CN105419972A - 一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂及其使用方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，清洗剂原材料包括：无机碱2～10％、有机胺2～10％、聚醚5～10％、乙醇5～15％、丙二醇5～10％、螯合剂4～12％、阴离子表面活性剂1～10％、特种表面活性剂2～4％、非离子表面活性剂2～6％、去离子水40～70％。高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全。

Description

一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂及其使用方法
技术领域
本发明涉及一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂及其使用方法，特别涉及一种智能手机玻璃盖板清洗剂及其使用方法。
背景技术
随着现代社会的发展，显示屏、手机玻璃盖板、触摸屏与光学镜头等光学玻璃的应用越来越广泛，光学玻璃清洗剂的需求量不但日益增大，同时也对清洗剂的清洗性能与环保性能提出了更高的要求。目前市场上销售的可用于清洗光学玻璃的清洗剂均为液体清洗剂，都会添加含磷化合物，如焦磷酸钾、焦磷酸钠和磷酸三钠等，原因是磷系类清洗剂的清洗效果好，但是磷元素对环境造成了日益严重的污染，也对企业清洗后的排放造成了很大的难题。本品不含磷元素，采用环保型清洗添加剂，具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全。
发明内容
本发明为了克服市场上现有的光学玻璃清洗剂含碱量高、污染严重、清洁力不高，产品表面脏污严重，成品率低等缺点提供了一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂及其使用方法。该玻璃清洗剂适用于普通玻璃、光学玻璃、平板玻璃、相机镜片、眼镜镜片、手机盖板、蓝宝石玻璃等丝印前后工段的清洗。
本发明公开一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂原材料包括：无机碱2～10％、有机胺2～10％、聚醚5～10％、乙醇5～15％、丙二醇5～10％、螯合剂4～12％、阴离子表面活性剂1～10％、特种表面活性剂2～4％、非离子表面活性剂2～6％、去离子水40～70％。
具体的，所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种。
具体的，所述有机胺为单乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、三乙醇胺、多乙烯多胺中的一种或多种。
具体的，所述聚醚为L61、L62、L64、F68中的一种或多种。
具体的，所述螯合剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、葡萄糖酸钠、柠檬酸钠中的一种或多种。
具体的，所述非离子表面活性剂为AEO3、AEO9等其中的一种或多种。
具体的，所述特殊表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠、十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种。
本发明还公开一种上述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的使用方法，所述使用方法包括将所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂与水按1:10～1:30倍稀释使用。
具体的，将所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂与水按1:20倍稀释使用。
本发明的有益效果在于：高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的稀释液具有优异的清洗性、抗腐蚀性以及油污离子渗透性能，不含有氯、磷、硫和亚硝酸盐、苯酚等物质，具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全
具体实施方式
下面对本发明作进一步阐述：
本发明涉及一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，清洗剂原材料包括：无机碱2～10％、有机胺2～10％、聚醚5～10％、乙醇5～15％、丙二醇5～10％、螯合剂4～12％、阴离子表面活性剂1～10％、特种表面活性剂2～4％、非离子表面活性剂2～6％、去离子水40～70％。
无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种。
有机胺为单乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、三乙醇胺、多乙烯多胺中的一种或多种。
聚醚为L61、L62、L64、F68中的一种或多种。
螯合剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、葡萄糖酸钠、柠檬酸钠中的一种或多种。
阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、异丙苯磺酸钠等其中的一种或多种。
非离子表面活性剂为AEO3、AEO9等其中的一种或多种。
特殊表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠、十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种。
本发明还涉及一种上述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的使用方法，该使用方法包括：将水基光学玻璃清洗剂与水按1:10～1:30倍稀释使用。
