CN104995145A - 由石英玻璃制成的、用于在ArF准分子激光光刻中使用的光学部件以及用于制造该部件的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明基于一种由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量并且具有少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量和具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间范围内的羟基含量，其中玻璃结构具有小于1070℃的假定温度。为了基于在633nm的测量波长的情况下压实行为的测量在使用应用波长的UV激光辐射的情况下能够实现关于压实行为的可靠预测，提出光学部件的一种构型，其中，所述部件对利用波长为193nm、具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500μJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应，所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm，其中适用：M193nm/M633nm<1.7。

Description

由石英玻璃制成的、用于在ArF准分子激光光刻中使用的光学部件以及用于制造该部件的方法
技术领域
本发明涉及一种由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量和少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量并且具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围内的羟基含量，其中 玻璃结构具有小于1070℃的假定温度。
此外，本发明涉及一种用于制造这样的光学部件的方法。
背景技术
这样的由合成石英玻璃制成的光学部件以及用于其制造的方法由WO 2009/106134 A1已知。该光学部件具有基本上无氯、无氧缺陷位置和无SiH基（低于5x1016个分子/cm3的探测极限）的玻璃结构。在280mm的直径内（CA范围）示出约3x1016个分子/cm3的平均氢含量以及25wt.ppm的羟基含量。
为了制造该部件，SiO2烟尘体被干燥，使得在由此产生的石英玻璃中出现小于60wt.ppm的平均羟基含量。在玻璃化之前，烟尘体经受调节处理，所述调节处理包括借助氮氧化物的处理。为了减小机械应力，石英玻璃坯件经受温度处理并且最后在由80Vol.-%（体积百分比）氮和20Vol.-%氢构成的氛围中在400℃下在1bar的绝对压力下在80h的持续时间期间加载氢。
由制造决定地，所制造的合成石英玻璃可以包含氮，所述氮在玻璃晶格中化合。在短波的UV激光辐射下尤其在所谓的“压实”方面示出有利的损伤行为。
在“压实”的损伤行为的情况下，在玻璃的能量充足的UV激光照射期间或者之后在照透的体积中出现局部密度增大。这引起折射率的局部增大，所述折射率的局部增大在持续照射下继续并且因此导致光学部件的成像特性的不断变差并且最后导致部件的提前失效。
为简单起见，折射率分布由于压实的变化通常不在应用波长、诸如在193nm的情况下，而是在利用配备氦氖激光器的Fizeau干涉仪的情况下以633nm的测量波长来确定（更准确地：在632.8nm的波长的情况下）。
现在已经表明，石英玻璃尽管在633nm的测量波长下其压实的相同或相似的测量值，但在193nm的测量波长下能够示出惊人地不同的损伤行为。这特别当要测量的石英玻璃在633nm的测量波长下提示绝对可接受的压实行为、但在使用应用波长的情况下示出非预期地明显更差的值或者甚至不能用时是有问题的。
发明内容
因此，本发明所基于的任务是，提供一种光学部件，所述光学部件用在具有193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件从在633nm的测量波长的情况下压实行为的测量出发在使用应用波长的UV激光辐射的情况下能够实现关于压实行为的可靠预测。
此外，本发明所基于的任务是，说明一种方法，所述方法适合用于制造这样的光学部件。
