CN105204697A - 显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种显示装置,包括:配置为包括第一基板和第二基板的显示面板;和设置在显示面板上并配置成含有碳酸酯化合物的覆盖基板。
Description
技术领域
本申请涉及一种显示装置,并且更具体地说,涉及适于提高柔韧性和触摸灵敏性的显示装置。
背景技术
如今,随着信息社会的传播,用于可视地表示电信息信号的显示场得到了迅速发展。据此,已经开发了各种具有诸如纤薄、轻量、低功耗特征的平板显示装置。此外,平板显示装置正在迅速地替代现有的阴极射线管(CRT)。
作为平板显示装置的实例,可以引入液晶显示(LCD)装置、有机发光显示(OLED)装置、电泳显示(电子纸显示(EPD))装置、等离子显示面板装置(的PDP)、场发射显示(FED)装置、电致发光显示(电致发光)、电润湿显示(EWD)装置等。
此外,随着显示装置被积极地开发,需要显示装置具有区别于现有设计的多样性,提高美感,并提供有用的多功能。据此,开发了使用诸如塑料材料等的柔性材料的柔性显示装置。不同于现有技术的平板显示装置,柔性显示装置可以设计成各种形状。
可以将覆盖基板应用于显示装置的屏幕。覆盖基板可以用来保护显示装置。因此,覆盖基板需要确保高硬度和高耐冲击性。另外,可以将覆盖基板应用于柔性显示装置。为此目的,覆盖基板必须确保柔韧性。
对于现有技术的覆盖基板,主要使用钢化玻璃。钢化玻璃的成型特性差。由于这个原因,难以将钢化玻璃应用于柔性显示装置。
为了解决这个问题,积极地研究了由具有优异的成型特性的塑料材料制成的覆盖基板。但是,塑料材料比玻璃材料具有更低的表面强度。这样,塑料覆盖基板具有差的抗划伤特性,并且在高温高湿的环境下很容易变形。由于这个原因,塑料覆盖基板会使显示装置的可靠性劣化。
另外,将触摸面板应用于显示装置。触摸面板可以通过触摸输入设备,如手指、触笔等输入数据,在显示装置上显示图像。这样的触摸面板可以大致区分为静电电容型和电阻膜型。
电阻膜型触摸面板感测电阻的变化并检测触摸位置。静电电容型触摸面板感测电极之间的电容变化并检测由手指触摸的触摸位置。电阻膜型触摸面板通过反复使用会引起性能劣化和划痕。由此,具有优异的耐久性和长寿命的静电电容型触摸面板成为公众关心的焦点。
为了平稳地驱动应用于显示装置的这种触摸面板,厚的覆盖基板优选具有高介电常数。在大多数情况下,塑料材料比钢化玻璃材料具有更低的介电常数。由于这个原因,由塑料材料制成的覆盖基板会使应用于显示装置的触摸面板的触摸灵敏性劣化。
鉴于这几点,有必要开发一种具有优异的表面硬度和柔韧性(或成型性),并且在高温高湿环境下保持优越的可靠性而不降低任何触摸灵敏性的覆盖基板。
发明内容
本申请的实施方式涉及一种显示装置,其基本上消除了由于现有技术的限制和的缺点所造成的一个或更多的问题。
所述实施方式提供一种具有覆盖基板的显示装置,其具有优异的柔韧性和表面硬度并且在高温高湿环境下保持优异的耐久性。
另外,所述实施方式提供一种显示装置,其通过使用具有提高的介电常数的覆盖基板,适于提高触摸灵敏性。
在下面的描述中将列出所述实施方式的其他特征和优点,本领域技术人员通过随后的描述将显见这些特征和优点的一部分或者本领域技术人员可通过本实施方式的实施领会到。通过说明书、权利要求以及附图中特别指出的结构可实现并获得本实施方式的这些优点。
根据本实施方式的一个总体的方面,一种显示装置包括:配置为包括第一基板和第二基板的显示面板;和布置在显示面板上并配置为包含碳酸酯化合物的覆盖基板。
其他的***、方法、特征和优点将通过检视以下附图和详细描述对本领域的技术人员变得显而易见。意在将所有此类附加的***、方法、特征和优点包括在本说明书内、在本公开内容的范围内并且由所附权利要求保护。本部分的任何内容都不应被视为对权利要求的限制。进一步的方面和优点将在下面结合实施方式进行讨论。应该理解的是,本发明的前述一般描述和下面的详细描述都是示例性和解释性的,并且旨在提供所要求保护的发明的进一步解释。
