CN105154834A - 一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 - Google Patents
一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105154834A CN105154834A CN201510561420.1A CN201510561420A CN105154834A CN 105154834 A CN105154834 A CN 105154834A CN 201510561420 A CN201510561420 A CN 201510561420A CN 105154834 A CN105154834 A CN 105154834A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- forging
- titanium
- target material
- cold bed
- sputtering target
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Forging (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
Abstract
一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,使用碘化法生产的纯度为99.9%以上的海绵钛为原料,采用电子束冷床炉熔炼获得高纯钛毛坯(纯度在99.95%以上),对钛毛坯铣面并精修磨后对钛方坯切头,再切成锻造毛坯所要求的尺寸,对锻造毛坯探伤,将合格的锻造毛坯加热至980~1020℃,采用三镦三拔对锻造毛坯进行锻造,在终拔时将锻件模锻成所需规格棒材,并对锻件退火后车除棒材表面氧化皮,去除两头的锻帽后再锯切成所需规格的小柱块;车光小柱块的两锯切端面,对底部内车铣,预留出边缘,对预留边缘倒角,再对另一端部开丝,进一步清理后得到圆柱形钛溅射靶材。本发明生产的靶材纯度不小于99.95%,晶粒尺寸控制在100μm以下,可满足溅射靶材的技术要求。
Description
技术领域
本发明涉及一种钛靶材的生产方法技术领域。
背景技术
溅射法是制备薄膜材料的主要技术之一,溅射沉积薄膜的原材料即为靶材。用靶材溅射沉积的薄膜致密度高,附着性好。从20世纪90年代以来,微电子行业新器件和新材料发展迅速,电子、磁性、光学、光电和超导薄膜等已经广泛应用于高新技术和工业领域,促使溅射靶材市场规模日益扩大。如今,靶材已蓬勃发展成为一个专业化产业。
纯钛溅射靶是在新兴的装饰镀膜、工模具镀膜、玻璃镀膜、半导体装置镀膜、电子器件镀膜、平面显示镀膜等领域而发展起来的。在众多规格的溅射靶中,圆柱形溅射靶在工业上应用最为广泛,特别是在半导体装置、电子器件、平面显示等领域用靶材纯度要求高,要求钛靶的质量纯度达到99.8%以上。靶材的纯度越高,溅射薄膜的性能越好;且靶材的晶粒尺寸必须控制在100μm以下。在合适的晶粒尺寸范围内,晶粒取向越均匀越好;晶粒尺寸相差较小的靶材,淀积薄膜的厚度分布也较均匀。由于靶材用高纯钛原材料的技术要求高,生产难度较大,国内还没有专业生产高纯钛靶材的公司和成熟技术。
目前,钛靶材主要由日本、美国和德国生产,我国钛靶材产业的研发则相对滞后。虽然国内也有一些研究院和厂家对靶材进行了研制和试生产,但高品质靶材仍处于理论研究和试制阶段,实际生产出的靶材的品质相对较低,大量高品质靶材仍需进口。
发明内容
本发明的目的在于解决现有技术的不足,提供一种生产的钛靶材的质量纯度不小于99.95%,靶材的平均晶粒尺寸不大于100μm,晶粒尺寸均匀一致,可满足高端溅射靶材的相关技术要求的圆柱形钛溅射靶材的生产方法。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:
一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,该方法包括以下步骤:
(1)用碘化法生产的纯度为99.9%以上的海绵钛作为原料,将海绵钛装进电子束冷床炉的进料器即阿基米德螺旋筒中,将进料器装至电子束冷床炉的进料***中,对电子束冷床炉的进料***及熔炼***抽真空,并对电子枪的扫描图形进行设置,至进料***和熔炼***的主熔炼室真空度≤0.02Pa时,开启进料***将海绵钛料加进主熔炼室熔炼冷床上,开启电子枪将原料熔化成为钛液,钛液流经初精炼冷床、主精炼冷床后,流进矩形拉晶坩埚,得到铸锭,将铸锭冷却出炉,即获得纯度为99.95%以上钛毛坯;
(2)对钛毛坯进行铣面后对表面进行精修磨,修磨完成后对钛方坯切头,将切头完成后的方坯切成锻造毛坯所要求的尺寸,对锻造毛坯进行超声波探伤,剔除有缺陷的锻造毛坯;