在光学部件方面，所述任务从一开始提到的类型的部件出发根据本发明通过以下方式解决：所述部件的玻璃结构对利用波长为193nm、具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500μJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应，所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm，其中适用：M193nm/M633nm<1.7。
借助应用波长的辐射的照射的剂量通过激光脉冲的脉冲数量、其脉冲宽度和能量密度以及脉冲重复频率来定义。根据本发明的部件在该照射剂量下示出具有以下独特特征的压实行为：
（a）压实行为在193nm的情况下和在633nm的情况下的测量的相应测量值M193nm和M633nm根据上面详细说明的照射剂量示出比值M193nm/M633nm，该比值小于1.7。
在此涉及相对小的比值M193nm/M633nm。已经表明，小的比值不仅代表玻璃的良好的抗压实性，而且对于压实本身的可预测性而言是不可缺少的条件。
（b）因为已经表明，在根据本发明的石英玻璃中，当照射剂量超过上面详细说明的剂量时，该小的比值M193nm/M633nm——该比值满足条件（a）——也几乎保持恒定。
该恒定比值的认识能够实现，由于借助应用波长的照射，对于每个比上面详细说明的更高的照射剂量也精确地或者至少以足够的精度计算压实，更确切地说，基于在633nm的情况下的测量。
因此，在确定认识满足条件（a）的情况下，由于条件（b）而能够实现：通过在633nm的波长下的测量借助193nm的UV激光辐射可靠地预测在应用石英玻璃中的压实行为。
玻璃结构基本上无氧缺陷位置。玻璃结构理解为：在该玻璃结构中氧不足缺陷的浓度和氧过量缺陷的浓度处于Shelby方法的可探测极限之下。
该探测方法在“Reaction of hydrogen with hydroxyl-free vitreous silica" (J. Appl. Phys，第51卷，第5期（1980年5月），第2589-2593页)”中公开。在此，在数量上得出在玻璃结构中对于每克石英玻璃不多于约1017个的氧不足缺陷的数量或者氧过量缺陷的数量。
根据该方法也确定SiH基的含量，其中根据以下化学反应进行校准：Si-O-Si+H2->Si-H+Si-OH。
SiH基和氢相互处于热动态平衡中。SiH基的含量在根据本发明的部件的石英玻璃中是小于2x1017个分子/cm3，并且氢含量在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围中。
因此，在SiO2晶格***的情况下通过与分子氢的反应形成SiH基。SiH基并不是所期望的，因为在借助能量充足的UV光照射的情况下能够由SiH基形成所谓的E'色心和原子氢。E'色心引起在210nm的波长处的提高的吸收并且在邻接的UV波长范围中也能够不利觉察地发展。
氢含量（H2含量）根据Raman测量来确定，如在“Khotimchenko等人所著的《Determining the Content of Hydrogen Dissolved in Quartz Glass Using the Methods of Raman Scattering and Mass Spectrometry》；Zhurnal Prikladnoi Spektroskopii，第46卷，第6期（1987年6月），第987-991页”中所提出的那样。
羟基的含量是在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围中，优选在10wt.ppm至60wt.ppm之间。该含量通过根据D. M. Dodd等人所著的（“Optical Determinations of OH in Fused Silica”，（1966年），第3911页）的方法测量IR吸收得出。
随着减少的羟基含量，石英玻璃的粘度增加。小于100wt.ppm的低羟基含量导致较刚性的玻璃结构并且相对于各向异性的局部密度变化改善性能、尤其在线性极化的UV辐射的情况下。也假设，在压实下的密度变化伴随着羟基的重排（Umlagerung），其中越多羟基可供使用，则该重排机制越可能并且越容易地进行。
玻璃结构的假定温度低于1070℃、优选低于1055℃。基于在约606 个波数量cm-1的情况下的Raman散射强度的测量，假定温度的测量方法在“Ch. Pfleiderer等人所著的《The UV-induced 210 nm absorption band in fused Silica with different thermal history and stoichiometry》，J. Non-Cryst. Solids 159 (1993) 145-143”中描述。