附图说明
附图提供对本发明的进一步理解并且并入说明书而组成说明书的一部分。所述附图示出本发明的实施方式,并且与说明书文字一起用于解释本发明的原理。在附图中:
图1是示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的剖面图;
图2-3示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的显示面板的实施例的剖面图;和
图4-5是示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的触摸面板的实施例的视图。
具体实施方式
现在将详细描述本公开内容,附图中图解了这些实施方式。下文介绍的这些实施方式用作向本领域普通技术人员传达其精神的例子。因此,这些实施方式可被体现为不同的形状,而并不限于本文所述的这些实施方式。另外,为了附图方便,装置的尺寸和厚度可能被放大表示。尽可能地在包括附图的整个公开内容中使用相同的附图标记指代相同或相似的部分。
下面将参照图1-5详细描述根据本公开内容的实施方式的显示装置。图1是示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的剖面图。图2和图3是示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的显示面板的实施例的剖面图。图4和图5是示出根据本公开内容的实施方式的显示装置的触摸面板的实施例的视图。
参照图1,根据本公开内容的实施方式的显示装置100可以包括显示面板300和覆盖基板200。覆盖基板200可以布置在显示面板300上。另外,根据本公开内容的实施方式的显示装置100可以包括触摸面板400。
首先,将详细描述覆盖基板200。
覆盖基板200可以布置在显示装置100的最上层,并用来保护显示装置100。详细地说,覆盖基板200可以保护显示面板300或设置在覆盖基板200下的触摸面板。此外,覆盖基板200可形成为约700μm-1000μm的厚度范围。
这样的覆盖基板200可形成为包含聚甲基丙烯酸甲酯PMMA和碳酸酯化合物。碳酸酯化合物可以是由下面的化学式1表示的化合物。
【化学式1】
在化学式1中,'R1'-'R4'各为氢和具有相应于1-10个碳原子数的烷基之一。优选地,'R2'-'R4'可以是氢。更优选地,'R1'-'R4'可以是氢。
另一方面,本公开内容允许碳酸酯化合物以约5wt%-30wt%被包含在覆盖基板200中。如果低于5wt%的碳酸酯化合物被包含在覆盖基板200中,覆盖基板200的介电常数、硬度和柔性会变得更低。当大于30wt%的碳酸酯化合物被包含在覆盖基板200中时,覆盖基板200的机械性能可以改变并且覆盖基板200的稳定性会恶化。
相比于由公知的塑料材料形成的现有技术覆盖基板,本公开内容的这样的覆盖基板200具有优异的表面硬度。例如,覆盖基板200可具有至少8H的铅笔硬度。优选地,覆盖基板200的表面硬度(或铅笔硬度)在8H-12H的范围内。更优选覆盖基板成为9H-12H范围的表面硬度(或铅笔硬度)。这样,具有本发明的覆盖基板200的显示装置可具有优异的抗划伤特性和优异的耐磨损特性。
此外,覆盖基板200可对高温高湿环境具有优异的耐久性。例如,覆盖基板200在放置于约70℃的温度和约90%的相对湿度的条件96小时期间以后,测量可具有低于0.1%的膨胀率。优选地,覆盖基板200的膨胀速率可以低于1.05%。覆盖基板200更优选为低于0.02%。
此外,覆盖基板200具有优异的柔韧性。因此,覆盖基板200可以被修改成各种形状,如弯曲形状、折叠形状和卷绕形状。据此,覆盖基板200可以应用于柔性显示装置。例如,覆盖基板200可具有低于45mm的弯曲曲率。优选地,覆盖基板200具有低于40mm的弯曲曲率。更优选地,覆盖基板200的弯曲曲率在约20mm-40mm的范围。可以通过将覆盖基板200贴附到具有可变曲率半径(或多种曲率半径)的半圆形鼓的外表面上,减小半圆形鼓的曲率半径,并刚好在覆盖基板200被损坏前测量半圆形鼓的半径而获得覆盖基板200的弯曲曲率。
