CN105080782A - 一种液体涂覆装置 - Google Patents
一种液体涂覆装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105080782A CN105080782A CN201410223103.4A CN201410223103A CN105080782A CN 105080782 A CN105080782 A CN 105080782A CN 201410223103 A CN201410223103 A CN 201410223103A CN 105080782 A CN105080782 A CN 105080782A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- wafer
- supporting platform
- square
- main shaft
- workbench
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
本发明涉及半导体行业晶片处理设备,具体地说是一种液体涂覆装置,包括工作台、底板、方形承片台、主轴电机、承片台升降气缸、主轴及液杯,主轴电机、承片台升降气缸及液杯分别安装在工作台上,主轴电机驱动主轴旋转,并且主轴与承片台升降气缸相连、通过承片台升降气缸驱动升降;主轴的顶端依次穿过工作台及液杯,与位于液杯内的底板及方形承片台连接,底板及方形承片台由主轴带动同步旋转,且方形承片台由承片台升降气缸驱动的主轴带动、可相对于底板升降;被涂覆的方形晶片或圆形晶片被吸附在方形承片台上,随方形承片台旋转或升降。本发明的可用于方形、圆形两种不同形状晶片的处理,降低了空气流动对涂覆均匀性的影响,避免受到外部污染。
Description
技术领域
本发明涉及半导体行业晶片处理设备,具体地说是一种液体涂覆装置。
背景技术
用于半导体集成电路制造的基板多为4~12英寸圆形晶片。传统的液体涂覆装置通常采用在一个圆形腔体,中心设置可旋转的圆形承片台,圆形晶片采用真空吸附在承片台上的方式进行处理。这种方法可以得到均匀的液体涂布效果,在半导体行业广泛应用;但这种方式应用到方形晶片中,由于自身形状及环境气流的影响,方形晶片的液体涂覆极不均匀,晶片四角的很大区域不能达到工艺要求,无法使用、造成浪费。
发明内容
本发明的目的在于提供一种液体涂覆装置。该液体涂覆装置可用于方形、圆形两种不同形状晶片的处理。
本发明的另一目的在于提供一种液体涂覆装置。该液体涂覆装置可调整液杯内部气流,避免受到外部污染。
本发明的目的是通过以下技术方案来实现的:
本发明包括工作台、底板、方形承片台、主轴电机、承片台升降气缸、主轴及液杯,其中主轴电机、承片台升降气缸及液杯分别安装在所述工作台上,所述主轴电机通过传动装置与主轴相连、驱动主轴旋转,并且所述主轴与所述承片台升降气缸相连、通过承片台升降气缸驱动升降;所述主轴的顶端依次穿过工作台及液杯,与位于液杯内的所述底板及方形承片台连接,所述底板及方形承片台由主轴带动同步旋转,且所述方形承片台由承片台升降气缸驱动的主轴带动、可相对于所述底板升降;被涂覆的方形晶片或圆形晶片被吸附在所述方形承片台上,随所述方形承片台旋转或升降。
其中:所述工作台上安装有上盖升降气缸,该上盖升降气缸的输出端连接有上盖,所述上盖位于所述液杯的上方、通过上盖升降气缸驱动升降,下降的上盖盖住所述液杯;
所述工作台上方设有布风板,所述布风板上开有供所述液杯穿出的孔,在穿出的液杯周围的布风板上均布有多个通气孔;所述布风板通过多根立柱与工作台连接,所述布风板与工作台平行;
所述主轴上键连接有第一轴套,所述主轴电机的输出端通过所述传动装置与该第一轴套连接、驱动所述主轴旋转;所述承片台升降气缸的输出端通过升降板与所述主轴相连,驱动主轴升降;所述工作台上安装有导柱,所述升降板通过导套与导柱连接;
所述主轴的顶端键连接有第二轴套,所述底板与该第二轴套连接;所述第二轴套设有调整所述方形承片台高度的调整螺丝,所述方形承片台通过该调整螺丝调整后与所述主轴的顶端相连;所述底板为圆形,中间开有供所述方形承片台升降的方形凹槽;所述底板的边缘向下倾斜;
所述方形承片台上吸附的方形晶片或圆形晶片在被涂覆时,晶片表面位于所述底板上表面的上方;并且,在涂覆圆形晶片时所述方形承片台的上表面高于所述底板的上表面。
本发明的优点与积极效果为:
1.本发明的方形承片台及底板可随主轴同步旋转,并且方形承片台还可随主轴相对底板升降,可用于方形、圆形两种不同形状晶片的处理。
2.本发明的液杯上方设有可升降的上盖,上盖下降后盖住液杯,将整个涂覆区域覆盖,气流通过上盖进入液杯,起到调整液杯内部气流、避免受到外部污染的作用,降低了空气流动对涂覆均匀性的影响。
3.本发明工作台的上方设置了布风板,气流通过布风板后由工作台上的排风口排出,避免由于工作台的阻挡而回流,保证气流一直向下。
4.本发明的方形承片台的高度可通过调整螺纹进行调节,可适用于不同厚度的晶片进行液体涂覆。
附图说明
图1为本发明的立体结构示意图;
图2为本发明的结构主视图;
图3为图2的A—A剖视图;
图4为本发明上盖盖住液杯后的内部结构示意图;
图5为本发明上盖盖住液杯后的立体结构示意图;
