盘但具有多层层压体的配置，其中，当用户的手指或者诸如触摸笔或者手写笔的物体触摸在屏幕上所显示的特定字符或者位置时，触摸屏识别位置且直接接收来自屏幕的数据，以便通过其中所存储的软件实际处理特定位置处的信息。

为了识别所触摸的位置而不降低在屏幕上所显示的图像的可见性，必须使用透明电极，其中，通常以预定的图案形成传感图案。

在相关技术中已知，作为在触摸屏面板中所用的透明传感电极的多种结构。例如，在触摸屏面板中可以使用玻璃-ITO膜-ITO膜(GFF)结构、玻璃-ITO膜(G1F)结构或者仅玻璃(G2)结构。

在这些结构中，GFF是最常用的结构且包括由实现X轴和Y轴所需的两层膜形成的两个透明电极(铟锡氧化物，ITO)。G1F包括设置在玻璃的后表面上的第一ITO薄膜且类似于常规方法将膜用作第二ITO。G2是通过下列方法形成的结构：将X轴的ITO薄膜沉积且图案化在一个增强玻璃的后表面上，在其上形成绝缘层，以及图案化Y轴的另一ITO薄膜。在GFF、G1F和G2中的透光率增大，而功耗以该次序减小，因此，对于G2结构的研究在积极地进行。

然而，在使用图案化的透明电极的G2结构中，可以在视觉上相互区分透明电极的图案化的部分和非图案化的部分(图案开口)。因此，在图案化的部分和非图案化的部分之间的反射率的差异越大，则越清楚地呈现反射率差异，由此降低了作为显示元件的外观可见性。具体而言，在电容式触摸面板中，由于图案化的透明电极形成在显示器的显示单元的整个表面上，故即使使透明电极层图案化，显示装置也需要具有良好的外观。

为了解决这样的问题，例如，日本公开专利No.2008-98169公开了一种透明导电膜，其中，包括两个具有不同折射率的层的下涂层形成在透明基板和透明导电层之间。此外，作为其实施方式，上述专利还公开了透明导电膜，其中，折射率为1.7的硅锡氧化物层(其厚度为10nm或者更大)、作为低折射率层的折射率为1.43的氧化硅层(其厚度为30nm)，以及折射率为1.95的ITO膜(其厚度为15nm)以该次序依次形成。

然而，由于在上述专利中公开的透明导电膜中清楚地呈现了在图案化的部分和非图案化的部分之间的反射率的差异，故仍然不足以改善显示装置的外观。

发明内容

因此，本发明的一个目的是提供一种由于各个位置较小的反射率的差异而具有低的图案视觉识别度的透明电极层压体。

此外，本发明的另一个目的是提供一种具有所述透明电极层压体的触摸屏面板。

通过下列特征实现本发明的上述目的：

(1)一种透明电极层压体，包括：传感电极，其包括在第一方向上形成的第一图案和在第二方向上形成的第二图案；桥电极，其配置成使第二图案的独立的单元图案电连接；和绝缘层，其设置在传感电极和桥电极之间，其中，金属图案形成在暴露于第一图案和第二图案之间的绝缘层上。

(2)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述金属图案满足下式1：

[式1]

0.99≤[(在绝缘层上的金属图案的面积比)×(金属图案的总反射率)+(1-(在绝缘层上的金属图案的面积比))×(在绝缘层上没有金属图案的部分的总反射率)/(传感电极和桥电极的总反射率)]≤1.01

(其中，所述总反射率是将界面(表面)反射率与各自的反射率相加的值)。

(3)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述金属图案由选自钼、银、铝和铜中的至少一种金属形成。

(4)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述金属图案具有20nm至300nm的厚度。

(5)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，通过形成在所述绝缘层中的接触孔，所述桥电极使所述第二图案电连接。