此外,覆盖基板200可以具有高介电常数。例如,覆盖基板200可以具有至少4.0的介电常数。优选地,覆盖基板200可以具有约4.0-8.0的介电常数范围。
如果触摸面板400是静电电容型,触摸面板400的触摸性能会受到其形成材料的介电常数的影响。尤其是,覆盖基板的介电常数可以成为影响触摸面板200的触摸性能的关键因素。这是由于覆盖基板200相比于显示装置的其他基板被形成为最厚的厚度并且被布置在暴露于输入设备(如手指、触笔等)的最上层这一事实。鉴于这一点,根据本公开内容的显示装置100可以包括具有提高的介电常数的覆盖基板,以提高触摸灵敏性和触摸性能。
其次,现在将详细描述显示装置300。
显示面板300可以是LCD面板和OLED面板中的任一种。现在将参考图2解释用作显示面板300的LCD面板。
参照图2,LCD面板被用作显示面板300。LCD面板300由结合第一基板301和第二基板302并在两个基板301和302之间***液晶层380而形制造。背光单元(未示出)可以布置在LCD面板300下。虽然未在图中示出,但可以将至少一个偏振器贴附到第一和第二基板301和302的外表面中至少其一,用于选择性地透射具有固定极化特性的光。
LCD面板300可被定义为显示区域和非显示区域。栅线和数据线以及在其间具有的栅绝缘膜352形成在对应于显示区域的第一基板301的一个表面上。栅线和数据线彼此垂直交叉并限定像素区域。每个像素区域包括薄膜晶体管TFT。薄膜晶体管TFT通过形成在钝化层356中的接触孔连接到各像素区域内的像素电极357。具有上述结构的第一基板301可以用作薄膜晶体管基板或阵列基板。
薄膜晶体管TFT包括栅电极351,栅绝缘膜352,半导体层353,源电极354和漏电极355。如图中所示,薄膜晶体管TFT形成为使栅电极351设置在半导体层353下方的底栅结构。或者,薄膜晶体管TFT可形成为使栅电极351设置在半导体层353上方的顶栅结构。换句话说,薄膜晶体管TFT的结构等可以进行各种改变和修改,而不脱离本公开内容的技术精神。
具有栅格形状的黑矩阵371形成在LCD面板300的第二基板302的一个表面上。黑矩阵371遮住包括第一基板301的薄膜晶体管等的非显示区域,并因此围绕各像素区域。另外,滤色器层372形成在由黑矩阵371的栅格所限定的像素区域中。滤色器层372包括彼此交替排列在像素区域中的红色、绿色和蓝色滤色器。此外,公共电极373形成为覆盖黑矩阵371和滤色器层372。
第一取向膜358***到液晶层380和像素电极357之间。另外,第二取向膜374***到液晶层380和公共电极373之间。第一和第二取向膜358和374可以用来设定液晶分子的初始取向状态并在取向方向上均匀地排列液晶分子。
虽然图中显示了根据本公开内容的液晶显示面板具有简化的结构,但并不限于此。例如,每个像素区域仅包括单个薄膜晶体管。然而,根据LCD面板的驱动特性,可以在每个像素区域中包括至少两个薄膜晶体管。
液晶分子的取向可以通过多种取向控制方法进行控制。实际上,可以使用扭曲向列(TN)模式、垂直取向(VA)模式、面内切换(IPS)模式、边缘场切换(FFS)模式等来控制液晶分子的取向。因此,虽然在图中示出了形成在第一基板301上的像素电极357和形成在第二基板302上的公共电极373,但可以修改和改变像素电极357和公共电极373的结构。在IPS(面内转换)模式或FFS(边缘场切换)模式的LCD面板中,像素电极357和公共电极373可以形成在第一基板301上。
另外,LCD面板300可以制造成COT(晶体管上滤色器)结构。COT结构的LCD面板300可以通过在第一基板301上形成薄膜晶体管、滤色器层和黑色矩阵,并结合第一基板301和第二基板302同时使液晶层在第一基板301和第二基板302之间来制备。详细地说,薄膜晶体管可以形成在第一基板301上,钝化层可以形成在设置有薄膜晶体管的第一基板301的整个表面上,并且滤色器层可以形成在钝化层上。另外,接触各自的薄膜晶体管的像素电极形成在第一基板301上。然而,可以省略黑矩阵以提高像素的开口率以及简化掩模工序。在这种情况下,公共电极可以以还用作黑矩阵的方式形成在第一基板302上。
