CN105002544A - 一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法及铝合金制品 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，包括以下步骤：S100、提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min；S200、对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8～10V，氧化温度为18～22℃，第二氧化膜的厚度为4～5μm。本发明还公开一种应用上述铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制成的铝合金制品。本发明既保证了铝合金制品上的logo的高光效果，又提高了铝合金制品以及其上的logo的耐腐蚀性。
Description
技术领域
本发明涉及金属表面处理技术领域，尤其涉及一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法及应用该铝合金阳极氧化后实现高光logo方法制成的铝合金制品。
背景技术
随着生活水平的不断提高以及手机技术的持续发展，近年来，各种手机壳体越来越趋于个性化设计，尤其是对手机壳体的logo(商标、标志)设计，对于logo的独特设计在对手机壳体装饰的同时，对突出手机的品牌效应能够起到画龙点睛的作用，因而不仅受到了消费者的青睐，更成为了商家的主要关注点之一。
目前手机壳体大多采用铝合金制成，在铝合金的手机壳体等铝合金制品表面制作logo的方法多种多样，例如：1、将铝合金制品阳极氧化后再镭雕logo，这样的制作方式使得logo不够高亮，无法突出logo；2、将铝合金制品进行CNC精加工处理后再贴不锈钢高光logo，这样的制作方式虽然能保持logo的光亮，突出logo，但是制作成本比较高，且贴合的logo在长时间使用后很容易被磨损和刮掉；3、在对铝合金制品进行机械处理后，对铝合金制品进行化学蚀刻或者镭雕，形成logo，之后将形成logo后的铝合金制品进行着色处理；或者是在对铝合金制品进行着色处理后，采用移印、填磨等方式在铝合金上形成logo，这种作业和设计的logo，时间久了很容易被磨损和刮掉，logo就会慢慢消失。
基于以上问题，亟需一种新的在铝合金制品表面实现高光logo的方法，以解决现有logo制作后不够高亮、制作成本高以及容易磨损和刮掉的问题。
发明内容
本发明的一个目的在于提出一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，该方法可以使制作后的logo保持高光亮的效果，且也不容易磨损和被刮掉。
本发明的另一个目的在于提出一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，该方法的制作成本低，制作的带有logo的铝合金制品的表面质量高。
本发明的又一个目的在于提出一种应用上述铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制作的铝合金制品。
为达此目的，本发明采用以下技术方案：
提供一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，包括以下步骤：
S100、精加工logo：提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min；
S200、第二次阳极氧化处理：对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8～10V，氧化温度为18～22℃，第二氧化膜的厚度为4～5μm。
还提供一种铝合金制品，所述铝合金制品应用如上所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制成。
本发明的有益效果为：
本发明提供了一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，该方法与现有技术相对比，采用高转速的CNC对铝合金基材进行logo加工，可以形成高光logo，且CNC精加工后的logo不会被磨损和刮掉，保证了铝合金制品上logo的完整性；在精加工logo后进行第二次阳极氧化处理，可以在logo上形成第二氧化膜，且由于膜厚较薄，不仅可以保证logo不被氧化和腐蚀，还可以保证logo的高光性，提高整个铝合金制品的表面质量。
本发明提供了一种铝合金制品，此铝合金制品上的logo具有高光效果，不容易被腐蚀和氧化，且也不容易磨损和被刮掉。
附图说明
图1是根据本发明的一实施例提供的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法的流程图。
图2是根据本发明的一实施例提供的步骤S200的流程图。
图3是根据本发明的另一实施例提供的步骤S200的流程图。
图4是根据本发明的又一实施例提供的步骤S200的流程图。
图5是根据本发明的一实施例提供的步骤S100的流程图。
具体实施方式
为使本发明解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面将结合附图对本发明实施例的技术方案作进一步的详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
图1是根据本发明的一实施例提供的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法的流程图。如图1所示，于本实施例中，一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法包括如下步骤：
S100、精加工logo：提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min；