(6)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，单元桥电极包括至少一个桥。

(7)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述单元桥电极的桥具有2μm至200μm的宽度。

(8)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述桥电极由具有比所述传感电极的导电率高的导电率的材料形成。

(9)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述桥电极具有20nm至200nm的厚度。

(10)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，所述桥电极由与所述金属图案的材料相同的材料形成。

(11)根据以上(10)所述的透明电极层压体，其中，所述单元桥电极的桥具有2μm至20μm的宽度。

(12)根据以上(1)所述的透明电极层压体，其中，通过由与所述金属图案的材料相同的材料形成的位置检测线，所述传感电极和所述桥电极被连接到驱动电路。

(13)根据以上(1)所述的透明电极层压体，还包括在与所述透明电极层压体的粘附有透明基板的表面相对的表面上的钝化层。

(14)根据以上(13)所述的透明电极层压体，其中，所述透明基板还包括在与形成所述透明电极的表面相对的一侧上的至少一个光学功能层。

(15)根据以上(14)所述的透明电极层压体，其中，所述光学功能层是抗反射层和抗污染层中的至少一个层。

(16)一种触摸屏面板，包括根据以上(1)至(15)中任一项所述的透明电极层压体。

根据本发明的透明电极层压体，在透明电极层压体中所包括的各层的厚度被控制到预定的范围，由此通过最小化各个位置的反射率的差异和降低图案视觉识别度，来获得高的透明度。

由于上述方面，故当透明电极层压体被应用到G2结构的触摸屏面板时，通过表现出高透光率和低反射率可有效地使用。

附图说明

从结合附图进行的下列具体描述，将更清楚地理解本发明的上述和其他目的、特征和其他优点，其中：

图1是示出根据本发明的实施方式的透明电极层压体的示意平面图；

图2是示出根据本发明的实施方式的透明电极层压体的单元体的示意平面图；和

图3是示出根据本发明的实施方式的透明电极层压体的各个位置的层压结构的示意截面图。

具体实施方式

本发明公开了一种透明电极层压体，包括：传感电极，其包括在第一方向上形成的第一图案和在第二方向上形成的第二图案；桥电极，其配置成使第二图案的独立的单元图案电连接；和绝缘层，其设置在传感电极和桥电极之间，其中，金属图案形成在暴露于第一图案和第二图案之间的绝缘层上，由此通过最小化各个位置的反射率的差异和降低图案视觉识别度，来获得高的透明度。

在下文中，参考实施例和比较实施例，将描述优选的实施方式以更具体地理解本发明。然而，本领域的技术人员将理解，这样的实施方式被提供用来进一步理解本发明的精神而不限制在具体实施方式部分和所附权利要求书中所公开的待保护的主题。

图1是示出根据本发明的实施方式的透明电极层压体的示意平面图。

参考图1，本发明的透明电极层压体包括：传感电极100、桥电极200、绝缘层300和金属图案400。此外，本发明的透明电极层压体还可包括接触孔500，且可以形成在透明基板(见图3)上。此外，钝化层(见图3)可以设置在与透明电极层压体的粘附有透明基板的表面相对的表面上。

如图1中所示，以预定的图案形成在本发明的透明电极层压体中所包括的传感电极100，以采用桥电极200提供通过用户触摸的点上的位置信息。绝缘层300设置在传感电极100和桥电极200之间以将它们彼此电隔离。金属图案400形成在传感电极100的第一图案110和传感电极100的第二图案120之间的绝缘层300上，以减小本发明的透明电极层压体的可见性。接触孔500可以形成在绝缘层300中，以使传感电极100和桥电极200电连接。

如图3中所示，由于本发明的透明电极层压体可具有不同的分层结构，故由于这些不同的分层结构根据其位置会发生各个位置的反射率、亮度、色度等的差异，由此不利地增大图案的可见性。因此，由于增大的图案的可见性，故存在常规的透明电极层压体中的透明电极的功能上的限制。