氟的含量优选小于10wt.ppm并且氯的含量优选小于0.1wt.ppm。卤素在***的情况下能够与SiO2玻璃晶格发生反应并且由此削弱该SiO2玻璃晶格。
已经表明，第一测量值与第二测量值的比值越小，通过在633nm的波长情况下的测量在应用石英玻璃的情况下的压实行为借助193nm的UV激光辐射的可预测性越可靠。
因此，特别优选的是所述部件的以下实施方式，其中在测量激光诱导的折射率变化的情况下，对于第一测量值M193nm和第二测量值M633nm的比值适用：M193nm/M633nm<1.6并且优选：M193nm/M633nm<1.55。
鉴于所述方法，上面所述任务根据本发明通过一种方法解决，所述方法包括以下方法步骤：
（a）通过包含硅的初始物质的火焰水解产生由SiO2组成的多孔烟尘体；
（b）使烟尘体干燥；
（c）在起氧化作用的氛围中处理烟尘体，所述氛围包含N2O，具有以下标准：通过按照方法步骤（b）的干燥并且通过根据方法步骤（c）的处理调节烟尘体中的羟基含量，使得
（d）通过随后烟尘体的烧结，得到由石英玻璃构成的半成品，所述半成品具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围内的平均羟基含量，并且
（e）通过将半成品成型成由石英玻璃制成的坯件并且退火所述坯件，使得所述坯件具有小于1070℃的平均假定温度；
（f）通过在低于400℃的温度下在包含氢的氛围中的加热来给坯件加载氢以产生0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围中的平均氢含量。
用于根据本发明的光学部件的石英玻璃根据所谓的“烟尘方法”制造。在此，作为中间产物得到由SiO2烟尘组成的多孔体（在此称作“烟尘体”）。所述烟尘体的多孔性能够实现：改变化学组分并且因此也直接改变SiO2晶格结构并且使其匹配特殊的要求；尤其是羟基和卤素的浓度能够被减少并且被调节到预给定的值上或者添加成分如氧或者氮。
烟尘体的干燥通过在玻璃化温度之下的加热或者在含卤素的氛围中或者优选在真空下进行。干燥导致由制造决定地包含在烟尘体中的羟基尽可能均匀地减少到预给定的值上。随后的处理步骤在理想情况下对羟基含量不再有值得一提的影响。
对于石英玻璃的压实行为重要的是多孔烟尘体在起氧化作用的氛围中的处理步骤，所述氛围包含N2O。
一氧化二氮（N2O）在高的温度下分解成氧气和活性氮原子或者氮化合物，所述活性氮原子或者氮化合物能够与石英玻璃晶格结构的缺陷位置发生反应并且使所述缺陷位置饱和并且因此消除所述缺陷位置。因此加强了该玻璃晶格。
除了借助N2O的氧化处理之外，由烟尘体在玻璃化之后得到的石英玻璃坯件的再处理为该效应提供另一重要的贡献。在此，一方面通过坯件的退火来调节小于1070℃的平均假定温度，并且另一方面通过在包含氢的氛围中的加热来给坯件加载氢。
随后，在真空下将烟尘体玻璃化成柱状石英玻璃坯件。通过真空去除分子氢，所述分子氢在火焰水解方法中被引入到石英玻璃中，否则分子氢在随后的热处理步骤中将进一步反应成所不期望的SiH基。
在玻璃化之后，存在具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围中的羟基含量的石英玻璃坯件，所述石英玻璃坯件基本上无SiH基并且无氢（这两种成分的含量处于探测极限之下）。
为了减小机械应力并且为了减少双折射以及为了产生抗压实的玻璃结构，使石英玻璃坯件经受温度处理，所述温度处理被控制，使得在体积上测量，出现小于1070℃、优选小于1055℃的平均假定温度。已经表明，由此产生相对紧密的晶格结构，所述紧密的晶格结构抵抗另一通过UV照射的局部压实。
氢的缺陷治愈作用是已知的。因此，根据光学部件的应用和投影寿命经常预给定一定的氢含量，即使为此必须忍受其他缺点。然而，在退火之后，石英玻璃的氢含量处于测量方法的分辨极限之下。事后利用氢加载石英玻璃。在此已经证明为特别重要的是，利用氢的加载在低于400℃、优选低于350℃的温度下进行。
因为在热动态平衡中在较高温度下在石英玻璃中在存在氢的情况下形成SiH基。特别低的加载温度避免或者减少这。SiH基可以在借助能量充足的UV光的照射下形成所谓的E'色心，所述E'色心又引起在210nm的波长处提高的吸收，所述E'色心在应用辐射的邻接的波长范围中也能够不利觉察地发展。
在此，调节在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围中的平均氢含量。由于低的加载温度，高的氢分压有助于在经济上合适的处理持续时间内实现充分的氢加载。因此，所述氢分压优选处于1bar和150bar之间。