(3)将合格的锻造毛坯加热,加热温度为980~1020℃,采用三镦三拔工艺对锻造毛坯进行锻造,即初锻、初拔、中锻、中拔、终锻、终拔;在终拔工艺时用柱形模具将锻件模锻成所需规格棒材,并对锻件进行退火;
(4)车除经模锻后的棒材表面的氧化皮,将两头的锻帽去除后,再锯切成所需规格的小柱块;
(5)对小柱块的两锯切端面进行车光,取任一端面作为底面,并对底部进行内车铣,预留出边缘,内车铣完成后,对预留边缘倒角,再对另一端部开丝;
(6)将上述机加工完毕的柱块进行清理,得到圆柱形钛溅射靶材。
上述步骤(1)所述的电子束冷床炉的电子枪熔炼功率控制在900~1200kW,初精炼冷床的功率为150~250kW,主精炼冷床的功率为300~500kW,拉晶坩埚的拉晶速度为800~1200kg/h。
上述步骤(2)所述的铣面深度为3~5mm,对经过铣面后的四边进行45°倒角处理,经过切割后的锻造毛坯的高宽比为1.4~1.6。
上述步骤(3)所述的三镦三拔工艺,初锻要求变形量达80%以上,使晶粒充分破碎;对锻件的退火温度550~650℃,退火时间为120~360min。
上述步骤(5)所述对小柱块进行内车铣,内车的深度为2~4mm,边缘与内车铣面的过渡边角度为120~150°,边缘的倒角为45°。
本发明以提高海绵钛原料的品质为目标,结合电子束冷床炉熔炼提纯特性,设定特定的熔炼工艺,进行一次熔炼即可得到高纯钛基材;同时通过采用特定的镦拔工艺,保证靶材的晶粒尺寸。本发明经一次电子束冷床炉熔炼的钛靶材纯度高,可达99.95%以上,靶材平均晶粒度小于100μm。生产质量稳定可靠,生产过程简单,容易操作,可实现批量生产,有效解决了成品纯度低、成本过高等问题。
具体实施方式
实施例1
(1)用碘化法生产的纯度为99.9%以上的海绵钛作为原料;将海绵钛装进电子束冷床炉的进料器即阿基米德螺旋筒中,将进料器装至电子束冷床炉的进料***中,并对电子束冷床炉的进料***及熔炼***抽真空,并对电子枪的扫描图形进行设置,当进料***真空度≤0.2Pa、熔炼***的主熔炼室真空度≤0.02Pa时,开启进料***将海绵钛料加进主熔炼室熔炼冷床上,开启电子枪进行熔炼,电子枪熔炼功率控制在1000kW,初精炼冷床的功率为200kW,主精炼冷床的功率为400kW,拉晶坩埚的拉晶速度为1000kg/h,选择尺寸为1250mm×210mm方形结晶器进行浇铸,浇铸完成后对铸锭进行补缩,补缩结束后,对铸锭进行冲氩冷却,冷却时间为240min,待铸锭冷却后出炉,即可获得纯度为99.95%以上钛毛坯;
(2)用铣床对钛毛坯进行铣面,铣面深度为4mm,对经过铣面后的四边进行45°倒角处理,并对其表面进行精修磨,修磨完成后,用锯床对钛方坯进行切头。将切头完成后的方坯切成高300mm、宽200mm、长200mm的锻造毛坯,对锻造毛坯进行超声波探伤,如锻造毛坯中有缺陷,则不予采用;
(3)将锻造毛坯用电阻炉进行加热,加热温度为1000℃,加热时间为200min,加热完成后,在3t快锻机上采用“三镦三拔”工艺对锻坯进行锻造,所述“三镦三拔”工艺即初锻、初拔、中锻、中拔、终锻、终拔。初锻变形量达85%,使晶粒充分破碎。在终锻后的终拔工艺时用柱形模具进行模锻成直径Ф102×长度150~175mm的圆柱形棒材,并对棒材进行退火,退火温度650℃,退火时间为240min;
(4)对经模锻后的棒材用普通车床对棒材四周表面的氧化皮进行车除,去除后氧化皮后,将两头的“锻帽”去除后,再锯切成数控车床所需的直径Ф100×长度45mm的小柱块;
(5)用数控车床对小柱块两锯切端面进行车光,并取任一端面作为底面,并对底部进行内车铣,内车的深度为2mm,预留出边缘,边缘与内车铣面过渡边的角度为120°,边缘的倒角为45°。内车铣完成后,再对预留边缘进行倒角,再对另一端部进行开丝(开螺纹);
(6)对上述机加工完成的柱块进行清理,得圆柱形钛溅射靶材。
实施例2
(1)用碘化法生产的纯度为99.9%以上的海绵钛作为原料;将海绵钛装进电子束冷床炉的进料器即阿基米德螺旋筒中,将进料器装至电子束冷床炉的进料***中,并对电子束冷床炉的进料***及熔炼***抽真空,并对电子枪的扫描图形进行设置,当进料***真空度≤0.2Pa、熔炼***的主熔炼室真空度≤0.02Pa时,开启进料***将海绵钛料加进主熔炼室熔炼冷床上,开启电子枪进行熔炼,电子枪熔炼功率控制在1200kW,初精炼冷床的功率为250kW,主精炼冷床的功率为500kW,拉晶坩埚的拉晶速度为800kg/h,选择尺寸为1250mm×210mm方形结晶器进行浇铸,浇铸完成后对铸锭进行补缩,补缩结束后,对铸锭进行冲氩冷却,冷却时间为300min,待铸锭冷却后出炉,即可获得纯度为99.95%以上钛毛坯;