因此，为了解决上述问题，本发明的透明电极层压体包括在对应于在绝缘层中的传感电极之间的区域上所形成的金属图案。由此，可以最小化在传感电极的图案部分和非图案部分之间的反射率的差异。在下文中，将更具体地描述根据本发明的透明电极层压体。

(透明电极)

在本发明中，透明电极不仅包括由基本上透明的材料形成的电极，而且包括由于其狭窄地形成的结构而不可以视觉上识别的电极(即使材料本身是不透明的)。

如图1至图3中所示，根据本发明的实施方式的透明电极层压体包括传感电极100和桥电极200。

传感电极100可包括第一图案110和第二图案120。第一图案110和第二图案120被设置在相互不同的方向上以提供用户触摸的位置的X坐标和Y坐标的信息。例如，这些图案设置在相同的行方向或列方向上，但是不限于此。具体地，当用户的手指或者物体触摸透明基板时，通过第一图案110和第二图案120、桥电极200、作为位置检测线的金属线路，取决于接触位置的电容的变化被检测且被转发到驱动电路。然后，通过X输入处理电路和Y输入处理电路(未示出)，电容的变化被转变成电信号，以识别接触位置。

就这一点而言，第一图案110和第二图案120必须形成在透明基板的同一层中，相应的图案必须电连接到彼此以检测所触摸的位置。然而，第一图案110彼此连接，而第二图案120以岛的形式相互隔开，由此需要额外的连接线，以将第二图案120彼此电连接。

然而，连接线不应该电连接到第一图案110，因此，连接线必须形成在与传感电极100不同的层中。因此，桥电极200形成在与传感电极100不同的独立的层中，以将第二图案120彼此电连接。即，桥电极200具有使传感电极100的各个第二图案120电连接的功能。

因此，在图2和图3中，①、③和④的位置分别表示这样的部分：其中，以预定的图案形成传感电极100，以检测所触摸的区域，③、④和⑤的位置分别表示这样的部分：其中，桥电极200被布置成使以岛的形式隔开的第二图案120电连接。

在本文中，桥电极200必须与传感电极100的第一图案110电隔离。因此，本发明的透明电极层压体包括绝缘层300和接触孔500(见图2中的③)，这将在下文描述。

传感电极100和桥电极200的厚度没有特别的限制但可以分别例如在20nm至200nm的范围内。如果传感电极100的厚度和桥电极200的厚度小于20nm，则电阻会增大，从而降低触摸灵敏度。当传感电极100的厚度和桥电极200的厚度超过200nm时，反射率会增大，从而降低可见性。

此外，优选地，传感电极100和桥电极200具有的折射率为1.8至1.98。当这些层具有上述范围内的折射率时，可以更加改善反射率的减小。

在相关领域中已知的用于形成透明电极的任何常规导电材料都可以用于传感电极100和桥电极200，而没有特别的限制。例如，用于形成透明电极的导电材料可包括铟锡氧化物(ITO)、铟锌氧化物(IZO)、氧化锌(ZnO)、铟锌锡氧化物(IZTO)、镉锡氧化物(CTO)、聚(3,4-聚乙撑二氧乙烯噻吩)(PEDOT)、碳纳米管(CNT)、金属线等，其被单独使用或者以两种或者更多种的组合使用。优选地，使用铟锡氧化物(ITO)。金属线中所用的金属没有特别的限制但可以包括，例如，银(Ag)、金、铝、铜、铁、镍、钛、碲、铬等，这些金属被单独使用或者以两种或者更多种的组合使用。

在本发明中，桥意味着以单元桥电极的单一线形式形成的电极，其中，根据本发明的单元桥电极可包括至少一个桥。

单元桥电极的桥的宽度没有特别的限制但例如可以在2μm至200μm的范围内，且优选地在2μm至100μm的范围内。如果桥电极的宽度在2μm至200μm的范围内，则当本发明的透明电极层压体被应用到触摸屏面板时，图案的可见性会减小，从而提供有利的电阻。