其中:1为工作台,2为上盖,3为底板,4为方形承片台,5为主轴电机,6为方形晶片,7为布风板,8为升降板,9为承片台升降气缸,10为第一轴套,11为主轴,12为上盖升降气缸,13为导柱,14为导套,15为通气孔,16为导轨,17为立柱,18为液杯,19为第二轴套,20为调整螺丝。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步详述。
如图1~5所示,本发明包括工作台1、上盖2、底板3、方形承片台4、主轴电机5、布风板7、升降板8、承片台升降气缸9、第一轴套10、主轴11、上盖升降气缸12、液杯18、第二轴套19及调整螺丝20,其中工作台1的下表面分别安装有主轴电机5及承片台升降气缸9,上表面安装有液杯18;在工作台1的上方设有布风板7,该布风板7通过多根立柱17与工作台1连接,并且布风板7与工作台1平行设置;布风板7上开有供液杯18穿出的孔,在穿出的液杯18周围的布风板7上均布有多个条形的通气孔15。布风板7可将气流进行整理,防止上方吹下来的气体接触到工作台1后反弹,气体反弹时会带起工作台1上的污染物,这样会对液体涂覆工艺造成污染;当放置布风板7后,上方吹下来的气体会通过布风板7上的通气孔15吹到工作台1,但反弹时布风板7可以起到阻挡作用,有效地减少了反弹时带起的污染物。而且,由于布风板7的阻挡,气流通过布风板后可由工作台1上的排风口排出,避免由于工作台1的阻挡而回流,保证气流一直向下,避免乱流造成晶片污染。
工作台1上固接有导轨16,在导轨16上设有上盖升降气缸12,该上盖升降气缸12的输出端连接有圆形的上盖2,上盖2位于液杯18的上方,在上盖升降气缸12的驱动下升降。下降后的上盖2可盖住液杯18,将整个涂覆区域覆盖,在进行液体涂覆时降低气流对液体涂覆均匀性的影响,并阻挡废液飞溅,同时可以起到避免外部颗粒污染的作用。
主轴11上设有第一轴套10,主轴11开有键槽,第一轴套10与主轴11键连接,这样第一轴套10既可以带动主轴11旋转,主轴11还可以相对第一轴套10升降。主轴电机5的输出端通过传动装置与该第一轴套10连接、驱动主轴11旋转,传动装置可为皮带、皮带轮传动结构,链轮、链条传动结构或齿轮啮合传动结构;本实施例的传动装置为皮带、皮带轮传动结构,即主轴电机5的输出端连接有第一皮带轮,第一轴套10上设有第二皮带轮,第一、二皮带轮之间通过皮带连接。承片台升降气缸9的输出端通过升降板8与主轴11相连,驱动主轴11升降;工作台1上安装有导柱13,升降板8通过导套14与导柱13连接,在主轴11升降过程中起到导向作用。
主轴11的顶端依次穿过工作台1及液杯18,与位于液杯18内的底板3及方形承片台4连接。主轴11的顶端键连接有第二轴套19,底板3为圆形、与第二轴套19连接,该底板3的中间开有供方形承片台4升降的方形凹槽,底板3的边缘向下倾斜,便于底板3上的液体排走;方形承片台4与主轴11的顶端连接,当主轴11旋转时,通过与主轴11键连接的第二轴套19可带动底板3及与主轴11相连的方形承片台4同步旋转,且方形承片台4由承片台升降气缸9驱动的主轴11带动,可相对于底板3升降。被涂覆的方形晶片6或圆形晶片被吸附在方形承片台4上,方形承片台4上吸附的方形晶片6或圆形晶片在被涂覆时,晶片表面位于底板3上表面的上方(可高于底板3上表面0.1~5mm);并且,在涂覆圆形晶片时,方形承片台4的上表面高于底板3的上表面。
为了可以对不同厚度的晶片进行涂覆,第二轴套19设有调整方形承片台4高度的调整螺丝20,方形承片台4通过该调整螺丝20调整后与主轴11的顶端相连,这样保证在液体涂覆时,方形晶片6或圆形晶片的表面到底板3上表面的距离始终保持一致,无论对什么厚度的方形晶片6或圆形晶片进行涂覆时,可以保证晶片背面不被污染,并且废液都不会进入方形承片台4内部。
本发明的工作原理为:
工作前,圆形的上盖2处于升起的状态。
涂覆方形晶片6时,承片台升降气缸9工作,通过主轴11驱动方形承片台4升起,方形晶片6放在方形承片台4上、由方形承片台4吸附;然后,承片台升降气缸9带动方形承片台4下降,下降后方形晶片6可嵌入底板3的凹槽内,且方形晶片6的上表面高于底板3的上表面,这样液体在方形晶片6进行涂覆时,多余的液体会在旋转时经过底板3上表面排走,废液就不会进入方形承片台4的内部。
上盖2在上盖升降气缸12的驱动下下降,盖住液杯18,将整个涂覆区域覆盖。主轴电机5工作,通过皮带、皮带轮传动结构带动主轴11旋转,底板3及方形承片台4同步随主轴11旋转。旋转的同时,液体对方形晶片6的表面进行涂覆。因方形晶片6的上表面高于底板3的上表面,这样液体在方形晶片6进行涂布时,多余的液体会在旋转时经过底板3上表面排走,这样液体就不会进入方形承片台4的内部。
涂覆圆形晶片时,方形承片台4的上表面高于底板3的上表面,这样液体就不会进入方形承片台4内部;其他操作与涂覆方形晶片相同。
Claims (10)
1.一种液体涂覆装置,其特征在于:包括工作台(1)、底板(3)、方形承片台(4)、主轴电机(5)、承片台升降气缸(9)、主轴(11)及液杯(18),其中主轴电机(5)、承片台升降气缸(9)及液杯(18)分别安装在所述工作台(1)上,所述主轴电机(5)通过传动装置与主轴(11)相连、驱动主轴(11)旋转,并且所述主轴(11)与所述承片台升降气缸(9)相连、通过承片台升降气缸(9)驱动升降;所述主轴(11)的顶端依次穿过工作台(1)及液杯(18),与位于液杯(18)内的所述底板(3)及方形承片台(4)连接,所述底板(3)及方形承片台(4)由主轴(11)带动同步旋转,且所述方形承片台(4)由承片台升降气缸(9)驱动的主轴(11)带动、可相对于所述底板(3)升降;被涂覆的方形晶片(6)或圆形晶片被吸附在所述方形承片台(4)上,随所述方形承片台(4)旋转或升降。