换言之,LCD面板300被限定于附图中所示的结构。这样,可以对薄膜晶体管等的配置进行各种修改和改变。
随后,将参照图3来解释用作显示面板的OLED面板。
参照图3,显示面板300可以成为OLED面板。OLED面板300包括第一基板301和第二基板302,在第一基板301中形成有薄膜晶体管TFT和电连接到相应的薄膜晶体管TFT的有机发光元件OL,第二基板302用于保护有机发光元件OL。OLED面板300可以进一步包括在第一基板301和第二基板302之间形成的密封层324。尽管在图中所示的密封层324形成为单层结构,但密封层324可以形成为包括保护层、粘合层等的多层状结构。
OLED面板300可以被定义为显示区域和非显示区域。薄膜晶体管TFT形成在对应于OLED面板300的显示区域的第一基板301的一个表面上。每个薄膜晶体管TFT形成为包括半导体层311、栅电极313、源电极315和漏电极316。
详细地,在第一基板301上形成包括源极域311a、沟道域311b和漏极域311c的半导体层311。在设置有半导体层311的第一基板301的整个表面上形成栅绝缘膜312。在栅绝缘膜312上形成栅线(未示出)和从栅线分支的栅电极313。在设置有栅线和栅电极313的栅绝缘膜312上形成层间绝缘膜314。
此外,数据线(未示出)、从数据线分支的源电极315以及与源电极315分开固定距离的漏电极316形成在层间绝缘膜314上。数据线与栅线交叉并限定像素区域,在数据线与栅线之间具有层间绝缘膜314。源电极315和漏电极316经由各第一接触孔接触半导体层311的源极域311a与漏极域311c,第一接触孔形成为依次穿过覆盖栅电极313和栅绝缘膜312的层间绝缘膜314。
钝化层317形成在设置有源电极和漏电极315和316的第一基板301的整个表面上,以及暴露漏电极316的第二接触孔形成在钝化层317中。暴露的漏电极316电连接到形成在钝化层317上的连接电极318。平坦化膜319形成在设置有薄膜晶体管TFT的第一基板301的整个表面上,以及暴露出连接电极318的第三接触孔形成在平坦化膜319上。
经由形成在平坦化膜319中的第三接触孔电连接到薄膜晶体管TFT的有机发光元件OL形成在第一基板301上。有机发光元件OL包括下电极320,有机发光层322和上电极323。
更具体地,电连接到连接电极318的下电极320形成在平坦化膜319上。虽然图中示出有机发光元件OL的下电极320经由连接电极318电连接到薄膜晶体管TFT的漏电极315,但可以从OLED面板300除去连接电极318。在这种情况下,有机发光元件OL的下电极可以通过形成在平坦化膜319中的接触孔直接与薄膜晶体管TFT的漏电极315相接触的方式形成在平坦化膜319上。如此,还可以从OLED面板300移除钝化层317。
使下电极320暴露一像素区域尺寸的堤图案321形成在设置有下电极320的平坦化膜319上。有机发光层322形成在暴露的下电极320上。有机发光层322可以配置为由发射材料形成的单层。或者,有机发光层可以形成具有空穴注入层、空穴传输层、发光材料层、电子传输层和电子注入层的多层结构。
上电极323形成在有机发光层322上。如果下电极320用作阳极电极,上电极323应该被用作阴极电极。相反,当下电极320用作阴极电极时,上电极323应该被用作阳极电极。
密封件形成在设置有薄膜晶体管TFT和有机发光元件OL的第一基板301上。例如,密封件可配置为密封层324和第二基板302。在此情况下,用于保护显示元件(即,有机发光元件OL)的密封层324形成在设置有上电极323的第一基板301的整个表面上。密封层324可以形成为多层结构。第二基板302可以与密封层324组合。第二基板302可以是用来封装第一基板301的密封基板。然而,布置在第一基板301上的密封件并不限于密封层324和第二基板302的组合。换句话说,公众熟知的各种不同的密封件可代替密封层324和第二基板302用于防止氧、湿气的侵入等。
