CN105204674B - 一种触控显示模组 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种触控显示模组，其包括一盖板，一上偏光片，一下偏光片，一上基板以及一下基板，上基板与下基板位于上偏光片与下偏光片之间，上基板与下基板之间夹持有液晶层，该触控显示模组进一步包括一第一电极层和一第二电极层，位于第一电极串上的第一导电单元与位于第二电极串上的第二导电单元互补设置。该触控显示模组可有效降低纳米银线所带来的雾度问题。本发明触控显示模组具有工艺简单，显示效果好等优点。

Description

一种触控显示模组

【技术领域】

本发明涉及触控技术领域，特别涉及一种触控显示模组。

【背景技术】

在传统智能手机，如iphone等的电容式触控显示模组中，触控电极的材料通常为氧化铟锡(简称为ITO)。ITO的透光率很高，导电性能较好。但随着触控显示模组尺寸的逐步增大，特别是应用于15寸以上的显示模组时，ITO的缺陷越来越突出，其中最明显的缺陷就是ITO的面电阻过大，价格昂贵，无法保证大尺寸触控显示模组良好的导电性能与足够的灵敏度，也无法适用于电子产品不断低价化的发展趋势。

另外，在制造方法上，原来的ITO需要真空腔、较高的沉积温度和/或高退火温度以获得高传导性，造成ITO的整体制作成本非常昂贵。而且，ITO薄膜非常脆弱，即使在遇到较小物理应力的弯曲也非常容易被破坏，因此在可穿戴设备逐渐崛起的新兴产品市场的浪潮下，ITO材料作为导电材料已无法不能应付市场的需求而逐渐被淘汰。

鉴于ITO存在的价格昂贵，电阻高，工艺复杂，抗损性能差，光学表现欠佳等缺点，要使触控产业更加快速的发展，那么，我们确实急切需要寻找一种新的材料来替代ITO，这时，业界不得不把目光投向另一种替代ITO的材料—纳米银线(silver nano wires，简称SNW)。SNW是诸多ITO替代材料目前最为成熟的一种。纳米银线具有银优良的导电性，同时由于其纳米级别的尺寸效应，使得其具有优异的透光性与耐曲挠性，因此可用作为优选地替代ITO作为触控电极的材料。

然而，由于纳米银线的反光率较高，采用纳米银线导电膜作为触控电极时，触控显示模组在视觉上会出现白雾现象，SNW离人眼越近，反光越明显，雾度问题也就越突出。特别是在双层电极结构中，当两层电极材料均为SNW时，这种雾度问题会更为严重。

总地来说，纳米银线导电材料的出现给触控产业带来了曙光，但如何去克服纳米银线存在的雾度问题，则还值得业界进一步研究。

【发明内容】

为克服现有纳米银线替代ITO作为新的导电材料存在雾度严重等问题，本发明提供了一种新式触控显示模组。

本发明提供一种触控显示模组，该触控显示模组包括盖板，上偏光片，下偏光片，上基板以及下基板，上基板与下基板位于上偏光片与下偏光片之间，上基板与下基板之间夹持有液晶层，触控显示模组进一步包括第一电极层和第二电极层，第一电极层与第二电极层包括多个在第一方向上平行排列的第一电极串与多个在第二方向上平行排列的第二电极串，各第一电极串包括多个第一导电单元与多个第一导接线，各第一电极串上的第一导电单元之间通过多个第一导接线在第一方向上串联，两两相邻的第一导电单元界定一第一镂空区，各第二电极串包括多个第二导电单元与多个第二导接线，各第二电极串上的第二导电单元之间通过多个第二导接线在第二方向上串联，第一电极层与第二电极层材料为纳米银线导电层，第二导电单元位于第一镂空区在第二电极层上的垂直投影区，纳米银线导电层包括基质及分布于基质中的多条纳米银线，多条纳米银线相互搭接形成导电网络，第一镂空区及第一导电单元一体成型而成，两者的邻接处藉由基质隔离，第一镂空区与第一导电单元邻接处的基质中包括复数条纳米级通道，纳米级通道为基质内的纳米银线被***化移除后所形成，纳米银线的线径小于500nm，且纳米银线的线长与线径之比大于10，第一电极串与第二电极串由基质与纳米银线填满。

优选地，第二导电单元与第一导电单元形状互补。

优选地，盖板包括一触控操作面与元件安装面，第一电极层设置在元件安装面与第二电极层之间，第二导电单元的面积大于第一导电单元的面积。

优选地，第二导电单元面积为A，第一导电单元面积为B，2≤A/B≤5。

优选地，盖板包括一触控操作面与元件安装面，第一电极层设置在盖板元件安装面上，第二电极层设置在上基板或下基板或上偏光片或下偏光片表面。

优选地，第一电极层和第二电极层均设置在上偏光片上或均设置在上基板上；或第一电极层设置在上偏光片上，第二电极层设置在上基板或下基板或下偏光片表面。

优选地，第一电极层与第二电极层两侧设置增粘层，平整层，光学匹配层之中的一层或多层。

优选地，所述纳米银线导电层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，所述纳米银线导电层的厚度为50nm—200nm，折射率为1.35—1.8。