提高的压力不仅加速氢加载，而且可以有助于更高密度的、略微较紧凑的和较抗各向异性的局部密度变化的玻璃结构。
所述制造方法的结果是由石英玻璃制成的具有特定的压实行为的柱体。在借助波长为193nm——具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500μJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的特定辐射剂量的照射之后，石英玻璃以激光诱导的折射率变化的最大值做出反应，所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm，其中适用：M193nm/M633nm<1.7，优选为小于1.6并且特别优选小于1.55。
在此重要的是——这似乎在足够小的比值的情况下自动得出，所述比值在相同照射条件下的继续照射的情况下保持恒定。该恒定比值的认识能够基于在633nm处的测量实现在借助应用辐射的继续照射下的损伤的可靠预测。
已经表明，比值M193nm/M633nm的恒定值的高度特别明显地受在氢中处理的最大加载温度并且受在此在石英玻璃中产生的平均氢浓度影响。氢加载的温度在此可以视为用于缺陷位置和SiH基的数量的度量。
由石英玻璃柱体通过通常的再处理步骤，如切割、磨削、抛光得到光学部件，所述光学部件用在针对193nm的应用波长的微光刻中。
为了避免SiO2晶格与含卤素的干燥试剂的接触，烟尘体根据步骤（b）的干燥优选地纯热地在真空下或者在惰性气体下进行并且包括烟尘体在1100℃和1350℃之间的范围中、优选在最大1300℃处的干燥温度下的处理。
通过放弃含卤素的干燥试剂，避免了卤素进入到烟尘体中，使得不必事后再去除卤素。另一方面，通过在还原条件下的缓慢的热处理形成氧缺陷位置，因为合适的取代基不可直接用于被去除的羟基。氧缺陷位置损害石英玻璃的UV辐射抗性。
出于该原因，在结束干燥处理之后在相同或者更低的温度下进行烟尘体在包含N2O的氛围中的处理。小于600℃、优选低于500℃的处理温度在此特别已经被证明是有效的。氛围的N2O含量在此在0.1Vol.-%与10Vol.-%之间、优选在0.5Vol.-%和5Vol.-%之间，处理持续时间是至少10h。
在低于0.1Vol.-%的氮氧化物含量的情况下产生低的氧化作用并且在高于10Vol.-%的氮氧化物含量的情况下可能发生SiO2晶格利用氮的过渡加载并且在随后的玻璃化时的起泡。因为处理在低的温度下进行，使得烟尘体的多孔性维持。然而在小于200℃的处理温度下，N2O的反应性很低并且需要长的处理持续时间，直至关于氧缺陷位置的饱和产生显著的效应。
附图说明
下面根据实施例和附图详细阐述本发明。在附图中：
图1示出一个示意图，其中相对于照射剂量绘出，在借助193nm的测量波长进行测量和借助633nm的测量波长进行测量的情况下，通过压实引起的损伤的度量值（即最大的折射率提高）的比值；
图2示出一个示意图，其中相对于比值的测量值绘出，基于模型计算确定的比值M193nm/M633nm；
图3示出模型计算的结果，所述结果以三维图示出比值M193nm/M633nm与石英玻璃的氢含量和氢加载温度的相关性。
具体实施方式
样本制备
借助OVD方法通过SiCl4的火焰水解制造烟尘体。烟尘体在1200℃的温度下50小时长地在具有由石墨制成的加热元件的加热炉中在真空下脱水。在加热炉中存在的石墨产生还原性的条件（如果烟尘体在该处理阶段之后直接被玻璃化，那么得到包含在1.7x1016cm-3的数量级中的氧缺陷位置的石英玻璃）。
经热干燥的烟尘体随后在起氧化作用的氛围中被处理。在此，烟尘体在处理室中持续地借助由氮组成的载体气流中的一氧化二氮（N2O；1.5Vol.-%）的处理气体被加热到450℃的温度并且在该温度下保持20小时长。
随后，经干燥和再处理的烟尘体在烧结炉中在约1400℃的温度下在真空（10-2mbar）下被玻璃化成透明的石英玻璃坯件。所述石英玻璃坯件随后通过热机械的均匀化（扭转（Verdrillen））和石英玻璃柱体的形成来均匀化。
在结束均匀化处理之后，烟尘体的羟基含量处于约25wt.ppm。
为了减小机械应力并且为了减少双折射以及为了产生抗压实的玻璃结构，使石英玻璃柱体经受温度处理，其中石英玻璃柱体在8小时的保持时间期间在空气和大气压力下被加热到1190℃并且随后以4℃/h的冷却速率冷却到1050℃的温度并且在该温度下保持4小时长。随后，将石英玻璃柱体以更高的、50℃/h的冷却速率冷却到300℃，随后停用炉并且石英玻璃柱体任由炉的自由冷却。
经如此处理的石英玻璃柱体具有350mm的外直径和60mm的厚度。在该厚度测量上出现1065℃的平均假定温度。
随后利用氢加载石英玻璃柱体。两级的处理在由100Vol.-%氢组成的氛围中通过在380℃的温度T加载下的加热、首先在11bar的压力p1加载和30小时的保持持续时间t1加载下，并且随后在1bar的压力p2加载和80小时的保持持续时间t2加载下进行。
之后得到的石英玻璃柱体基本上无氯、无氧缺陷位置并且无SiH基（低于5x1016个分子/cm3的探测极限），并且其在280mm（CA范围）内的直径的特征在于40x1016个分子/cm3的平均氢含量以及25wt.ppm的羟基含量。
在表格1中综合各个方法步骤的参数和用于样本1以及用于其他类似制备的样本2至7的测量结果。
测量结果：
表格1
压实的测量
所有样本借助193nm的波长的辐射照射，该辐射的特征在于以下剂量：
脉冲数量：5x109个脉冲；脉冲宽度：125ns；能量密度：分别500μJ/cm2；脉冲重复频率：2000Hz
在如此照射的样本上相对于未被照射的玻璃确定最大的局部折射率变化的量值，更确切地说，不仅通过借助193nm的测量波长的测量（最大折射率变化的量值：M193nm）而且通过借助633nm的测量波长的测量（最大折射率变化的量值：M633nm）。测量值的比值M193nm/M633nm在表格1的最后一行中给出。
测量结果示出，比值M193nm/M633nm可以视为用于小的和可预测的压实的质量提示，明显标准地由烟尘体在含N2O的氛围中再处理时和玻璃化的石英玻璃坯件在含氢的氛围中再处理时的参数确定。在此，看起来尤其N2处理的强度对于氧缺陷位置的消除并且氢加载时的温度对于SiH基的避免起着决定性的作用。
其他的、随后根据图1至4的示意图阐述的测量结果也示出这。
图1对于样本3示出比值V(M193nm/M633nm)随着照射剂量（剂量）的发展，所述照射剂量（剂量）作为能量密度平方与脉冲数量的乘积除以单位为ns的时间上的脉冲宽度（单位为(J/cm2)2/ns）。
因此，比值M193nm/M633nm在照射的开始首先陡峭地从1.0上升到约1.69并且然后（在约3x108个脉冲的脉冲数量之后；或者在约3J/cm2)2/ns的剂量D之后）约恒定地保持在该值上（下面也称作“终值”）。
对于其他石英玻璃质量实施相应的试验。样本1和5示出比值M193nm/M633nm随着照射剂量的类似变化过程。在其余样本中显示出比值M193nm/M633nm初始较强烈地上升到大于1.7并且也随着增加的照射剂量较不恒定的变化过程。在此涉及比较样本（这是样本2、4、6和7）。
在样本1、3和5中，由于比值M193nm/M633nm的很大程度的恒定性而能够实现：通过在波长633nm处的连续测量通过石英玻璃的应用借助193nm的UV激光辐射来可靠地说明压实的程度。
基于众多这样的测量的结果发现，在石英玻璃已经在N2O下经受足够的氧化处理的条件下，影响所述比值的终值的那些参数最后可以综合成在氢加载时的加载温度（T加载，单位为℃）和在此在石英玻璃中产生的平均氢浓度（CH2，单位为1017个分子/cm3）。
因此，对于SiH基的形成，在利用氢加载石英玻璃时的温度此外是决定性的。该温度越小，则在热平衡中出现的SiH基浓度越小。另一方面，利用氢的加载扩散控制地进行，使得低的加载温度——取决于扩散长度和可接受的浓度梯度——需要长的处理持续时间。
加载过程是耗费能量和耗费时间的并且因此尽可能短和“冷”，然而必须如所需要的那样长时间实施，以便保证石英玻璃的预给定的压实行为。该估计到目前为止根据经验进行。但已经表明，以下公式适合于估计比值M193nm/M633nm的终值：
M193nm/M633nm=1.47+0.0345 x 2((T 加载 -400）/25) x CH2       （1）
据此，现在终值在1.47处具有下极限。通过氢加载的参数产生附加的量值。因此，可以基于计算模型（1）估计用于比值M193nm/M633nm的终值和因此石英玻璃相对于193nm的波长的UV辐射、尤其在线性极化的辐射的情况下的压实倾向并且由此优化氢加载。
图2也示出，该模型假设适用。在此，对于来自表格1的样本中的一些样本，相对于在以上面特定的照射剂量照射之后实际测量的终值绘出比值M193nm/M633nm的根据在上面说明的模型计算（1）确定的终值。显示出，测量值几乎精确地位于具有斜率1的直线上，这可以视为根据公式（1）的模型的正确性的证明。