桥电极200可以更狭窄地形成，以被应用到触摸屏面板，从而降低遮光板的宽度。就这一点而言，桥电极200可以由具有比传感电极100的导电率高的导电率的材料形成。当桥电极200由具有比传感电极100的导电率高的导电率的材料形成时，传感电极100的第二图案120可以以较小的区域彼此电连接。

如果桥的宽度减小，则电阻会增大。在这种情况下，根据本发明的桥电极可包括至少两个如图2中所示的桥。在这种情况下，电阻的增大会被抑制，桥电极200的每单位面积的面积比会减小，从而降低图案部分的可见性。

当桥电极200由具有比传感电极100的导电率高的导电率的材料形成时，单元桥电极的桥的宽度可例如是2μm至20μm，优选是2μm至5μm，但不限于此。当桥的宽度是2μm至20μm时，图案的可见性会减小，从而提供有利的电阻。

根据本发明的另一方面，桥电极200可以由与下文将描述的金属图案400相同的材料形成。

当桥电极200由与金属图案400相同的材料形成时，不需要执行额外的用于形成金属图案400的过程。在这种情况下，通过在形成桥电极200期间同时形成金属图案400可以更加简化该过程。

可以通过各种薄膜沉积技术，例如，物理气相沉积(PVD)方法、化学气相沉积(CVD)方法等，形成传感电极100和桥电极200。可以通过作为PVD方法的示例的反应溅射法形成传感电极100和桥电极200。

此外，传感电极100和桥电极200可以通过印刷工艺形成。为了印刷透明电极，在印刷过程期间，可以使用各种印刷方法，例如，凹版胶印、反向胶印、丝网印刷、凹版印刷等。具体而言，当通过印刷工艺形成传感电极100和桥电极200时，透明电极可以由可印刷的糊状材料制成。例如，这些电极可以由碳纳米管(CNT)、导电聚合物和Ag纳米线油墨形成。

在本发明中，传感电极100和桥电极200的层压次序没有特别的限制。因此，在本发明的另一实施方式中，可以改变在图3中所示的传感电极100和桥电极200的层压次序。例如，首先在透明基板上形成桥电极200，而不是形成传感电极100，然后在桥电极200上形成绝缘层300，然后在绝缘层300上形成传感电极100。

形成位置检测线的方法没有特别的限制，该位置检测线将第一图案110、第二图案120和桥电极200连接到驱动电路。例如，位置检测线可以由与形成传感电极100和桥电极200的方法相同的方法形成。

优选地，根据本发明的位置检测线由与金属图案400相同的材料形成。在这种情况下，不需要执行额外的用于形成金属图案400的过程。因此，通过在形成金属线路和位置检测线期间同时形成金属图案400可以更加简化该过程。

当所有的桥电极200和位置检测线由与金属图案400相同的材料形成时，可以在形成桥电极200期间同时形成所有的位置检测线和金属图案400，使得可以大幅增大工艺效率的改进。

(绝缘层和接触孔)

绝缘层300形成在传感电极100和桥电极200之间，以隔离传感电极100和桥电极200，用于防止传感电极100和桥电极200之间的电连接。然而，如图2和图3中所示，当桥电极200电连接传感电极100的相邻的第二图案120时，由于桥电极200应该与传感电极100电连接，故需要没有形成绝缘层300的部分。通常，在绝缘层300的区域中，没有形成绝缘层300的部分被称为接触孔500(见图2中的③)。因此，第二图案120和桥电极200在接触孔500中彼此电连接。

在相关技术中已知的任何常规绝缘材料都可以用于绝缘层300而对其没有特别的限制。例如，可以利用诸如氧化硅的金属氧化物、包括丙烯酸树脂的透明感光性树脂组合物、或者热固性树脂组合物，以所需的图案形成绝缘层300。