优选地，第一电极层与第二电极层通过双边走线连接至柔性电路板，该走线材料为纳米银线导电层且与该走线与所连接的第一电极层或第二电极层一体成型。

优选地，两两相邻的第二导电单元界定一第二镂空区，第一镂空区与第二镂空区内设置有补偿电极，该补偿电极材料为纳米银线导电层。

优选地，两第一电极串之间或两第二电极串之间的补偿电极相互联通或彼此独立设置。

优选地，只将第一镂空区与第一导电单元邻接边缘中的纳米银线***化移除。与现有技术相比，本发明触控显示模组的触控电极是通过将纳米银线溶液涂布成纳米银线导电层后，经过工艺处理所形成。纳米银线之间通过搭接形成导电网络，纳米银线导电层作为触控电极导电材料具有价格低，电阻低，挠性好等优点，尤其是纳米银线导电层非常薄，其能以不同型材作为承载层，其在一定程度上使触控显示模组变得更薄成为可能。此外，本发明中，第二电极层形成于上偏光片上，上偏光片上即作为第二电极层的承载层，又起到了调光作用，其减少了第二电极层承载层，在整体上使触控显示模组变得更加轻薄。特别地，本实施例中，，第一导电单元位于第二镂空区在第一电极层上的垂直投影区内，第一电极层与第二电极层互补设置，从触控显示模组的正面的叠加效果来看，相当于用一层电极实现了两层电极的配置。这样，光线穿过触控显示模组时，其所穿过的电极层均为1层，光线穿过的介质相同，介质折射率大体保持不变，光线分布相对均匀，其可有效降低光线的折射与散射，从而降低纳米银线的雾度，提高透光性，使得触控显示模组有较好的光学表现。

特别地，在本实施例中，第二导电单元的面积大于等于第一导电单元的面积，在满足此条件的状态下，第二导电单元可以有效地屏蔽来自触控显示模组下方的干扰信号，其使得触控显示模组触控精度与触控稳定度得到进一步提升。

在第一电极层与第二电极层互补设置的情况下，其对工艺的精度非常高的要求，尤其是在第一电极串或第二电极串的线宽非常小的情况下，传统的ITO导电材料所制作的电极图案难以要达到此精度要求，就算可以，其则必须采用黄光工艺，黄光工艺制程复杂，设备成本高，其在一定程度上阻碍了触控电极互补的实现，而本实施例中触控电极采用纳米银线导电层，其在满足精度的前提下可以采用简单的涂布或压印工艺代替传统ITO黄光工艺，其简化了触控显示模组制作工艺的同时，设备成本降低，其使得更多的生产企业能够进入触控显示模组制造业。

总的来说，本实施例中的触控显示模组光学表现佳，制造成本低，触控灵敏度好等优点，其具有非常好的产业前景。

【附图说明】

图1是本发明纳米银线薄膜的截面结构示意图。

图2是本发明纳米银线薄膜的平面示意图。

图3是本发明第一实施例触控显示模组层状结构剖面示意图，其包括一第二电极层与一第一电极层。

图4是图3中第一电极层的平面示意图，该第一电极层包括多个第一电极串。

图5是图3中第一电极层与第二电极层叠加效果的平面结构示意图。

图6是图4中第一电极层的走线结构示意图。

图7是图4中第一第一电极串的变形结构一的结构示意图。

图8是图4中第一第一电极串的另一变形结构的结构示意图。

图9是本发明第二实施例触控显示模组层状结构剖面示意图。

图10是本发明第三实施例触控显示模组层状结构剖面示意图。

图11是本发明第四实施例触控显示模组层状结构立体示意图，该触控显示模组包括一第一电极层与一第二电极层，该第一电极层上设置有第一补偿电极。

图12是图11中第一电极层的平面示意图。

图13是图11中第一电极层变形结构一平面示意图。

图14是图13中第一电极层和第二电极层叠加效果的平面示意图。

图15是图11中第一电极层变形结构二平面示意图。

图16是图15中第一电极层和第二电极层叠加效果的平面示意图。

图17是图11中第一电极层变形结构三平面示意图。

图18是图11中第一电极层变形结构四平面示意图。

图19是本发明第五实施例触控显示模组结构示意图，其进一步包括一增粘层。

图20是本发明第六实施例触控显示模组结构示意图，其进一步包括一平整层。

图21是本发明第七实施例触控显示模组结构示意图，其进一步包括一光学匹配层。

图22是本发明第八实施例触控显示模组结构示意图，其进一步包括一增粘层，一平整层与一光学匹配层。

【具体实施方式】

为了使本发明的目的，技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施实例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

请参阅图1与图2，系纳米银线导电薄膜800的剖切结构示意图，其包括衬底807和制作在衬底807上的纳米银线导电层805，纳米银线导电层805包括嵌入在基质803中的多根纳米银线801，纳米银线801排布在基质803中相互搭接形成导电网络。纳米银线801(silvernano wires，简称SNW)的线长为10-300μm，优选20-100μm，最好其长度20-50μm，纳米银线801的线径(或者说线宽)小于500nm或小于200nm，100nm，优选为小于50nm，且其长宽比(线长与线径之比)大于10，优选大于50，更优选大于100。

衬底807一般为透明绝缘材料，可以是玻璃、聚酰亚胺(Polyimide，PI)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等，但并不以此为限。

银在一般状态下为银白色金属，且为不透明材料，导电性极佳。而银制成纳米银线801时，纳米银线801具有良好的透光率和极佳的导电性，能够很好的运用于触控面板的触控电极。

基质803是指含纳米银线801的溶液在经过涂布等方法设置在衬底807上，经过加热烘干使得易挥发的物质挥发后，留在衬底807上的非纳米银线物质。纳米银线801散布或嵌入其中，形成导电网络，部分纳米银线801从基质803材料中突出。纳米银线801依靠基质803形成纳米银线导电层805，基质803可以保护纳米银线801免受腐蚀、磨损等外界环境的影响。