根据本公开内容的显示装置的这样的结构并不限于图中所示。换句话说,根据本公开内容的第一实施方式的显示装置的例子可以进行各种修改和改变。
第三,现在将详细描述触摸面板400。
触摸面板400可以是附加型(add-ontype)的触摸面板400。或者,触摸面板400可以是集成型触摸面板400。
如果触摸面板400是附加型触摸面板400,触摸面板400以与显示面板300分开的方式制备。这样,可以在触摸面板400和显示面板300之间形成透明粘合层(未示出)。
在这种情况下,触摸面板400可以以与覆盖基板200分开或与覆盖基板200联合的方式来制备。如果在触摸面板400和覆盖基板200彼此分离,可以在覆盖基板200和触摸面板400之间形成另一个透明粘合层(未示出)。相反,当触摸面板400与覆盖基板200联合为一体时,可以在覆盖基板200的后表面上形成感测电极等。如此,没有必要在覆盖基板200和触摸面板400之间形成附加的粘合层。
当触摸面板400是集成型触摸面板400时,触摸面板400可以与显示面板300联合形成为一体。如此,没有必要在显示面板300和触摸面板400之间***任何粘合层。另外,触摸面板400可以形成为on-cell型和in-cell型。
如果触摸面板400是on-cell内嵌型(on-celltype),可以在显示面板300的上表面上形成感测电极等。具体地,可在显示面板300的上基板上直接形成感测电极等。另外,触摸面板400可以以与覆盖基板200分离的方式形成,像附加型触摸面板400。或者,on-cell内嵌型触摸面板400可以与覆盖基板200联合形成一体。
当触摸面板400是in-cell内嵌型(in-celltype)时,可以在显示面板300的第一和第二基板之间形成感测电极等。换句话说,当在显示面板300中形成显示元件时,可以形成感测电极等。如此,覆盖基板200必须以独立于触摸面板400的方式来制备。据此,可以在覆盖基板200与显示面板300之间形成透明粘合层。
将详细参考图4和图5描述触摸面板400。图4和图5示出与覆盖基板200分开的附加型触摸面板。然而,本公开内容的触摸面板400并不局限于附图中所示的配置。换句话说,在附图中所示的触摸面板可应用于上述的附加型和集成型。
参照图4和图5,触摸面板400可以各自被限定为透射光的显示区域AA和拦截光的非显示区域IA。显示区域AA通过用户的触摸来输入命令。不同于显示区域AA,非显示区域IA不能用于命令的输入,因为它即使在用户触摸时也不被激活。
如图4所示,触摸面板400可以包括布置在触摸基板401的一个表面上的感测电极410和扫描线420。触摸基板401可以包括钢化玻璃、热强化玻璃、钠钙玻璃、强化塑料和柔性塑料中的一种,但并不限于此。
感测电极410设置在显示区域AA中,并且扫描线420设置在非显示区域IA中。虽然未在图中示出,另外在触摸基板401的非显示区域IA中形成印刷层。在此情况下,扫描线420可以形成在印刷层上。
感测电极410可以包括导电材料。例如,感测电极410可以包括选自透明导电材料、金属、纳米线、敏感的纳米线膜、碳纳米管、石墨烯、导电聚合物以及它们的混合物的材料组中的任何一种。
感测电极410可以包括第一感测电极411和第二感测电极412。第一感测电极411和第二感测电极412可以包括彼此相同的材料或不同的材料。另外,第一感测电极411和第二感测电极412可以被设置在触摸基板401的同一表面上。
在第一感测电极411和第二感测电极412设置在触摸基板401的同一表面上的情况下,第一感测电极411和第二感测电极412必须彼此不接触地形成。为此,可以在显示区域AA上形成绝缘层和桥电极。
详细地说,在绝缘层下设置的第一感测电极411和第二感测电极412的一侧可以形成为彼此电连接的方式。另一侧可以形成为连接到在绝缘层上形成的桥电极,并且彼此电连接。因此,彼此电连接的第一感测电极可以与第二感测电极412通过绝缘层和桥电极分离。另外,第一感测电极411可以通过桥电极彼此电连接。