该结果在考虑图3的三维建模的情况下变得更容易理解。在此，相对于单位为1017个分子/cm3的、石英玻璃的氢含量CH2（x轴）并且相对于单位为℃的、在氢加载时的温度T加载（z轴）绘出比值M193nm/M633nm的终值（作为用于石英玻璃的压实倾向的度量值）。加载温度T加载在此同时是用于SiH浓度的度量。
据此，压实倾向随着加载温度基本上强烈地上升并且随着氢浓度稍微上升。经常预给定一定的氢浓度。该预给定基本上可以在高的加载温度下在短时间内或者在低的加载温度下在较长的时间内被满足。在最先被提到的情况中必然产生更高的压实倾向，在第二种情况中产生经济上更耗费的制造过程。
如果对于氢浓度补充地也预给定最大允许的压实倾向，则可以根据所述模型确定最高的、恰恰还允许的加载温度并且因此可以将加载持续时间缩短到最小值。

Claims (11)

1. 由合成石英玻璃制成的光学部件，所述光学部件用在借助193nm的应用波长的ArF准分子激光光刻中，所述光学部件具有基本上无氧缺陷位置的玻璃结构、具有在0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围内的氢含量并且具有少于2x1017个分子/cm3的SiH基含量和具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间范围内的羟基含量，其中所述玻璃结构具有小于1070℃的假定温度并且对利用波长为193nm、具有5x109个具有脉冲宽度为125ns并且能量密度分别为500μJ/cm2以及脉冲重复频率为2000Hz的脉冲的辐射的照射以激光诱导的折射率变化做出反应，所述折射率变化的量值在借助193nm的应用波长进行测量的情况下得出第一测量值M193nm并且在借助633nm的测量波长进行测量的情况下得出第二测量值M633nm，其中适用：M193nm/M633nm<1.7。
2. 根据权利要求1所述的光学部件，其特征在于，在测量激光诱导的折射率变化的情况下，对于第一测量值M193nm和第二测量值M633nm的比值适用：M193nm/M633nm<1.6并且优选：M193nm/M633nm<1.55。
3. 根据权利要求1或2所述的光学部件，其特征在于低于1055℃的假定温度。
4. 根据以上权利要求中任一项所述的光学部件，其特征在于在10wt.ppm至60wt.ppm之间的羟基含量。
5. 根据以上权利要求中任一项所述的光学部件，其特征在于小于10wt.ppm的氟含量。
6. 根据以上权利要求中任一项所述的光学部件，其特征在于小于0.1wt.ppm的氯含量。
7. 用于制造根据上述权利要求1至6中任一项所述的由石英玻璃制成的光学部件的方法，所述方法包括以下方法步骤：
（a）通过包含硅的初始物质的火焰水解产生由SiO2组成的多孔烟尘体；
（b）使所述烟尘体干燥；
（c）在起氧化作用的氛围中处理烟尘体，所述氛围包含N2O，具有以下标准：通过按照方法步骤（b）的干燥并且通过根据方法步骤（c）的处理调节烟尘体中的羟基含量，使得
（d）通过随后烟尘体的烧结，使得得到由石英玻璃组成的半成品，所述半成品具有在0.1wt.ppm和100wt.ppm之间的范围内的平均羟基含量，并且
（e）通过将所述半成品成型成由石英玻璃构成的坯件并且退火所述坯件，使得所述坯件具有小于1070℃的平均假定温度；
（f）通过在低于400℃的温度下在包含氢的氛围中的加热来给所述坯件加载氢以产生0.1x1016个分子/cm3至1.0x1018个分子/cm3的范围中的平均氢含量。
8. 根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述烟尘体根据方法步骤（b）的干燥包括所述烟尘体在1100℃和1350℃之间的范围内、优选在最大1300℃的干燥温度下的处理。
9. 根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，在包含N2O的氛围中的处理在小于600℃、优选低于500℃的处理温度下进行，其中所述氛围的N2O含量在0.1Vol.-%和10Vol.-%之间、优选在0.5Vol.-%和5Vol.-%之间并且处理持续时间是至少10h。
10. 根据权利要求7至9中任一项所述的方法，其特征在于，所述石英玻璃坯件利用氢的加载在低于350℃的温度下进行。
11. 根据权利要求7至10中任一项所述的方法，其特征在于，所述石英玻璃坯件利用氢的加载在1bar和150bar之间的压力下进行。
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