例如，可以利用沉积方法或者印刷方法，在传感电极100上形成绝缘层300。

在本发明中，接触孔500可以以使得绝缘层300整体形成在传感电极100上的方式形成，然后在绝缘层中形成多个孔(孔方法)，或者以使得除了传感电极100和桥电极200彼此电连接的部分之外，绝缘层300形成在传感电极100上的方式形成(岛方法)。

(金属图案)

金属图案400形成在第一图案110和第二图案120之间暴露的绝缘层300上，以通过减小透明电极的图案部分和非图案部分(图案开口部分)之间反射率的差异，来发挥明显降低透明电极层压体的可见性的作用。

具体地，当图案由在非图案部分上的具有高反射率的金属形成时，减小了与透明电极的图案部分的反射率的差异，由此，观测者不能识别图案部分和非图案部分之间的反射率的差异。

优选地，可以形成根据本发明的金属图案400，以满足下式1。

[式1]

0.99≤[(在绝缘层上的金属图案的面积比)×(金属图案的总反射率)+(1-(在绝缘层上的金属图案的面积比))×(在绝缘层上没有金属图案的部分的总反射率)/(传感电极和桥电极的总反射率)]≤1.01

(其中，所述总反射率是将界面(表面)反射率与各自的反射率相加的值)

当金属图案400的面积比和反射率满足通过式1所限定的关系时，透明电极的图案部分和非图案部分的总反射光彼此相同，由此，观测者不能识别透明电极的图案部分和非图案部分之间的反射率的差异。因此，可以大幅增大透明电极层压体的可见性的降低。

通过适当地选择传感电极100和桥电极200的厚度、反射率、电极材料等，可以调整传感电极100和桥电极200的反射率。类似地，通过适当地选择金属图案400的厚度、材料等，可以调整金属图案400的反射率。

在相关技术中已知的任何常规的金属都可以用于根据本发明的金属图案400，例如，可以使用钼、银、铝和铜等，优选使用钼。这些金属可以单独使用或者以两种或者更多种的组合使用。

金属图案400的厚度没有特别的限制但可以例如在20nm至300nm的范围内，优选地，在50nm至150nm的范围内。当金属图案400的厚度在20nm至300nm的范围内时，通过提供最佳水平的反射率，可以大幅增大透明电极层压体的可见性的降低。

形成金属图案400的方法没有特别的限制，但可以例如是通过与形成传感电极100和桥电极200的方法相同的方法。

(透明基板)

透明基板是形成触摸屏面板的最外侧表面且与用户的手指或者物体接触的部分。本发明的透明电极层压体形成在与用户手指或者物体接触的表面相对的一侧上。如图3中所示，本发明的透明电极层压体依次形成在形成传感电极的透明基板上。

如果必要，则本发明的透明电极层压体还可包括在透明基板和传感电极100之间的透明介电层。

透明介电层的功能是减小由于独立的位置上的结构差异带来的光学性能上的差异，由此改善触摸屏面板的光学均匀性。

透明介电层可以由氧化铌、氧化硅、氧化铈、氧化铟等形成，其可以单独使用或者以两种或者更多种的组合使用。通过利用气相沉积方法、溅射法、离子电镀方法等，透明介电层可以容易地以薄膜形式沉积。

在本发明中，如果必要，则在透明基板上形成多个透明介电层。在这种情况下，多个透明介电层的各个介电层可以由相互不同的材料形成，且可以具有相互不同的折射率和厚度。

然而，由于本发明的透明电极层压体包括在其中形成的金属图案400，故可以在不形成透明介电层的情况下减小由于在独立的位置上的结构差异带来的光学性能的差异，由此可以不包括透明介电层。

如果透明基板具有足以保护触摸屏面板免受外力且允许用户很好地观看显示器的高耐用性，则透明基板可以由任何材料制成，可以采用在相关技术中所用的用于形成透明基板的任何材料而对其没有特别的限制。例如，可以使用玻璃、聚醚砜(PES)、聚丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚烯丙酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯(PC)、三乙酸纤维素(TAC)、醋酸丙酸纤维素(CAP)等。优选地，使用玻璃，且更优选地，使用增强玻璃。