设置在显示区域AA中的第一和第二感测电极411和412可用于感测触摸。为此,第一感测电极411可以在一个方向(例如,水平方向)上彼此连接,并且第二感测电极412可以在一不同的方向(例如,垂直方向)上彼此连接。
扫描线420可以包括第一扫描线421和第二扫描线422。详细地,扫描线420可以包括连接到第一感测电极411的第一扫描线421,以及连接到第二检测电极412的第二扫描线422。
第一扫描线421和第二扫描线422可以连接到印刷电路板(未示出)。换句话说,第一扫描线421和第二扫描线422将第一感测电极411和第二感测电极412感测到的触摸信号传送到装载有驱动器芯片(未示出)的印刷电路板(未示出),并允许执行触摸检测操作。作为例子,印刷电路板(未示出)可以是柔性的印刷电路板(FPCB)。
第一扫描线421和第二扫描线422可以包括导电材料。例如,第一扫描线421和第二扫描线422可以包括金属材料,如银Ag、铜Cu或其他。
虽然未在图中示出,钝化层(未示出)可以进一步形成在设置有扫描线420的触摸基板401上。钝化层(未示出)可以保护扫描线420。具体地,钝化层(未示出)能够防止扫描线420被暴露于氧气并被氧化。此外,钝化层(未示出)可以防止因水分侵入造成的可靠性劣化。
参照图5,触摸面板400可以包括第一触摸基板402和第二触摸基板403。第一触摸基板402和第二触摸基板403可以各自包括钢化玻璃、热强化玻璃、钠钙玻璃、增强塑料和和柔性塑料之一,但并不限于此。此外,第一触摸基板402和第二触摸基板403可以用透明粘合剂如OCA(光学透明粘合剂)或其他粘合剂彼此结合。
第一感测电极411可以设置在第一触摸基板402的显示区域AA中。此外,第一扫描线421可设置在第一触摸基板402的非显示区域IA中。第一扫描线421连接到各自的第一感测电极411。
另一方面,第二检测电极412可以设置在第二触摸基板403的显示区域AA中。此外,第二扫描线422可以设置在第二触摸基板403的非显示区域中。第二扫描线422连接到各自的第二感测电极412。第一扫描线421和第二扫描线422可以电连接到印刷电路板(未示出)。
然而,本公开内容的触摸面板400不限于附图和上面提供的描述。换言之,任何能够通过触摸显示装置的前表面上的手指、触笔或其他装置来输入命令的输入装置都可被用作本发明的触摸面板400。实际上,公众通常使用的任何触摸面板都可以适用于本发明的触摸面板400。
现在将通过实施例更加详细地描述根据本公开内容的覆盖基板。提供这些实施例用于说明,但它们不限制本公开内容。换句话说,这些实施例可会体现为不同的形状。因此,本公开内容的范围必须不局限于此处描述的这些实施例。
【实施例1】
由树脂组合物制造实施例1的覆盖基板,所述树脂组合物是通过混合90wt%的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和10wt%的碳酸乙烯酯(EC)而得到的。此外,实施例1的覆盖基板形成为约0.8mm的厚度。
【实施例2】
由树脂组合物制造实施例2的覆盖基板,所述树脂组合物是通过混合85wt%的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和15wt%的碳酸乙烯酯(EC)而得到的。此外,实施例2的覆盖基板形成为约0.8mm的厚度。
【实施例3】
由树脂组合物制造实施例3的覆盖基板,所述树脂组合物是通过混合80wt%的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和20wt%的碳酸乙烯酯(EC)而得到的。此外,实施例3的覆盖基板形成为约0.8mm的厚度。
【比较例1】
由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂制造比较例1的覆盖基板。此外,比较例1的覆盖基板形成为约0.8mm的厚度。