优选地，将水基光学玻璃清洗剂与水按1:20倍稀释使用，该比例的实施具有较好的现场使用效果。
实施例一
本实施例中，高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的原材料包括：无机碱4％、有机胺4％、聚醚5％、乙醇5％、螯合剂4％、阴离子表面活性剂2％、特种表面活性剂4％、非离子表面活性剂4％、去离子水68％。
本实施例中，无机碱为氢氧化钠，当然也可以为其它功能相近的无机碱代替，比如氢氧化钾等，对体系的稳定性并无影响；有机胺为三乙醇胺，也可采用其他性质相近的且性质近似的有机胺代替，比如单乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、AMP95等，对产品的性质并无明显影响；聚醚采用清洗剂中常见的水溶性聚醚即可，优选L62、因为L62泡沫小，清洗油污能力强；螯合剂为葡萄糖酸钠，通过螯合剂分子与金属离子的强结合作用使清洗剂中的二价金属离子结合形成大分子，防止污垢的形成；阴离子表面活性剂采用常用的十二烷基苯磺酸钠，当然也可采用化学性质相近似的阴离子表活，如异丙苯磺酸钠；特种表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠，也可采用其它类似功能的特种表面活性剂，如十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种；两性表面活性剂为AEO9、AEO3中的一种或多种。
将上述重量份的原料进行制备，获得一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂。
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂在使用时与离子水按体积比1:20倍稀释使用，用于光学玻璃清洗过程中的油污离子、指纹印、磨粉及磨料的清洗。
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，按1:20兑水稀释后使用，其稀释液具有优异的清洗性、抗腐蚀性以及油污离子渗透性能，不含有氯、磷、硫和亚硝酸盐、苯酚等物质，具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全，使用有效期可达7天以上。
实施例二
本实施例中，高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的原材料包括：无机碱6％、有机胺6％、聚醚5％、乙醇5％、螯合剂4％、阴离子表面活性剂4％、特种表面活性剂5％、非离子表面活性剂4％、去离子水61％。
本实施例中，无机碱为氢氧化钠，当然也可以为其它功能相近的无机碱代替，比如氢氧化钾等，对体系的稳定性并无影响；有机胺为三乙醇胺，也可采用其他性质相近的且性质近似的有机胺代替，比如单乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、AMP95等，对产品的性质并无明显影响；聚醚采用清洗剂中常见的水溶性聚醚即可，优选L62、因为L62泡沫小，清洗油污能力强；螯合剂为葡萄糖酸钠，通过螯合剂分子与金属离子的强结合作用使清洗剂中的二价金属离子结合形成大分子，防止污垢的形成；阴离子表面活性剂采用异丙苯磺酸钠，当然也可采用化学性质相近似的阴离子表活，如十二烷基苯磺酸钠；特种表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠，也可采用其它类似功能的特种表面活性剂，如十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种；两性表面活性剂为AEO9、AEO3中的一种或多种。
将上述重量份的原料进行制备，获得一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂；
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂在使用时与离子水按体积比1:20倍稀释使用，用于光学玻璃清洗过程中的油污离子、指纹印、磨粉及磨料的清洗。
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，按1:30兑水稀释后使用，其稀释液具有优异的清洗性、抗腐蚀性以及油污离子渗透性能，不含有氯、磷、硫和亚硝酸盐、苯酚等物质，具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全，使用有效期可达10天以上。
实施例三
本实施例中，高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的原材料包括：无机碱4％、有机胺4％、聚醚6％、乙醇6％、螯合剂4％、阴离子表面活性剂6％、特种表面活性剂5％、非离子表面活性剂5％、去离子水60％。
本实施例中，无机碱为氢氧化钠，当然也可以为其它功能相近的无机碱代替，比如氢氧化钾等，对体系的稳定性并无影响；有机胺为三乙醇胺，也可采用其他性质相近的且性质近似的有机胺代替，比如单乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、AMP95等，对产品的性质并无明显影响；聚醚采用清洗剂中常见的水溶性聚醚即可，优选L62、因为L62泡沫小，清洗油污能力强；所述的螯合剂为柠檬酸，通过螯合剂分子与金属离子的强结合作用使清洗剂中的二价金属离子结合形成大分子，防止污垢的形成；阴离子表面活性剂采用常用的十二烷基苯磺酸钠，当然也可采用化学性质相近似的阴离子表活，如异丙苯磺酸钠；特种表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠，也可采用其它类似功能的特种表面活性剂，如十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种；所述的两性表面活性剂为AEO9、AEO3中的一种或多种。