根据本发明的透明基板可具有适当的厚度，例如，0.1mm至0.7mm。当透明基板具有在上述范围内的厚度时，可以更加改善本发明的透明电极层压体的反射率的降低。

优选地，透明基板的折射率为1.4至1.6。当透明基板具有在上述范围内的折射率时，可以更加改善反射率的降低。

在本发明中，透明基板还可以包括在与形成透明电极的表面相对的一侧上的至少一个光学功能层。光学功能层可以为抗污染层，例如，抗反射层、防指纹层等，其可以单独使用或者以两种或者更多种的组合使用。

(钝化层)

为了防止传感电极100和桥电极200受到由于暴露到外部环境(水、空气等)而带来的污染，如果必要，则本发明的透明电极层压体还可包括在与透明电极层压体的粘附有透明基板的表面相对的表面上的钝化层。

钝化层可以由选自绝缘层300中可用的材料中的任一种材料形成。

根据本发明的钝化层可具有适当的厚度，例如，2,000nm或者更小，具体是0至2,000nm。当钝化层具有在上述范围内的厚度时，可以更加改善反射率的降低。

优选地，钝化层的折射率为1.4至1.6。当钝化层具有在上述范围内的折射率时，可以更加改善反射率的降低。

(粘合剂层)

为了粘附到显示面板部分，本发明的透明电极层压体可包括粘合剂层。通过涂覆透明的硬化树脂组合物并将其固化(OCR)，或者通过按压预先以膜的形状形成到透明电极层压体上的粘合剂(OCA)，来制备粘合剂层。

粘合剂层也可能影响透明电极层压体的反射率。因此，为了降低透明电极层压体的反射率，优选地，粘合剂层具有适当的厚度和折射率。例如，粘合剂层可具有0至250μm的厚度以及1至1.6的折射率。当粘合剂层的厚度是0μm时，透明电极层压体不具有粘合剂层，例如，粘合剂层没有形成在除了形成粘合剂层的边缘部分之外的透明电极层压体的待实际显示图像的部分上。在这种情况下，透明电极层压体和显示面板之间仅形成气隙。

如上所述，由于本发明的透明电极层压体包括在对应于绝缘层300中的传感电极100之间的区域上所形成的金属图案400，故可以最小化在透明电极的图案部分和非图案部分之间的反射率的差异，且明显改善其透明度。因此，通过将本发明的透明电极层压体粘合到显示面板部分，本发明的透明电极层压体可以被制备成具有优异透明度的触摸屏面板。

在下文中，参考实施例，将描述优选的实施方式，以更清楚地理解本发明。然而，显而易见地，出于说明的目的提供了这些实施方式，本领域的技术人员可以做出多种修改和变更而不脱离本发明的范围和精神，这样的修改和变更适当地包括在如所附的权利要求书所限定的本发明中。

实施例和比较实施例

分别在实施例1至实施例7以及比较实施例1至比较实施例4中制造了具有下表1中所示出的厚度的透明电极层压体。然后，测量各个位置的平均反射率以及如图2中所示的区域①和区域②的平均反射率的差异，并在表1中示出其结果。在本文中，平均反射率是指在400nm至700nm的范围内的反射率的平均值。

分别使用厚度为0.7mm的玻璃(折射率：1.51，消光系数：0)作为透明基板，ITO膜(折射率：1.8，消光系数：0.014)作为传感电极、以及丙烯酸绝缘材料(折射率：1.51，消光系数：0)作为绝缘层和钝化层，基于波长为550nm的光，在表1中示出了反射率和消光系数。