【比较例2】
由聚甲基丙烯酸甲酯和苯乙烯的共聚物树脂制造比较例2的覆盖基板。换句话说,比较例2的覆盖基板是由含有60wt%的聚甲基丙烯酸甲酯和40wt%的苯乙烯的共聚物树脂制造。此外,比较例2的覆盖基板形成为约0.8mm的厚度。
【比较例3】
通过共挤出聚甲基丙烯酸甲酯树脂和聚碳酸酯树脂制造聚甲基丙烯酸甲酯层及聚碳酸酯层的双层结构的比较例3的覆盖基板。聚甲基丙烯酸甲酯层形成为约0.7mm的厚度和聚碳酸酯层形成为约0.1mm的厚度。
【比较例4】
由通过混合90wt%的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和10wt%橡胶(商品名'cis-1220')而得到的树脂组合物制造比较例4的覆盖基板。比较例4的覆盖基板形成为0.8mm的厚度。
【比较例5】
由通过混合85wt%的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和15wt%的橡胶(商品名'cis-1220')而得到的树脂组合物制造比较例5的覆盖基板。比较例5的覆盖基板形成为0.8mm的厚度。
【比较例6】
由通过混合90wt%的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)和10wt%的氧化锆ZrO2而得到的树脂组合物制造比较例6的覆盖基板。比较例6的覆盖基板形成为0.8mm的厚度。
【比较例7】
以聚甲基丙烯酸甲酯层和AZO(铝掺杂氧化锌)覆盖层的双层结构制造比较例7的覆盖基板。从100wt%的聚甲基丙烯酸甲酯形成聚甲基丙烯酸甲酯层,且厚度为约0.8mm。AZI覆盖层形成为约0.5μm的厚度。
【实验】
为了测量实施例1-3和比较例1-7的覆盖基板的透射率、雾度、介电常数、表面硬度、热变形温度、高温高湿环境下的膨胀率、弯曲性能、耐久性,对实施例1-3和比较例1-7的覆盖基板执行下面的测量。在表1中表示通过下列测量获得的测量结果。
(1)透射率和雾度
使用TokyoDenshoku制造的且具有'TC-HIIIDPK/III型号的数字雾度计来测定在具有10mm×10mm尺寸的覆盖基板样品中的总透射光、散射光与准直光的量。此后,基于总透射光、散射光与准直光的量获得透射率和雾度。
(2)介电常数
使用HitachiLtd.制造的型号为E4980A的精密阻抗分析仪,在接收3V的DC电压的覆盖基板样品被顺序地暴露于1KHz-1MHz的无线电信号的状态下,测量覆盖基板样品的介电常数。在这种情况下,覆盖基板样品被定义成100mm2-900mm2的尺寸范围。另外,将具有约20nm-100nm厚度范围的铂涂膜涂覆在覆盖基板样品的上下表面上。可以基于电荷量来计算覆盖基板样品的介电常数,所述电荷量是通过接触所述铂涂膜并转移DC电压的探针来测量的。
(3)表面硬度
用400cw的砂纸使铅笔的端部平面化。可以通过以45度的角度倾斜铅笔,并遍布覆盖基板样品移动铅笔来测量表面硬度。如果在覆盖基板样品的表面上生成划痕,那么覆盖基板样品的表面硬度被确定为比所使用的铅笔的硬度值小一度的硬度值。
(4)热变形温度
可以使用5℃/min的升温条件和10g负荷的动态力学分析以3点弯曲方式测定覆盖基板样品的热变形温度。
(5)高温高湿下的膨胀率
可以基于在将覆盖基板样品置于70℃的温度和90%的湿度96小时期间后测量的覆盖基板样品的长度,获得膨胀率。详细地说,膨胀率是由下列公式计算。
膨胀率(%)={(放置后的覆盖基板样品的长度-放置前的覆盖基板样品的长度)/放置前的覆盖基板样品的长度}×100
(6)柔韧性(即,弯曲曲率)
将覆盖基板样品限定成100mm×30mm大小。可以通过将覆盖基板样品附着到具有可变曲率半径(或多种曲率半径)的半圆形鼓的外表面,减小半圆形鼓的曲率半径并测量刚刚在覆盖基板样品被损坏前的半径而获得覆盖基板样品的弯曲曲率。
(7)耐久性
可以通过释放22g的SUS(钢用不锈钢)球,并测量覆盖基板样品被损坏时的SUS球的高度,获得覆盖基板样品的耐久性。
【表1】