(2)用铣床对钛毛坯进行铣面,铣面深度为5mm,对经过铣面后的四边进行45°倒角处理,并对其表面进行精修磨,修磨完成后,用锯床对钛方坯进行切头。将切头完成后的方坯切成高320mm、宽200mm、长200mm的锻造毛坯,对锻造毛坯进行超声波探伤,如锻造毛坯中有缺陷,则不予采用;
(3)将锻造毛坯用电阻炉进行加热,加热温度为1020℃,加热时间为230min,加热完成后,在3t快锻机上采用“三镦三拔”工艺对锻坯进行锻造,所述“三镦三拔”工艺即初锻、初拔、中锻、中拔、终锻、终拔。初锻变形量达80%,使晶粒充分破碎。在终锻后的终拔工艺时用柱形模具进行模锻成直径Ф94×长度140~160mm的圆柱形棒材,并对棒材进行退火,退火温度600℃,退火时间为120min;
(4)对经模锻后的棒材用普通车床对棒材四周表面的氧化皮进行车除,去除后氧化皮后,将两头的“锻帽”去除后,再锯切成数控车床所需的直径Ф90×长度45mm的小柱块;
(5)用数控车床对小柱块两锯切端面进行车光,并取任一端面作为底面,并对底部进行内车铣,内车的深度为3mm,预留出边缘,边缘与内车铣面过渡边的角度为135°,边缘的倒角为45°。内车铣完成后,再对预留边缘进行倒角,再对另一端部进行开丝(开螺纹);
(6)对上述机加工完成的柱块进行清理,得圆柱形钛溅射靶材。
实施例3
(1)用碘化法生产的纯度为99.9%以上的海绵钛作为原料;将海绵钛装进电子束冷床炉的进料器即阿基米德螺旋筒中,将进料器装至电子束冷床炉的进料***中,并对电子束冷床炉的进料***及熔炼***抽真空,并对电子枪的扫描图形进行设置,当进料***真空度≤0.2Pa、熔炼***的主熔炼室真空度≤0.02Pa时,开启进料***将海绵钛料加进主熔炼室熔炼冷床上,开启电子枪进行熔炼,电子枪熔炼功率控制在900kW,初精炼冷床的功率为150kW,主精炼冷床的功率为300kW,拉晶坩埚的拉晶速度为1200kg/h,选择尺寸为1250mm×210mm方形结晶器进行浇铸,浇铸完成后对铸锭进行补缩,补缩结束后,对铸锭进行冲氩冷却,冷却时间为300min,待铸锭冷却后出炉,即可获得纯度为99.95%以上钛毛坯;
(2)用铣床对钛毛坯进行铣面,铣面深度为3mm,对经过铣面后的四边进行45°倒角处理,并对其表面进行精修磨,修磨完成后,用锯床对钛方坯进行切头。将切头完成后的方坯切成高280mm、宽200mm、长200mm的锻造毛坯,对锻造毛坯进行超声波探伤,如锻造毛坯中有缺陷,则不予采用;
(3)将锻造毛坯用电阻炉进行加热,加热温度为1100℃,加热时间为200min,加热完成后,在3t快锻机上采用“三镦三拔”工艺对锻坯进行锻造,所述“三镦三拔”工艺即初锻、初拔、中锻、中拔、终锻、终拔。初锻变形量超过80%,使晶粒充分破碎。在终锻后的终拔工艺时用柱形模具进行模锻成直径Ф65×长度110~130mm的圆柱形棒材,并对棒材进行退火,退火温度550℃,退火时间为360min;
(4)对经模锻后的棒材用普通车床对棒材四周表面的氧化皮进行车除,去除后氧化皮后,将两头的“锻帽”去除后,再锯切成数控车床所需的直径Ф65×长度45mm的小柱块;
(5)用数控车床对小柱块两锯切端面进行车光,并取任一端面作为底面,并对底部进行内车铣,内车的深度为4mm,预留出边缘,边缘与内车铣面过渡边的角度为150°,边缘的倒角为45°。内车铣完成后,再对预留边缘进行倒角,再对另一端部进行开丝(开螺纹);
(6)对上述机加工完成的柱块进行清理,得圆柱形钛溅射靶材。
本发明书所述电子束冷床炉、电阻炉、快锻机等均可采用现有技术设备。
本发明方法生产的钛溅射靶材可广泛应用于微电子半导体集成电路、薄膜混合集成电路、液晶平面显示LCD等溅射膜领域。
Claims (5)
1.一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)用碘化法生产的纯度为99.9%以上的海绵钛作为原料,将海绵钛装进电子束冷床炉的进料器即阿基米德螺旋筒中,将进料器装至电子束冷床炉的进料***中,对电子束冷床炉的进料***及熔炼***抽真空,并对电子枪的扫描图形进行设置,至进料***和熔炼***的主熔炼室真空度≤0.02Pa时,开启进料***将海绵钛料加进主熔炼室熔炼冷床上,开启电子枪将原料熔化成为钛液,钛液流经初精炼冷床、主精炼冷床后,流进矩形拉晶坩埚,得到铸锭,将铸锭冷却出炉,即获得纯度为99.95%以上钛毛坯;
(2)对钛毛坯进行铣面后对表面进行精修磨,修磨完成后对钛方坯切头,将切头完成后的方坯切成锻造毛坯所要求的尺寸,对锻造毛坯进行超声波探伤,剔除有缺陷的锻造毛坯;
(3)将合格的锻造毛坯加热,加热温度为980~1020℃,采用三镦三拔工艺对锻造毛坯进行锻造,即初锻、初拔、中锻、中拔、终锻、终拔;在终拔工艺时用柱形模具将锻件模锻成所需规格棒材,并对锻件进行退火;