纳米银线导电层805的厚度约为10nm—5μm，优选为20nm—1μm，更优为50nm—200nm。在一些实施例中，纳米银线导电层805的折射率为1.3—2.5，更优为1.35—1.8。

含纳米银线801的溶液是指，纳米银线801分散在特定的溶剂里而形成的悬浮溶液，该溶剂可以是水、水溶液、有机溶剂、无机溶剂、离子溶液、含盐溶液、超临界流体、油或其混合物等。该溶剂里还含有其它添加剂，如分散剂、表面活性剂、交联剂、润湿剂或增稠剂，但不以此为限。

此外，可通过选择适当的基质803材料来调整纳米银线导电层805的光学特性，特别是解决雾度问题。例如，可以将基质803调整为具有期望的折射率、组成元素和一定的厚度，都可以有效地减少反射损耗、眩光影响、雾度。

雾度是指由于纳米银线导电层805中的纳米银线801表面光漫射造成的云雾状或混浊的外观。屏幕的雾度问题会导致在室外场景光线照射的情况下，屏幕反射光强烈，严重的时候会使得用户看不清屏幕。

纳米银线导电层805的透光率或清晰度可由以下参数定量的限定：透光率和雾度。透光率是指通过介质传输的入射光的百分比，纳米银线导电层805的透光率至少为90％，甚至可以高达91％-95％。雾度是光漫射的指数，雾度是指入射光中分离出来并在传输的过程中散射的光的数量百分比。透光率在很大程度上是透光介质的性质，与之不同的是，雾度经常和产品有关，且典型地是由表面粗糙度和介质中的嵌入粒子或组份的不均匀性导致的。在本发明的实施例中雾度不会超过3％，甚至可以达到不超过1.5％。

请参阅图3，本发明的第一实施例的触控显示模组10包括一盖板11和一LCD显示模组90，LCD显示模组90从上至下(在所有实施例中，上、下、左右等位置限定词仅限于指定视图上的相对位置，而非绝对位置)包括一上偏光片12，一上基板14，一液晶层15，一下基板17和一下偏光片18，盖板11包括一触控操作面与一元件安装面，其触控操作面用于手指或触控笔等进行触控操作，元件安装面则用于安装触控电极元件或显示模组等，本实施例中盖板11上表面为触控笔或手指的触控操作面，盖板11下表面为元件安装面，其上布设有一第一电极层13，上偏光片12的下表面设置有一第二电极层16，即盖板11和上偏光片12分别作为第一电极层13和第二电极层16的承载层,第一电极层13和第二电极层16分别形成了触控显示模组10在两个不同方向上的触控电极。

盖板11材质可以是玻璃，强化玻璃，蓝宝石，PEEK(polyetheretherketone聚醚醚酮),PI(Polyimide聚酰亚胺)，PET(polyethylene terephthalate聚对苯二甲酸乙二醇酯),PC(聚碳酸酯聚碳酸酯),PES(聚丁二酸乙二醇酯,PMMA(聚甲基丙烯酸甲酯polymethylmethacrylate)及其任意两者的复合物等材料。

上偏光片12与下偏光片18主要功能是过滤掉杂光，眩光等等，来提高颜色对比度和最大的视觉舒适感。上偏光片12的下表面由于要涂刷、涂布形成纳米银线导电层805，所以上偏光片12优选为可饶性柔性材料制成，是指在工业上具有一定强度并具有一定可挠性的材料，包括但不限定于PI(聚酰亚胺)，PC(聚碳酸酯),聚醚砜(PES),聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、压克力、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚酰胺(PA)、聚苯并咪唑聚丁烯(PB)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚酯(PE)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚酰亚胺、聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚苯乙烯(PS)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨酯(PU)或聚氯乙烯(PVC)等之任意一种或任意几种组合。

上基板12与下基板18主要是用来加持液晶层15。其材料是玻璃，但不限定于玻璃。

请参阅图4和图5，第一电极层13包括多个在第一方向上(以下简称X方向)平行等间距排列的第一电极串131。第一电极串131包括多个第一导电单元133，第一导电单元133为菱形，第一导电单元133之间通过多个第一导接线135实现串联，在两两相邻的第一导电单元133之间包括一第一镂空区137。

第二电极层16同样包括多个在第二方向上(以下简称Y方向)平行等间距排列的第二电极串161，第二电极串161包括多个第二导电单元163，第二导电单元163为菱形，第二导电单元163之间通过多个第二导接线165实现串联，在两两相邻的第二导电单元163之间包括一第二镂空区167。本实施例中X与Y方向正交，但X和Y夹角角度不作限定。

第一电极串131以及第二电极串161分别为纳米银导电层805通过激光蚀刻，图案化后形成，亦可采用其他的蚀刻方式，如黄光工艺、电弧高频感应蚀刻等。亦可将纳米银线溶液通过印刷、卷对卷(Roll-to-Roll)，压印方式直接形成。以下以第一电极层13为例来对触控电极的工艺做一个叙述，第一电极层13制作工艺如下：

步骤一：将纳米银线801溶液涂布在第一基板14的表面，形成纳米银线导电层805。该涂布方式可以但不限定为喷墨，撒播，凹版印刷，凸版印刷，柔印，纳米压印，丝网印刷，刮刀涂布，夹缝式涂布(slot die coating)，旋转涂布，棒状涂布，滚筒涂布，线棒涂布，浸渍涂布。