金属图案由厚度为50nm或者150nm的钼形成。

在实施例1、实施例3、实施例7、比较实施例1、比较实施例2和比较实施例4中，桥电极由ITO膜(折射率：1.8，消光系数：0.014)形成；在其他实施例和比较实施例中，桥电极由钼形成。

然后，在实施例7、实施例8和比较实施例4中依次形成桥电极、绝缘层和传感电极；以及在其他实施例和比较实施例中依次形成传感电极、绝缘层和桥电极。

在表1的粘合剂层中的空气意味着：粘合剂层没有形成在待显示图像的部分上，以及粘合剂层仅形成在遮光板边缘部分上。

[表1]

为了代表性地描述表1中的实施例1，在区域②中钼的反射率和最外层表面的反射率分别经测量是57％和4％，因此，金属图案的总反射率是61％(对于厚度是50nm和150nm的情况相同)。此外，在绝缘层上没有金属图案的部分的总反射率经测量是8.1％。通过使用所测量的值和金属图案的面积比，计算在区域②中的平均反射率。通过与实施例1相同的方法测量了其他实施例和比较实施例的反射率。

在各个区域中，由于作为最宽区域的区域①对图案的可见性的影响最大，而其他区域的影响最小，因此通过在区域①和区域②之间的反射率的差异，比较图案的可见性。

参考表1，由于在实施例1至实施例7中所制备的透明电极层压体具有在其上形成的金属图案，因此在区域①和区域②之间的反射率的差异仅仅是0.1％，且因此图案没有暴露给用户。

然而，对于在比较实施例1至比较实施例4中所制备的透明电极层压体，在区域①和区域②之间的反射率的差异明显大，该反射率的差异是1.2％或者1.3％，因此，图案被暴露给用户。

Claims (15)

1.一种透明电极层压体，包括：

传感电极，所述传感电极包括在第一方向上形成的第一图案和在第二方向上形成的第二图案；

桥电极，所述桥电极被配置成使所述第二图案的独立的单元图案电连接；和

绝缘层，所述绝缘层设置在所述传感电极和所述桥电极之间，

其中，在所述绝缘层上，金属图案形成在所述第一图案和所述第二图案之间的图案开口部分处，并且所述金属图案满足下式1：

[式1]

0.99≤[(在绝缘层上的金属图案的面积比)×(金属图案的总反射率)+(1-(在绝缘层上的金属图案的面积比))×(在绝缘层上没有金属图案的部分的总反射率)/(传感电极和桥电极的总反射率)]≤1.01，

其中，所述总反射率是将界面反射率与各自的反射率相加的值。

2.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，所述金属图案由选自钼、银、铝和铜中的至少一种金属形成。

3.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，所述金属图案具有20nm至300nm的厚度。

4.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，通过形成在所述绝缘层中的接触孔，所述桥电极使所述第二图案电连接。

5.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，单元桥电极包括至少一个桥。

6.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，单元桥电极的桥具有2μm至200μm的宽度。

7.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，所述桥电极由具有比所述传感电极的导电率高的导电率的材料形成。

8.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，所述桥电极具有20nm至200nm的厚度。

9.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，所述桥电极由与所述金属图案的材料相同的材料形成。

10.根据权利要求9所述的透明电极层压体，其中，单元桥电极的桥具有2μm至20μm的宽度。

11.根据权利要求1所述的透明电极层压体，其中，通过由与所述金属图案的材料相同的材料形成的位置检测线，所述传感电极和所述桥电极被连接到驱动电路。

12.根据权利要求1所述的透明电极层压体，还包括在与所述透明电极层压体的粘附有透明基板的表面相对的表面上的钝化层。

13.根据权利要求12所述的透明电极层压体，其中，所述透明基板还包括在与形成所述透明电极的表面相对的一侧上的至少一个光学功能层。

14.根据权利要求13所述的透明电极层压体，其中，所述光学功能层是抗反射层和抗污染层中的至少一个层。

15.一种触摸屏面板，包括根据权利要求1所述的透明电极层压体。

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