如从表1看到,显而易见的是实施例1-3和比较例1-5和7中的覆盖基板具有高于90%的透射率,和低于1.0的雾度。这样,实施例1-3和比较例1-5和7中的覆盖基板是透明的。与此相反,具有低于90%的透射率和3.4的高雾度的比较例6的覆盖基板不能被应用于任何显示装置。
参照表1,很明显,实施例1-3中的覆盖基板具有高于4.0的高介电常数。因此,与比较例1-4和7相比,具有高介电常数的实施例1-3的覆盖基板可有利地用于实现触摸灵敏性和性能。
显而易见的是,如在表1中描述,实施例1-3的覆盖基板具有约9H的高表面硬度。另一方面,比较例2-5和7中的覆盖基板因为其表面硬度低而不能应用于任何显示装置。
此外,如在表1中描述,实施例1-3中的覆盖基板的热变形温度高于70℃。通常,在温度为约70℃下执行印刷干燥工序。为了确保印刷干燥工序的稳定性,覆盖基板200必须形成为具有70℃以上的热变形温度。鉴于这一点,各自具有在70℃以上的热变形温度的实施例1-3的覆盖基板可以用作覆盖基板200。
此外,如在表1中描述,实施例1-3的覆盖基板具有在高温高湿度环境下约0.01%的小尺寸变异系数(或低膨率)。与此相反,比较例1、2和4-7的覆盖基板具有比实施例1-3更高的尺寸变异系数(或更高的膨胀率)。
此外,如在表1中描述,实施例1-3的覆盖基板具有小于45mm的弯曲曲率。换句话说,实施例1-3的覆盖基板具有优异的柔韧性(或成型性)。另一方面,比较例6的覆盖基板具有低的弯曲曲率,不能用作柔性基板。
本公开内容的上述特征、结构、效果被包括在至少一个实施方式中而不限于仅单个实施方式。此外,本领域普通技术人员显而易见的是对于所述实施方式中公开的特征、结构、效果等的各种变化和修改都是可能的。因此,应理解这样的变化和修改都包括在本公开内容的范围。
虽然已经参照多个说明性实施方式描述了实施方式,但是应该理解的是,本领域的技术人员可以想到的许多其他的修改和实施方式也将落入本公开内容的精神和原理范围内。更具体地,对在本发明公开内容、附图和所附权利要求书的范围内的主题组合设置的组成部件和/或设置的各种变化和修改都是可能的。除了组成部件和/或设置的变化和修改外,替代的使用也是本领域技术人员显而易见的。
Claims (16)
1.一种显示装置,包括:
配置为包括第一基板和第二基板的显示面板;和
设置在显示面板上并配置成含有碳酸酯化合物的覆盖基板。
2.根据权利要求1的显示装置,其中所述碳酸酯化合物包括由下述化学式1表示的化合物:
在化学式1中,R1-R4各为氢和具有对应于1-10个碳原子数的烷基之一。
3.根据权利要求2的显示装置,其中R2-R4是氢。
4.根据权利要求3的显示装置,其中R1是氢。
5.根据权利要求1的显示装置,其中所述碳酸酯化合物以5wt%-30wt%的量被包括在覆盖基板中。
6.根据权利要求1的显示装置,其中所述覆盖基板形成为具有4.0-8.0的介电常数范围。
7.根据权利要求1的显示装置,其中所述覆盖基板形成为具有大于8H的表面硬度。
8.根据权利要求1的显示装置,其中所述覆盖基板在放置于70℃的温度和约90%的湿度条件下96小时期间之后,保持低于0.1%的膨胀速率。
9.根据权利要求1的显示装置,其中所述覆盖基板形成为具有低于45mm的弯曲曲率。
10.根据权利要求1的显示装置,还包括插在显示面板和覆盖基板之间的触摸面板,所述触摸面板配置为包括装载有感测电极的触摸基板。
11.根据权利要求1的显示装置,还包括形成在覆盖基板的背表面上的感测电极。
12.根据权利要求1的显示装置,还包括形成在显示面板的上表面上的感测电极。
13.根据权利要求1的显示装置,还包括形成在第一基板和第二基板之间的感测电极。
14.根据权利要求1的显示装置,其中所述显示面板是柔性显示面板。
15.根据权利要求1的显示装置,其中所述显示面板是有机发光显示面板。
16.根据权利要求1的显示装置,其中所述显示面板是液晶显示面板。
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