步骤二：通过激光镭射将纳米银线导电层805蚀刻形成相应的纳米银线801电极图案；由于纳米银线导电层805为透明基质803中嵌入了许多的纳米银线801，部分纳米银线801一端位于基质803内部，另一端凸起于基质803表层，在激光镭射工艺中，激光照射在纳米银线导电层805上，由于激光完全穿透基质803，而无法穿透非完全透明的纳米银线801，凸起于基质803表面的纳米银线801在接收到激光照射的能量后被气化，留下复数纳米级通道(图未示)，同时，位于基质803层内部的纳米银线801气化后经由所述的复数纳米级通道传输离开基质803，这样，便可以在纳米银线导电层805中蚀刻出对应的导电区——第一电极串131所在区域与非导电区——第一镂空区137，第一镂空区137并非完全镂空，只是该区域内的SNW被气化，只剩下基质803。由于第一镂空区137内还保留有基质803，其使得第一镂空区137内的材质与第一电极串131的材质较为接近，其折射率也相近，故，其使得整个触控面板10的光学效果表现较佳，克服了光线射入触控面板10时，因为界面材质折射率差异大而引起的光线不均匀以及触控电极图案浮现的问题。当然，在形成第一电极层13图案的过程中，也可以直接将第一镂空区137完全蚀刻掉，即第一镂空区132内的纳米银线导电层805完全被蚀刻掉，无基质803存在。也可只将第一镂空区132与第一导电单元133邻接边缘中的纳米银线801激光蚀刻掉，只留下基质803，即将第一导电单元133与第一镂空区137电性隔离。

从触控显示模组10的正面看过去，第一电极层13上的第一导电单元133与第二电极层16上的第二导电单元163分别在同一平行面上的垂直投影无重叠区域，也就是说，第二导电单元163位于第一镂空区137在第二电极层16上的垂直投影区，第一导电单元133位于第二镂空区167在第一电极层13上的垂直投影区，第二导电单元163位于第一镂空区137在第二电极层16上的垂直投影区内。第一导电单元133的形状根据两两相邻的第二导电单元163所确定的第二镂空区167形状设置，也就是第一导电单元133与第二导电单元163互补设置。从触控显示模组10的正面的叠加效果来看，相当于用一层电极实现了两层电极的配置。

第一导电单元133与第二导电单元163互补设置，假定第二导电单元163的面积为A，第一导电单元的133的面积为B，第二导电单元163的面积大于等于第一导电单元133的面积，即A≥B，最佳地，1≤A/B≤25，优选1.1≤A/B≤9，特别优选为2≤A/B≤5或A/B＝4。当第二导电单元163的面积大于第一导电单元133的面积时，第二导电单元163可以有效地屏蔽来自触摸屏10下方显示模组的干扰信号。在满足1≤A/B≤25或的条件下，其屏蔽效果非常好。在满足1.1≤A/B≤9或2≤A/B≤5或A/B＝4的时候，其屏蔽效果最佳。

请参阅图6，本发明触控显示模组10还包括连通触控电极与外部柔性电路板(简称FPC)的走线139，此处以第一电极层13为例来进行说明(第二电极层16同样适用)，走线139将第一电极串131电性连接至FPC，在本实施例中的采用的是双边走线139，双边走线139包括第一走线1391和第二走线1393均位于盖板11上，第一走线1391和第二走线1393的一端分别与第一电极串131两端电性连接，另一端均电性连接至FPC，也就是同一第一电极串131通过了第一走线1391与第二走线1393连接到了FPC，其采用双边走线139可以加强传输信号，减弱信号衰减，同时第一走线1391和第二走线1393的其中之一断裂，触控显示模组10也仍能实现信号传输。

第一走线1391和第二走线1393宽度大约为10um—35um,两第一走线1391，两第二走线1393线距为10um-35um，因此走线139的宽度和间距都比较小，走线139在第二电极层16和第一电极层13周围所占的区域很小，在触控显示模组10面积不变的情况下，其使得可触控区域面积增加。走线139材料采用纳米银线导电层805等透明导电材料时，盖板11的两边无需做边框来遮蔽周围区域的走线139，其可触控区域增加，走线139区域减少，因此盖板11至少两边可以做成无边框设计，走线139区域趋近于盖板11的边缘区域，用户不太会触控到，无边框触控显示模组10使得用户视觉上更开阔，增加用户体验。走线139可以与第一电极层13或第二电极层16一体成型制作，即在同一道工序中采用相同工艺制作形成。

与现有技术相比，本发明触控显示模组10的触控电极是通过将纳米银线801溶液涂布成纳米银线导电层805后，经过工艺处理所形成。纳米银线801之间通过搭接形成导电网络，纳米银线导电层805作为触控电极导电材料具有价格低，电阻低，挠性好等优点，尤其是纳米银线导电层805厚度非常薄，其能以不同型材作为承载层，其在一定程度上使触控显示模组10变得更薄成为可能。此外，本发明中，第二电极层16形成于上偏光片12上，上偏光片12上即作为第二电极层16的承载层，又起到了调光作用，其减少了第二电极层16的承载层，在整体上使触控显示模组10变得更加轻薄。特别地，本实施例中，第一导电单元133位于第二镂空区167在第一电极层13上的垂直投影区内，第一电极层13与第二电极层16互补设置，从触控显示模组10的正面的叠加效果来看，相当于用一层电极实现了两层电极的配置。这样，光线穿过触控显示模组10时，所穿过的电极层数相同，介质折射率大体保持不变，光线分布相对均匀，其可有效降低光线的折射与散射，从而降低纳米银线801的雾度，提高透光性，使得触控显示模组10有较好的光学表现。

特别地，在本实施例中，第二导电单元163的面积大于等于第一导电单元133的面积，在满足此条件的状态下，第二导电单元163可以有效地屏蔽来自触控显示模组10下方的干扰信号，其使得触控显示模组10触控精度与触控稳定度得到进一步提升。