2.按权利要求1所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述工作台(1)上安装有上盖升降气缸(12),该上盖升降气缸(12)的输出端连接有上盖(2),所述上盖(2)位于所述液杯(18)的上方、通过上盖升降气缸(12)驱动升降,下降的上盖(2)盖住所述液杯(18)。
3.按权利要求1所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述工作台(1)上方设有布风板(7),所述布风板(7)上开有供所述液杯(18)穿出的孔,在穿出的液杯(18)周围的布风板(7)上均布有多个通气孔(15)。
4.按权利要求3所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述布风板(7)通过多根立柱(17)与工作台(1)连接,所述布风板(7)与工作台(1)平行。
5.按权利要求1、2或3所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述主轴(11)上键连接有第一轴套(10),所述主轴电机(5)的输出端通过所述传动装置与该第一轴套(10)连接、驱动所述主轴(11)旋转;所述承片台升降气缸(9)的输出端通过升降板(8)与所述主轴(11)相连,驱动主轴(11)升降。
6.按权利要求5所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述工作台(1)上安装有导柱(13),所述升降板(8)通过导套(14)与导柱(13)连接。
7.按权利要求1、2或3所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述主轴(11)的顶端键连接有第二轴套(19),所述底板(3)与该第二轴套(19)连接。
8.按权利要求7所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述第二轴套(19)设有调整所述方形承片台(4)高度的调整螺丝(20),所述方形承片台(4)通过该调整螺丝(20)调整后与所述主轴(11)的顶端相连。
9.按权利要求7所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述底板(3)为圆形,中间开有供所述方形承片台(4)升降的方形凹槽;所述底板(3)的边缘向下倾斜。
10.按权利要求1、2或3所述的液体涂覆装置,其特征在于:所述方形承片台(4)上吸附的方形晶片(6)或圆形晶片在被涂覆时,晶片表面位于所述底板(3)上表面的上方;并且,在涂覆圆形晶片时所述方形承片台(4)的上表面高于所述底板(3)的上表面。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410223103.4A CN105080782A (zh) | 2014-05-23 | 2014-05-23 | 一种液体涂覆装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201410223103.4A CN105080782A (zh) | 2014-05-23 | 2014-05-23 | 一种液体涂覆装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105080782A true CN105080782A (zh) | 2015-11-25 |
Family
ID=54562639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201410223103.4A Pending CN105080782A (zh) | 2014-05-23 | 2014-05-23 | 一种液体涂覆装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105080782A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108630529A (zh) * | 2017-03-15 | 2018-10-09 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷处理装置和杯体 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060233952A1 (en) * | 2005-04-15 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing method and liquid processing apparatus |
US7927657B2 (en) * | 2003-03-10 | 2011-04-19 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
CN102020234A (zh) * | 2009-09-18 | 2011-04-20 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 用于半导体制成中的喷胶处理装置 |
CN103811290A (zh) * | 2012-11-13 | 2014-05-21 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种液体喷洒回收装置 |
-
2014
- 2014-05-23 CN CN201410223103.4A patent/CN105080782A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7927657B2 (en) * | 2003-03-10 | 2011-04-19 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing apparatus and liquid processing method |
US20060233952A1 (en) * | 2005-04-15 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Limited | Liquid processing method and liquid processing apparatus |
JP2006302934A (ja) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Tokyo Electron Ltd | 液処理方法及び液処理装置 |
CN102020234A (zh) * | 2009-09-18 | 2011-04-20 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 用于半导体制成中的喷胶处理装置 |
CN103811290A (zh) * | 2012-11-13 | 2014-05-21 | 沈阳芯源微电子设备有限公司 | 一种液体喷洒回收装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108630529A (zh) * | 2017-03-15 | 2018-10-09 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷处理装置和杯体 |
CN108630529B (zh) * | 2017-03-15 | 2023-04-04 | 东京毅力科创株式会社 | 涂敷处理装置和杯体 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI515515B (zh) | A semiconductor film making thick film coating apparatus and a method of using the same | |
CN105478415B (zh) | 一种全自动表面处理机 | |
JP2007142327A (ja) | 半導体ウェハの加工装置 | |
KR101104185B1 (ko) | 웨이퍼 후면 코팅 장치 | |
CN104772266B (zh) | 一种紫外光固化设备 | |
CN102723302B (zh) | 激光加工半导体晶片用全自动上下料装置及其使用方法 | |
JP6277021B2 (ja) | ウエーハ処理装置及びウエーハの処理方法 | |
TW201713508A (zh) | 真空貼合裝置 | |
CN113232180A (zh) | 一种超薄硅片生产用硅棒切割设备 | |
CN110034020B (zh) | 被加工物的加工方法和加工装置 | |
CN105080782A (zh) | 一种液体涂覆装置 | |
JP6210847B2 (ja) | 切削装置及び切削方法 | |
CN105396754A (zh) | 自动硅片匀胶机用涂胶装置 | |
CN111063652B (zh) | 一种基板夹持承载台 | |
KR20100011909A (ko) | 액처리 장치 | |
JP5260124B2 (ja) | 加工装置 | |
CN101902880B (zh) | 单元印制线路板热风整平专用夹具 | |
CN213136307U (zh) | 一种大理石板除尘抛光装置 | |
JP5479866B2 (ja) | 液状樹脂の塗布装置および研削機 | |
KR20150008297A (ko) | 승강장치 및 이를 포함하는 기판 이송장치 | |
CN207510015U (zh) | 一种自动化喷印装置 | |
CN114290548A (zh) | 一种超薄硅片生产用硅棒切割设备 | |
CN206010773U (zh) | 一种小片材端面研磨治具 | |
WO2015136946A1 (ja) | ガラス板の加工方法及び加工装置 | |
TWM516508U (zh) | 真空貼合裝置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20151125 |