(4)车除经模锻后的棒材表面的氧化皮,将两头的锻帽去除后,再锯切成所需规格的小柱块;
(5)对小柱块的两锯切端面进行车光,取任一端面作为底面,并对底部进行内车铣,预留出边缘,内车铣完成后,对预留边缘倒角,再对另一端部开丝;
(6)将上述机加工完毕的柱块进行清理,得到圆柱形钛溅射靶材。
2.根据权利要求1所述的一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,其特征在于,步骤(1)所述的电子束冷床炉的电子枪熔炼功率控制在900~1200kW,初精炼冷床的功率为150~250kW,主精炼冷床的功率为300~500kW,拉晶坩埚的拉晶速度为800~1200kg/h。
3.根据权利要求1所述的一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,其特征在于,步骤(2)所述的铣面深度为3~5mm,对经过铣面后的四边进行45°倒角处理,经过切割后的锻造毛坯的高宽比为1.4~1.6。
4.根据权利要求1所述的一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,其特征在于,步骤(3)所述的三镦三拔工艺,初锻要求变形量达80%以上,使晶粒充分破碎;对锻件的退火温度550~650℃,退火时间为120~360min。
5.根据权利要求1所述的一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法,其特征在于,步骤(5)所述对小柱块进行内车铣,内车的深度为2~4mm,边缘与内车铣面的过渡边角度为120~150°,边缘的倒角为45°。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510561420.1A CN105154834A (zh) | 2015-09-07 | 2015-09-07 | 一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510561420.1A CN105154834A (zh) | 2015-09-07 | 2015-09-07 | 一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105154834A true CN105154834A (zh) | 2015-12-16 |
Family
ID=54795870
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510561420.1A Pending CN105154834A (zh) | 2015-09-07 | 2015-09-07 | 一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105154834A (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108778588A (zh) * | 2017-02-16 | 2018-11-09 | 住友化学株式会社 | 溅射靶的加工方法及溅射靶制品的制造方法 |
CN110735059A (zh) * | 2019-10-31 | 2020-01-31 | 洛阳双瑞精铸钛业有限公司 | 一种增材制造用钛及钛合金棒丝材制备工艺方法 |
CN113481475A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-10-08 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种钛靶材晶粒细化的方法及钛靶材 |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008156694A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
CN101736299A (zh) * | 2010-01-05 | 2010-06-16 | 宝鸡市巨成钛业有限责任公司 | 一种高纯度钛靶材的制备工艺 |
CN102453873A (zh) * | 2010-10-26 | 2012-05-16 | 宝鸡市嘉诚稀有金属材料有限公司 | 一种钛靶材及其制造方法 |
CN102791905A (zh) * | 2010-03-11 | 2012-11-21 | 株式会社东芝 | 溅射靶及其制造方法、以及半导体元件的制造方法 |