在第一电极层13与第二电极层16互补设置的情况下，其对工艺的精度非常高的要求，尤其是在第一电极串131或第二电极串161的线宽非常小的情况下，传统的ITO导电材料所制作的电极图案难以要达到此精度要求，就算可以，其则必须采用黄光工艺，黄光工艺制程复杂，设备成本高，其在一定程度上阻碍了触控电极互补的实现，而本实施例中触控电极采用纳米银线导电层805，其在满足精度的前提下可以采用简单的涂布或压印工艺代替传统ITO黄光工艺，其简化了触控显示模组10的制作工艺的同时，设备成本降低，其使得更多的生产企业能够进入触控显示模组10制造业。

总的来说，本实施例中的触控显示模组10光学表现佳，制造成本低，触控灵敏度好等优点，其具有非常好的产业前景。

本实施例还可以包括以下变形：

第二电极层16可设置在上偏光片12的上表面或下表面，由于纳米银线801离人眼越近，反光越明显，雾度问题也就越突出，故，在保证触控灵敏度的情形下，第二电极层16也可设置在下偏光片18的上表面或下表面。

请参阅图7，第一电极串131的变形结构一如下：该第一电极串231包括两条子电极串232，两条子电极串232一端电性连接，子电极串232中的多个第一导电单元233通过第一导接线235串联，两两相邻的第一导电单元233之间同样包括一第一镂空区237。由于一第一电极串231包括两条子电极串232，故，即使其中一条因静电等原因出现断线现象，其所在的第一电极串231仍能够正常工作。

单条第一电极串231包括的子电极串232的条数不限定于一条或者两条，其还可以是多条。

请参阅图8，第一电极串131的另一变形结构系在其变形一的基础上在两子电极串332之间设置有多个第一导接线335，该第一导接线335串接于Y方向上相邻的两第一导电单元333。

第一导电单元133,233,333的形状不限定于本实施例中所描述的菱形，其也可以是矩形，三角形、六边形、多边形、波浪形或不规则图形等其他任意形状。第一电极串131的变形结构同样适用于第二电极串161。本发明中所有关于第一电极层13和/或第二电极层16的图案可以往任意方向延展。

第一电极层13与第二电极层16其中之一材料可选择使用其他材料，如氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化锡锑(Antimony Doped Tin Oxide，ATO)、氧化铟锌(IndiumZinc Oxide，IZO)、氧化锌铝(Aluminum Zinc Oxide，AZO)、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、透明导电高分子材料、石墨烯或者碳纳米管中的任意一种材料或任意几种材料结合。在本实施例中最佳地，第一电极层13选择使用ITO材料，第二电极层16采用纳米银线导电层805。因为纳米银线801的雾度问题比较严重，而ITO不存在此问题，故，将ITO材料做在上层靠近触控面，纳米银线导电层805做在下层远离触控面，其在一定程度上解决纳米银线801的雾度问题。

走线139还可以采用不透明导电材料,在走线139靠近元件安装面侧印刷一层装饰层(图未视)，将不透明的走线覆盖掉，使触控显示模组10整体更加美观而不会感觉走线凌乱。

装饰层可选用油墨，光阻，非导电金属，PC-PMMA等复合材料，这些材料不透明，其可用于遮蔽走线139或触控显示模组10其他组件时，触控显示模组10为有边框触控显示模组10。

请参阅图9，本发明的第二实施例的触控显示模组20与第一实施例触控显示模组10的区别之处仅在于：第二电极层26设置在了下基板27的下表面，至此，触控显示模组20从上至下依次包括一盖板21，一第一电极层23，一上偏光片22，一上基板24，一液晶层25，一下基板27，一第二电极层26以及一下偏光片28。

本实施例的变形结构可以是：第二电极层26设置在下基板27的上表面，其也可以设置在上基板24的上表面或者下表面。

请参阅图10，本发明的第三实施例的触控显示模组30与第一实施例触控显示模组10的区别之处仅在于：第二电极层36设置在了下偏光片38的下表面，第一电极层33设置在了上偏光片32的下表面。至此，触控显示模组20从上至下依次包括一盖板31，一上偏光片32，一第一电极层33，一上基板34，一液晶层35，一下基板37，一下偏光片38以及一第二电极层36。

本实施例的变形结构可以是：第二电极层36设置在下偏光片38的上表面或下表面，第一电极层33设置在上偏光片32的上表面或下表面。概括地说，第二电极层36和第一电极层33可从偏光片32上表面和/或下表面，上基板34上表面和/或下表面，下基板37上表面和/或下表面，下偏光片38上表面和/或下表面中选择两面来最为其承载层。

请参阅图11和12，本发明的第四实施例的触控显示模组40与第一实施例触控显示模组10或实施例二触控显示模组20的区别之处仅在于：该触控显示模组40第一电极层43进一步包括多个第一补偿电极438，第二电极层46进一步包括多个第二补偿电极468，该第一补偿电极438布设在盖板41上，其位于第一电极层43上第一导电单元433之间所形成的第一镂空区437内，第一导电单元433与第一补偿电极438之间无重叠区域，即第一导电单元433与第一补偿电极438之间接设置有适当的间距，最佳地，第一补偿电极438根据第一镂空区437的形状设置，即第一补偿电极438与第一导电单元433互补。位于两第一电极串431之间的多个第一镂空区437内的第一补偿电极438相互联通。第一补偿电极438的面积小于第二导电单元463的面积，同样的，第二补偿电极468的面积小于第一导电单元433的面积。第一补偿电极438和第二补偿电极468厚度分别与第一电极层43以及第二电极层46保持一致。

第一补偿电极438可通过在盖板41上进行第一电极串431生产制作工艺时，同时通过相同的生产工艺布设形成。

第一补偿电极438与第二补偿电极468材质与第一电极层43与第二电极层46的材质保持一致，其均是纳米银导电层805通过激光蚀刻，图案化后所形成，亦可采用其他的蚀刻方式，如黄光工艺、电弧高频感应蚀刻等。亦可将纳米银线溶液通过印刷、卷对卷(Roll-to-Roll)，压印方式直接形成。

与现有技术相比，触控显示模组40的第一电极串431之间的第一镂空区437与第二电极串461上的第二镂空区467上可以设置相应的补偿电极：第一补偿电极438和第二补偿电极468，补偿电极的材质与触控电极的材质相同。该补偿电极的设置使触控电极所在界面的不同区域的材质保持一致，其克服了当光线穿过触控面板时，容易受到不同界面材质折射率的影响，造成触控电极图案容易浮现与光线亮度不均匀等的问题，其使得触控显示模组40有较佳的光学表现。

请参阅图13和图14，第一补偿电极438还可以包括变形结构一，该变形结构与其不同之处仅在于：位于两第一电极串531之间的多个第一补偿电极538之间相互独立，彼此没有联通，位于两第二电极串561之间的多个第二补偿电极568也相互独立。

请参阅图15和图16，第一补偿电极438还可以包括变形结构二，该变形结构与其不同之处仅在于：第一补偿电极638的面积大于第二导电单元663的面积，同样的，第二补偿电极668的面积大于第一导电单元633的面积，即从电容式触控显示模组40的正面看过去，相邻第一补偿电极638与第二补偿电极668包括一交叠区域670，本变形实施例也可在保证第一补偿电极638的面积大于第二导电单元663的面积，第二补偿电极668的面积大于第一导电单元633的面积的情况下，将相邻第一补偿电极638与第二补偿电极668设置为没有交叠区域670的情形。

请参阅图17，第一补偿电极438还可以包括变形结构三，该变形实施例与第一补偿电极438变形结构二不同之处仅在于：位于两第一电极串731之间的第一补偿电极738之间相互联通。

请参阅图18，第一补偿电极438还可以包括变形结构四，该变形实施例与其不同之处仅在于：该第一补偿电极838设置在第一镂空区837与第二镂空区867的交叠区870中。

第一补偿电极438,538,638,738,838也可以是氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)、氧化锡锑(Antimony Doped Tin Oxide，ATO)、氧化铟锌(IndiumZinc Oxide，IZO)、氧化锌铝(Aluminum Zinc Oxide，AZO)、聚乙撑二氧噻吩(PEDOT)、透明导电高分子材料、石墨烯或者碳纳米管等等。最佳地，第一补偿电极438,538,638,738,838材料和第一电极层43保持一致。

第一补偿电极438及其变形实施例的结构与工艺同样适用于第二补偿电极468，生产厂商根据需要第一补偿电极438和/或第二补偿电极468。

请参阅图19，在本发明第五实施例触控显示模组50与第一实施例触控显示模组10或第二实施例触控显示模组20或第三实施例触控显示模组30或第四实施例触控显示模组40的不同之处仅在于：在盖板51与第一电极层53之间，以及上偏光片52下表面与第二电极层56之间设置一增粘层581，故触控显示模组50从上至下包括一盖板51，一增粘层581，一第一电极层53，一上偏光片52，又一增粘层581，一第二电极层56，上基板54,液晶层55，下基板57以及一下偏光片58。以下以上偏光片52与第二电极层56之间设置增粘层581来对增粘层581进行说明(盖板51与第一电极层53之间设置增粘层581同样适用以下叙述)：第二电极层56贴附在上偏光片52上，在上偏光片52为可饶性柔性基板时，上偏光片52由于受热或温度变化时产生形变而让第二电极层56无法良好的全面的覆盖在上偏光片52的其中一表面上，在第二电极层56与上偏光片52之间涂覆一层增粘层581，增粘层581的配置以减小可挠性基板在成膜制造工艺中产生翘曲的程度，增强纳米银线导电层805和上偏光片52之间的附着力。

所述增粘层581的材料可以选自高分子聚合物、绝缘材料、树脂、透明光学胶、氧化物，类光阻等，包括但不限于：聚乙炔、聚苯胺、聚芳撑、聚噻吩、石墨烯、并五苯、聚苯撑醚(PPE)、聚对苯撑乙炔(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚芳醚砜、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)、氮化硅、二氧化硅等物质或它们的任意组合。

所述增粘层581以流体的形式涂覆在上偏光片52上方，所述流体可以是：水、水溶液、离子溶液、超临界流体、等离子体、油或者它们的任意组合。包括但不限于：水、丙酮、乙酸乙酯、乙醇、乙酸丁酯、戊醇、酚醛树脂、醇酸树脂、氢氧化钠、异丙醚(i-丙醚)、异丙醇、甲基乙基酮(或者MEK)、甲酸甲酯、甲基正丁酸酯、正丁醇、辛烷、石油醚、丙醇或者它们的任意组合。表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂也可以包括在流体中。

所述增粘层581流体涂覆在上偏光片52上方的方法包括：溅镀、静电喷涂、逆转辊涂布、凹槽式涂布、夹缝式涂布、压印、热转印、迈耶棒(meyer rod)涂覆、旋涂、丝网印刷、照相凹版印刷、平板印刷、胶版印刷、喷墨印刷、凹版印刷，或者它们的任意组合。

与现有技术相比，由于成膜制造工艺中常伴随着温度的变化，而当上偏光片52为可挠性基板时拥有较大的膨胀系数，升温、降温的过程中常会有显著的体积变化，从而使可挠性上偏光片52产生第二弯曲方向的翘曲或变形，进而造成曝光或是聚焦不良的问题，增粘层581的配置以减小可挠性基板在成膜制造工艺中产生翘曲的程度，增强纳米银线导电层805和基材之间的附着力。

增粘层581除了以流体形式涂覆在上偏光片52上之外，其本身还可以是固体薄膜的形式，即通过对固体薄膜式的增粘层581以加热滚压等的形式直接覆盖于上偏光片52上方，这时增粘层581的材料包括但不限于：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)、玻璃纸等。

在本触控板面板50的变形中，可只在上偏光片52上设置增粘层581，或只在盖板51上设置增粘层581。

请参阅图20，本发明第六实施例触控显示模组60与第一实施例触控显示模组10或第二实施例触控显示模组20或第三实施例触控显示模组30或第四实施例触控显示模组40的不同之处仅在于：本实施例中触控显示模组60在第一电极层63与第二电极层66上设置一平整层683，故，触控显示模组从上至下包括一盖板61，一第一电极层63，一平整层683，一上偏光片62，一第二电极层66，又一平整层683，上基板64,液晶层65，下基板67以及一下偏光片68。以下以第一电极层63上设置平整层683来对平整层683进行说明(第二电极层66上设置平整层683同样适用以下叙述)：采用纳米银线导电层805材质的第一电极层63涂布在盖板61下表面后，部分纳米银线从基质803材料中突出形成向上翘起的现象，整个第一电极层63的平整度较差，另外，基质803内部的纳米银线801之间也会存在上翘现象，其搭接不稳定，通过在第一电极层63上涂覆平整层683，并经过滚压工艺处理后，能够使纳米银线801之间的搭接面积增大从而提高纳米银线801的导电率和达到良好的表面平整度。所述平整层683位于第一电极层63上面，或优选的，第一电极层63在厚度方向上有部分嵌入平整层683中。

所述平整层683的材料可以选自高分子聚合物、绝缘材料、树脂、透明光学胶、氧化物，类光阻等，包括但不限于：聚乙炔、聚苯胺、聚芳撑、聚噻吩、石墨烯、并五苯、聚苯撑乙炔(PPE)、聚苯撑乙烯(PPV)、聚3，4-亚乙基二氧吩(PEDOT)、聚苯乙烯磺酸(PSS)、聚3-己基噻吩，(P3HT)、聚3-辛基噻吩(P3OT)、聚(芳醚砜)、聚C-61-丁酸-甲酯(PCBM)、聚[2-甲氧基-5-(2-乙基-己氧基)-1，4-苯撑乙烯](MEH-PPV)、氮化硅、二氧化硅、等物质或它们的任意组合。

所述平整层683可通过流体的形式涂覆在纳米银线801的第一电极层63上方，所述流体可以包括：水、水溶液、离子溶液、超临界流体、等离子体、油或者它们的任意组合。包括但不限于：水、丙酮、乙酸乙酯、乙醇、乙酸丁酯、戊醇、酚醛树脂、醇酸树脂、氢氧化钠、异丙醚(i-丙醚)、异丙醇、甲基乙基酮(或者MEK)、甲酸甲酯、甲基正丁酸酯、正丁醇、辛烷、石油醚、丙醇或者它们的任意组合。表面活性剂、分散剂、稳定剂或粘合剂也可以包括在流体中。

平整层折射率为1.1-1.6，优选地，平整层683由至少2层的光学膜组成，其中一层光学膜的折射率为1.1-1.6，另一层光学膜的折射率为1.8-2.7。

所述平整层683以流体形式涂覆在第一电极层63上方的方法与增粘层581基本相同。

与现有技术相比，表面设置有平整层683的触控显示模组60之触控电极导电率提升，并且能够获得良好的表面平整度。

平整层683除以流体形式涂布在第一电极层63上外，其也可以是固体薄膜的形式，即平整层683则可以通过对固体薄膜加热滚压的形式直接覆盖于第一电极层63上方，这时平整层683的材料包括但不限于：聚乙烯醇缩丁醛(PVB)、聚乙烯醇(PVA)、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、聚甲基丙烯酸甲脂(PMMA)、玻璃纸等。

在本触控板面板60的变形中，可只在感应基材层64上设置平整层683，或只在驱动基材层67上设置平整层683。

请参阅图21，本发明第七实施例触控显示模组60与第一实施例触控显示模组10或第二实施例触控显示模组20或第三实施例触控显示模组30或第四实施例触控显示模组40的不同之处仅在于：在盖板71与第一电极层73之间，以及上偏光片72下表面与第二电极层76之间设置一光学匹配层781，故触控显示模组70从上至下包括一盖板71，一光学匹配层781，一第一电极层73，一上偏光片72，又一光学匹配层781，一第二电极层76，上基板74,液晶层75，下基板77以及一下偏光片78。以下以上偏光片72与第二电极层76之间设置光学匹配层781来对光学匹配层781进行说明(盖板51与第一电极层53之间设置光学匹配层781同样适用以下叙述)：纳米银线801存在一定的雾度问题，为了使整个触控显示模组70达到最佳的显示效果，本变形实施例在触控显示模组70的第二电极层76与上偏光片72之间设置光学匹配层785，该光学匹配层785为一层低折射率的光学膜，其可以降低纳米银线801的反射，所述低折射率为折射率小于1.6，优选的为1.1～1.6，具体为1.1，1.25，1.32，1.38，1.46，1.50，1.52。光学匹配层785的光学膜厚度为小于或等于1/4波长奇数倍。在本实施变形方式中增加一光学匹配层785后，所述第一电极层13的雾度可降低至5％左右，优选地小于3％，2％，1.5％。