将上述重量份的原料按照前述的制备方法进行制备，获得一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂；
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂在使用时与离子水按体积比1:20倍稀释使用，用于光学玻璃清洗过程中的油污离子、指纹印、磨粉及磨料的清洗。
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，按1:20兑水稀释后使用，其稀释液具有优异的清洗性、抗腐蚀性以及油污离子渗透性能，不含有氯、磷、硫和亚硝酸盐、苯酚等物质，具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全，使用有效期可达10天以上。
实施例四
本实施例中，高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的制备及其使用方法，其特征在于：清洗剂原材料包括：无机碱6％、有机胺4％、聚醚5％、乙醇5％、螯合剂4％、阴离子表面活性剂2％、特种表面活性剂6％、非离子表面活性剂4％、去离子水64％。
本实施例中，无机碱为氢氧化钾，当然也可以为其它功能相近的无机碱代替，比如氢氧化钠等，对体系的稳定性并无影响；有机胺为单乙醇胺，也可采用其他性质相近的且性质近似的有机胺代替，比如三乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、AMP95等，对产品的性质并无明显影响；聚醚采用清洗剂中常见的水溶性聚醚即可，优选L62、因为L62泡沫小，清洗油污能力强；螯合剂为葡萄糖酸钠，通过螯合剂分子与金属离子的强结合作用使清洗剂中的二价金属离子结合形成大分子，防止污垢的形成；阴离子表面活性剂采用常用的十二烷基苯磺酸钠，当然也可采用化学性质相近似的阴离子表活，如异丙苯磺酸钠；特种表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠，也可采用其它类似功能的特种表面活性剂，如十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种；两性表面活性剂为AEO9、AEO3中的一种或多种。
将上述重量份的原料进行制备，获得一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂。
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂在使用时与离子水按体积比1:20倍稀释使用，用于光学玻璃清洗过程中的油污离子、指纹印、磨粉及磨料的清洗。
本实施例的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，按1:20兑水稀释后使用，其稀释液具有优异的清洗性、抗腐蚀性以及油污离子渗透性能，不含有氯、磷、硫和亚硝酸盐、苯酚等物质，具有低碱含量，不腐蚀玻璃，无污染，作业性好，对员工皮肤无损伤，有效的保障操作人员的健康和安全，使用有效期可达7天以上。
以上所述实施例，只是本发明的较佳实施例，并非来限制本发明的实施范围，故凡依本发明申请专利范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均应包括于本发明专利申请范围内。

Claims (10)

1.一种高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂原材料包括：无机碱2～10％、有机胺2～10％、聚醚5～10％、乙醇5～15％、丙二醇5～10％、螯合剂4～12％、阴离子表面活性剂1～10％、特种表面活性剂2～4％、非离子表面活性剂2～6％、去离子水40～70％。
2.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述无机碱为氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或多种。
3.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述有机胺为单乙醇胺、异丙醇胺、环己胺、三乙醇胺、多乙烯多胺中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述聚醚为L61、L62、L64、F68中的一种或多种。
5.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述螯合剂为乙二胺四乙酸二钠、乙二胺四乙酸四钠、葡萄糖酸钠、柠檬酸钠中的一种或多种。
6.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述阴离子表面活性剂为十二烷基苯磺酸钠、异丙苯磺酸钠等其中的一种或多种。
7.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述非离子表面活性剂为AEO3、AEO9等其中的一种或多种。
8.根据权利要求1所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂，其特征在于：所述特殊表面活性剂为壬基酚聚氧乙烯醚琥珀酸单酯磺酸二钠、十二烷基乙氧基磺基甜菜碱中的一种或多种。
9.一种如权利要求1-8任一所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的使用方法，其特征在于：所述使用方法包括将所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂与水按1:10～1:30倍稀释使用。
10.根据权利要求9所述的高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂的使用方法，其特征在于：将所述高洁净度抗腐蚀水基光学玻璃清洗剂与水按1:20倍稀释使用。
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