CN103180482A (zh) * | 2010-10-25 | 2013-06-26 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 溅射用钛靶 |
CN103409637A (zh) * | 2013-07-29 | 2013-11-27 | 云南钛业股份有限公司 | 一种电子束冷床炉全自动熔炼工业纯钛的方法 |
CN103732789A (zh) * | 2011-08-23 | 2014-04-16 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 溅射用钛靶 |
CN103890227A (zh) * | 2012-01-12 | 2014-06-25 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 溅射用钛靶 |
CN104114303A (zh) * | 2012-02-14 | 2014-10-22 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 高纯度钛锭、其制造方法及钛溅射靶 |
-
2015
- 2015-09-07 CN CN201510561420.1A patent/CN105154834A/zh active Pending
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008156694A (ja) * | 2006-12-22 | 2008-07-10 | Mitsubishi Alum Co Ltd | スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
CN101736299A (zh) * | 2010-01-05 | 2010-06-16 | 宝鸡市巨成钛业有限责任公司 | 一种高纯度钛靶材的制备工艺 |
CN102791905A (zh) * | 2010-03-11 | 2012-11-21 | 株式会社东芝 | 溅射靶及其制造方法、以及半导体元件的制造方法 |
CN103180482A (zh) * | 2010-10-25 | 2013-06-26 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 溅射用钛靶 |
CN102453873A (zh) * | 2010-10-26 | 2012-05-16 | 宝鸡市嘉诚稀有金属材料有限公司 | 一种钛靶材及其制造方法 |
CN103732789A (zh) * | 2011-08-23 | 2014-04-16 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 溅射用钛靶 |
CN103890227A (zh) * | 2012-01-12 | 2014-06-25 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 溅射用钛靶 |
CN104114303A (zh) * | 2012-02-14 | 2014-10-22 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 高纯度钛锭、其制造方法及钛溅射靶 |
CN103409637A (zh) * | 2013-07-29 | 2013-11-27 | 云南钛业股份有限公司 | 一种电子束冷床炉全自动熔炼工业纯钛的方法 |
Non-Patent Citations (17)
Title |
---|
《钛合金文集》编辑组 编: "《钛合金文集 (一九七八)》", 31 July 1980, 上海科学技术文献出版社出版 * |
B.E.PATON、樊生文等: "《钛、锆及其合金的电子束熔炼》", 30 September 2014, 机械工业出版社 * |
W.F.史密斯 著、张泉等 译: "《工程合金的组织和性能》", 31 July 1984, 冶金工业出版社 * |
中国机械工程学会塑性工程学会 编: "《锻压手册 第1卷 锻造 第3版修订本》", 30 November 2013, 机械工业出版社 * |
中国标准出版社: "《中国国家标准汇编 341 GB20496-20527 (2006年制定)》", 31 July 2007, 中国标准出版社 * |
吴树森等: "《有色金属熔炼入门与精通》", 31 May 2014, 机械工业出版社 * |
国家机械工业委员会技术工人教育研究中心: "《锻工》", 31 August 1987, 机械工业出版社 * |
张国成等: "《有色金属进展(1996-2005)第五卷 稀有金属和贵金属》", 30 November 2007, 中南大学出版社 * |