光学匹配层785可以为有机物或无机物，或有机-无机混合涂层。例如硅氧化物，氯氟化物，氟化镁，二氧化硅，氟化锂，氟化钠，氧化镁，硅酸盐，聚氨酯，PMMA，PVA，PVP，有机硅，氟聚合物，丙烯酸树脂，丙烯酸树脂+矽石纳米颗粒。

光学匹配层785的形成方式可以为物理沉积，化学沉积，真空镀膜，印刷，喷涂，柔印，纳米压印，丝网印刷，刮刀涂布，旋转涂布，棒状涂布，滚筒涂布，线棒涂布，浸渍涂布等任一种方式。

与现有技术相比，表面设置有光学匹配层785的触控显示模组70光学表现较佳。

所述光学匹配层785和第一电极层73的位置可以互换，即光学匹配层785可以设置在第一电极层73下表面，当光学匹配层785在第一电极层73下方时，其将纳米银线导电层805完全覆盖，其同时作为保护层防止纳米银线氧化，腐蚀等直接暴露在外的一系列问题。

请参阅图22，本发明第八实施例触控显示模组80与第一实施例触控显示模组10或第二实施例触控显示模组20或第三实施例触控显示模组30或第四实施例触控显示模组40的不同之处仅在于：第一电极层83与盖板81之间设置有增粘层881，第一电极层83远离触控操作面一侧设置有一光学匹配层885与一平整层883，平整层883位于第一电极层83与光学匹配层885之间。第二电极层86与上偏光片82之间设置有另一增粘层881，第二电极层86远离触控操作面一侧设置有另一光学匹配层885与另一平整层883，平整层883位于第二电极层86与光学匹配层885之间。

本实施例中可只选择在盖板81或上偏光片82设置一层增粘层881，一层光学匹配层885与一层平整层883。

生产厂商可根据需要选择增粘层881，光学匹配层885与平整层883之中的一层或多层均属于本发明的保护范围之内。此外，增粘层881和/或平整层883也可以是光学匹配层885，具有光学匹配层285的特性及效果。

以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的原则之内所作的任何修改，等同替换和改进等均应包含本发明的保护范围之内。

Claims (12)

1.一种触控显示模组，其特征在于，该触控显示模组包括一盖板，一上偏光片，一下偏光片，一上基板以及一下基板，所述上基板与所述下基板位于所述上偏光片与所述下偏光片之间，所述上基板与所述下基板之间夹持有液晶层，该触控显示模组进一步包括一第一电极层和一第二电极层，该第一电极层与所述第二电极层包括多个在第一方向上平行排列的第一电极串与多个在第二方向上平行排列的第二电极串，一第一电极串包括多个第一导电单元与多个第一导接线，一第一电极串上的所述第一导电单元之间通过多个第一导接线在所述第一方向上串联，两两相邻的第一导电单元界定一第一镂空区，一第二电极串包括多个第二导电单元与多个第二导接线，一第二电极串上的所述第二导电单元之间通过多个第二导接线在所述第二方向上串联，所述第一电极层与所述第二电极层材料为纳米银线导电层，所述第二导电单元位于所述第一镂空区在所述第二电极层上的垂直投影区,所述纳米银线导电层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，所述第一镂空区及所述第一导电单元一体成型而成，两者的邻接处藉由基质隔离，所述第一镂空区与所述第一导电单元邻接处的所述基质中包括复数条纳米级通道，所述纳米级通道为基质内的纳米银线被***化移除后所形成，所述纳米银线的线径小于500nm，且所述纳米银线的线长与线径之比大于10，所述第一电极串与所述第二电极串由所述基质与所述纳米银线填满。

2.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：第二导电单元与第一导电单元形状互补。

3.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：盖板包括一触控操作面与元件安装面，第一电极层设置在元件安装面与第二电极层之间，第二导电单元的面积大于第一导电单元的面积。

4.如权利要求3所述的触控显示模组，其特征在于：第二导电单元面积为A，第一导电单元面积为B，2≤A/B≤5。

5.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：盖板包括一触控操作面与元件安装面，第一电极层设置在盖板元件安装面上，第二电极层设置在上基板或下基板或上偏光片或下偏光片表面。

6.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：第一电极层和第二电极层均设置在上偏光片上或均设置在上基板上；或第一电极层设置在上偏光片上，第二电极层设置在上基板或下基板或下偏光片表面。

7.如权利要求1-6任一项所述的触控显示模组，其特征在于：第一电极层与第二电极层两侧设置增粘层，平整层，光学匹配层之中的一层或多层。

8.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：所述纳米银线导电层包括一基质及分布于所述基质中的多条纳米银线，所述多条纳米银线相互搭接形成导电网络，所述纳米银线导电层的厚度为50nm—200nm，折射率为1.35—1.8。

9.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：第一电极层与第二电极层通过双边走线连接至柔性电路板，该走线材料为纳米银线导电层且与该走线与所连接的第一电极层或第二电极层一体成型。

10.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：两两相邻的第二导电单元界定一第二镂空区，第一镂空区与第二镂空区内设置有补偿电极，该补偿电极材料为纳米银线导电层。

11.如权利要求10所述的触控显示模组，其特征在于：两第一电极串之间或两第二电极串之间的补偿电极相互联通或彼此独立设置。

12.如权利要求1所述的触控显示模组，其特征在于：只将所述第一镂空区与所述第一导电单元邻接边缘中的所述纳米银线***化移除。