S200、第二次阳极氧化处理：对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8～10V，氧化温度为18～22℃，第二氧化膜的厚度为4～5μm。
本发明通过在阳极氧化处理后的铝合金基材上通过CNC精加工logo，且CNC的主轴电机转速不小于20000r/m，高转速的CNC使得加工后的logo更加高光；通过在加工有logo的铝合金基材表面进行第二次阳极氧化处理，且在铝合金基材以及logo的表面形成4～5μm的第二氧化膜，第二氧化膜可以在保证logo不被氧化的同时保证氧化膜不遮盖logo，使logo保持高光状态。
在本实施例中，CNC采用北京精雕机，如金童WJA400型精雕机。
图2是根据本发明的一实施例提供的步骤S200的流程图。如图2所示，于本实施例中，步骤S200包括依序的如下步骤：
S210、除油处理，对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；
S220、氧化处理：将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为18～22℃的硫酸溶液中，氧化电压保持8～10V，进行阳极氧化处理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4～5μm的第二氧化膜。通过采用上述工艺条件的硫酸溶液对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，可以在logo上形成较薄的第二氧化膜，既可以保证logo不被氧化，还可以保证logo的高光度。
图3是根据本发明的另一实施例提供的步骤S200的流程图，如图3所示，于本实施例中，步骤S200包括依序的如下步骤：
S210′、除油处理：对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；
S220′、氧化处理：将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为18℃的硫酸溶液中，氧化电压保持8V，进行阳极氧化处理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4μm的第二氧化膜；
S230′、封闭处理：将第二次阳极氧化处理后的铝合金基材放置在浓度8g/L、温度为95℃、PH5.5的醋酸镍溶液中，静置20min。封闭处理可以提高铝合金制品的耐腐蚀性，增加铝合金制品的抗脏污能力。
图4是根据本发明的另一实施例提供的步骤S200的流程图，如图4所示，于本实施例中，步骤S200包括依序的如下步骤：
S210"、除油处理：对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；
S220"、水洗处理：将除油处理后的铝合金基材进行水洗处理；
S230"、氧化处理：将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为20℃的硫酸溶液中，氧化电压保持8V，进行阳极氧化处理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成5μm的第二氧化膜；
S240"、水洗处理：将氧化处理后的铝合金基材进行水洗处理；
S250"、封闭处理：将第二次阳极氧化处理后的铝合金基材放置在浓度8g/L、温度为95℃、PH5.5的醋酸镍溶液中，静置20min。封闭处理可以提高铝合金制品的耐腐蚀性，增加铝合金制品的抗脏污能力；
S260"、烘干处理：将封闭处理后的铝合金制品进行烘干处理。
通过在除油处理后设置水洗处理，可以清洗掉铝合金制品表面除油后的残留液，保证后续的第二次阳极氧化处理能顺利进行，进一步增强第二氧化膜与logo表面以及第一氧化膜之间的结合力；通过在第二次阳极氧化处理后设置水洗处理，可以清洗掉铝合金制品表面的硫酸残留液，保证后续的封闭处理能顺利进行。
在本实施例中，所述S220"和S240"的水洗处理均包括三道工序，每道工序冲洗的时间为3-5s。通过将水洗处理设置为三次冲洗，可以增强清洗的洁净度，保证后续工序能顺利进行。优选的，水洗处理中的清洗液为纯水，温度为常温。
在本发明的另一实施例中，步骤S200的第二次阳极氧化处理除油处理中的除油处理具体为：采用浓度为25g/L、温度为50～60℃的除油粉对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理，除油处理的时间为2～5min。通过在精加工logo后设置除油处理工序，可以除去CNC精加工残留在铝合金制品表面的机加工油，增加附着力和光泽度。优选的，除油粉的温度为55℃，除油时间为5min。
优选的，所述除油粉为奥野SH-AL161除油粉或除油粉YLW-G101。
奥野SH-AL161除油粉是一种铝及铝合金专用的弱碱性低浸蚀系列的除油剂，因含有特殊表面活化剂故起泡性极低。奥野SH-AL161除油粉具有以下优点：1、低侵蚀性，不损坏铝材的光泽；2、低起泡性，可用于空气搅拌和喷淋程序中；3、除油效果佳，可适用于各种油或污染物；4、不含有硅酸盐，因此不会受硅酸膜的影响；5、使用了具有微生物分解性的表面活化剂。
除油粉YLW-G101用于铝材阳极氧化前处理除油/脱酯除脏污清洗，可替代日本奥野公司的同类产品SH-AL161除油粉。
图5是根据本发明的一实施例提供的步骤S100的流程图。如图5所示，于本实施例中，步骤S100包括依序的如下步骤：
S110、除油处理：提供铝合金基材，对此铝合金基材进行除油处理；S120、剥黑膜处理；S130、化学抛光处理；S140、中和处理；S150、氧化处理：将铝合金基材放置在浓度为200～220g/L、温度为18～20℃的硫酸溶液中，氧化电压保持15.5V，进行氧化处理30～40min，以在铝合金基材表面形成10～14μm的第一氧化膜；S160、封孔及烘干处理；S170、精加工logo。
具体的，步骤S110具体为：采用浓度为25g/L、温度为50～60℃的除油粉对铝合金基材进行除油处理，除油处理的时间为2～5min。更加优选的，除油粉的温度为50℃，除油时间为3min。
在本实施例中，所述除油粉为奥野SH-AL161除油粉。
具体的，步骤S130具体为：剥黑膜处理后的铝合金基材放置在105℃的磷酸溶液内，静置10～20s后，完成化学抛光处理。
在本发明的其他实施例中，还提供了一种铝合金制品，所述铝合金制品应用如上所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制成。
具体的，此铝合金制品包括铝合金基材，在所述铝合金基材上设置有第一氧化膜，在第一氧化膜上采用高转速CNC精加工有logo，此logo由第一氧化膜凹设至所述铝合金基材内，在logo和第一氧化膜上设置第二氧化膜。
其中，第一氧化膜的膜厚为10～14μm。
具体的，此第一氧化膜为Al2O3氧化膜,第二氧化膜的膜厚为4～5μm。
具体的，此第二氧化膜为Al2O3氧化膜。
本发明的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法不限于使用在铝合金基材上，还可以使用在镁合金基材、锌合金基材等合金基材上。
于本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”，仅仅用于在描述上加以区分，并没有特殊的含义。
以上结合具体实施例描述了本发明的技术原理。这些描述只是为了解释本发明的原理，而不能以任何方式解释为对本发明保护范围的限制。基于此处的解释，本领域的技术人员不需要付出创造性的劳动即可联想到本发明的其它具体实施方式，这些方式都将落入本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，包括以下步骤：
S100、精加工logo：提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材，在此铝合金基材表面采用CNC精加工高光logo，CNC的主轴电机的转速不小于20000r/min；
S200、第二次阳极氧化处理：对精加工logo后的铝合金基材进行第二次阳极氧化处理，在logo表面以及铝合金基材的第一氧化膜表面形成第二氧化膜，此第二次阳极氧化处理的电压为8～10V，氧化温度为18～22℃，第二氧化膜的厚度为4～5μm。
2.根据权利要求1所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，所述步骤200具体包括以下步骤：
S210、除油处理；对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理；
S230、氧化处理：将精加工logo后的铝合金基材放置在浓度为200g/L、温度为18～22℃的硫酸溶液中，氧化电压保持8～10V，进行阳极氧化处理30min，以在第一氧化膜和logo表面形成4～5μm的第二氧化膜。
3.根据权利要求2所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，在步骤S230后还设置步骤S250：封闭处理，将第二次阳极氧化处理后的铝合金基材放置在浓度8g/L、温度为95℃、PH5.5的醋酸镍溶液中，静置20min。
4.根据权利要求3所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，在步骤S210与步骤S230之间还设置步骤S220：将除油处理后的铝合金基材进行水洗处理。
5.根据权利要求3所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，在步骤S230与步骤S250之间还设置步骤S240：将氧化处理后的铝合金基材进行水洗处理。
6.根据权利要求4或5所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，所述水洗处理包括三道工序，每道工序冲洗的时间为3-5s。
7.根据权利要求2至5任一项所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，所述步骤S210具体为：采用浓度为25g/L、温度为50～60℃的除油粉对精加工logo后的铝合金基材进行除油处理，除油处理的时间为2～5min。
8.根据权利要求7所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，所述除油粉为奥野SH-AL161除油粉或除油粉YLW-G101。
9.根据权利要求1至5任一项所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法，其特征在于，所述步骤S100中的提供经第一次阳极氧化处理后的铝合金基材具体包括以下步骤：
S110、除油处理：提供铝合金基材，对此铝合金基材进行除油处理；
S120、剥黑膜处理；
S130、化学抛光处理；
S140、中和处理；
S150、氧化处理：将铝合金基材放置在浓度为200～220g/L、温度为18～20℃的硫酸溶液中，氧化电压保持15.5V，进行氧化处理30～40min，以在铝合金基材表面形成10～14μm的第一氧化膜；
S160、封孔及烘干处理。
10.一种铝合金制品，其特征在于，所述铝合金制品应用如权利要求1至9任一项所述的铝合金阳极氧化后实现高光logo的方法制成。
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| RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
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