朱知寿: "《新型航空高性能钛合金材料技术研究与发展》", 31 December 2013, 航空工业出版社 * |
杨保祥等: "《钛基材料制造》", 31 January 2015, 冶金工业出版社 * |
沙珀特(SHAPPERT,L.B.): "《辐照核燃料运输容器设计指南》", 30 November 1975, 原子能出版社 * |
王静等: "《简明有色金属材料手册》", 31 May 2010, 中国标准出版社 * |
莫畏: "《钛》", 30 June 2008, 冶金工业出版社 * |
莫畏等: "《钛冶炼》", 31 July 2011, 冶金工业出版社 * |
莫畏等: "《钛冶金》", 30 June 1979, 冶金工业出版社 * |
赵时璐: "《多弧离子镀沉积过程的计算机模拟》", 30 April 2013, 冶金工业出版社 * |
高维娜等: "《溅射镀膜用钛靶材制备工艺》", 《金属热处理》 * |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108778588A (zh) * | 2017-02-16 | 2018-11-09 | 住友化学株式会社 | 溅射靶的加工方法及溅射靶制品的制造方法 |
CN110735059A (zh) * | 2019-10-31 | 2020-01-31 | 洛阳双瑞精铸钛业有限公司 | 一种增材制造用钛及钛合金棒丝材制备工艺方法 |
CN113481475A (zh) * | 2021-07-05 | 2021-10-08 | 宁波江丰电子材料股份有限公司 | 一种钛靶材晶粒细化的方法及钛靶材 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109500331B (zh) | Tc25钛合金大规格棒材加工方法 | |
CN102002615B (zh) | 超高强铝合金材料及用于制备分离机内筒的管坯的制备方法 | |
CN103502505A (zh) | Cu-Ga合金溅射靶及其制造方法 | |
CN113083930B (zh) | 一种制备高强韧镁合金的差热成形方法 | |
CN108857148A (zh) | 一种电弧增材制造用钛合金丝材及其应用 | |
CN112981335A (zh) | 一种高纯铜管靶的制备方法 | |
CN105154834A (zh) | 一种圆柱形钛溅射靶材的生产方法 | |
CN104704139B (zh) | Cu‑Ga合金溅射靶及其制造方法 | |
CN109082637A (zh) | 一种高纯度高均匀细晶粒锡靶材及其制备方法 | |
CN114293159B (zh) | 一种镍基合金靶材的制备方法 | |
TWI570252B (zh) | Cu-Ga alloy sputtering target and its manufacturing method | |
CN109811317A (zh) | 一种靶材用高纯钼板的制备方法 | |
CN112779508A (zh) | 一种高纯钒靶坯的制备方法及利用其制得的高纯钒靶材 | |
CN109439955B (zh) | 一种采用定向凝固制备高强度、高导电性超细丝合金材料的方法 | |
CN108405820B (zh) | 一种水平连铸轧制生产黄铜管工艺 | |
CN111299969A (zh) | 一种晶粒度和性能可控的溅射靶材铜板带生产工艺 | |
CN102409184B (zh) | 一种纯镍板坯的制备方法 | |
CN105401104B (zh) | 高强度块体Cu‑Zr‑Zn金属玻璃及制备方法 | |
CN102168208A (zh) | 一种玻璃镀膜用ZnSn溅射靶材的制造方法 | |
CN109778123A (zh) | 一种应用溅射法制备高纯度钛溅射靶材的方法 | |
CN109811318A (zh) | 一种高纯钼溅射靶材的制备方法 | |
CN116987977B (zh) | 一种fmm掩模用铁镍基精密合金材料、合金带材及冶炼工艺 | |
CN116987976B (zh) | 一种fmm掩模用铁镍基精密合金材料、合金带材及冶炼方法 | |
CN111606554A (zh) | 一种非晶合金玻璃模压成型模具、其制作方法及应用 | |
CN114799738B (zh) | 一种tc4钛合金薄壁环材的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20151216 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |