CN104947038A - 浪型保持架的表面处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种浪型保持架的表面处理方法,包括以下工序:将浪型保持架进行清洗,去除表面杂质和油污,并用氮气将浪型保持架表面吹干,将浪型保持架的背面或/和正面向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空9.4×10-4 Pa~1.1×10-3Pa状态下,Ar:O2为3:2,溅射气压为1Pa,溅射功率为120W,以碳化钨为靶材,溅射时间为30min~1h,在浪型保持架表面溅射制得1000nm~2000nm的碳化钨薄膜。本发明的优点是本发明的表面处理过程中不易使保持架产生变形,且不会出现氮化物脉状分布而导致浪型保持架断裂、卡死后至轴承失效问题。
Description
技术领域
本发明涉及一种轴承配件的表面处理方法,具体是指浪型保持架的表面处理方法。
背景技术
浪型保持架广泛用于深沟球轴承和向心球轴承中,是决定轴承性能的重要配件。浪型保持架的结构一般包括有间隔分布的若干球兜以及连接于相邻球兜之间的球兜梁,整个构成环形的波浪状,如图1所示。
浪型保持架普通氮化处理后在工作时,由于心部(保持架截面中心部位)存在较多的脉状分布的氮化物,易引起浪型保持架的疲劳强度下降,同时增加了脆性,严重者导致浪型保持架断裂、卡死后至轴承失效。另外,浪型保持架普通氮化过程中,温度较高易产生变形。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有技术存在的缺点和不足,而提供一种表面处理过程中不易使保持架产生变形,且不会出现氮化物脉状分布而导致浪型保持架断裂、卡死后至轴承失效问题的浪型保持架的表面处理方法。
为实现上述目的,本发明的技术方案是将浪型保持架进行清洗,去除表面杂质和油污,并用氮气将浪型保持架表面吹干,将浪型保持架的背面或/和正面向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空9.4×10-4 Pa~1.1×10-3 Pa状态下,Ar:O2为3:2-2:3,溅射气压为1~3Pa,溅射功率为100W~130W,以碳化钨为靶材,溅射时间为30 min~1h,在浪型保持架表面溅射制得1000nm~2000nm的碳化钨薄膜。
进一步设置是所述的浪型保持架依次用去离子水、丙酮、无水乙醇进行清洗。
本发明的优点是:
(1)能够增加保持架表面耐磨性,耐腐蚀性。
(2)与普通浪型保持架氮化处理方法相比,新的浪型保持架表面处理方法可以缩短生产周期,提升生产速度。
(3)与普通浪型保持架氮化处理方法相比,新的浪型保持架表面处理方法温度较低,不易使保持架产生变形。
(4)能使浪型保持架寿命得到一定程度的提升,同时普通浪型保持架氮化,在冷却过程中经常出现较多呈脉状分布的氮化物,易引起浪型保持架的疲劳强度下降,同时增加了脆性,严重者导致浪型保持架断裂、卡死后至轴承失效,新的浪型保持架表面处理方法保证表面耐磨性耐腐蚀性的同时不会出现此类现象。
(5)采用本发明工艺处理后的浪型保持架尺寸稳定,浪型保持架表面硬度可达2200HV,耐磨性提高了300%,经强化寿命试验后,其疲劳寿命是常规氮化处理保持架的6倍。
下面结合说明书附图和具体实施方式对本发明做进一步介绍。
附图说明
图1 本发明的浪型保持架的结构示意图。
具体实施方式
下面通过实施例对本发明进行具体的描述,只用于对本发明进行进一步说明,不能理解为对本发明保护范围的限定,该领域的技术工程师可根据上述发明的内容对本发明作出一些非本质的改进和调整。
实例1
1.1 洗浪型保持架
浪型保持架分别用去离子水、丙酮、无水乙醇清洗10 min,最后用氮气将浪型保持架表面吹干。
1.2 镀膜
参见图1,将浪型保持架背面1向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空9.4×10-4 Pa状态下,Ar:O2为3:2,溅射气压为1 Pa,溅射功率为120 W,以碳化钨(WC)为靶材,溅射时间为40 min,在浪型保持架背面1溅射制得1492.1 nm的碳化钨(WC)薄膜。
将浪型保持架正面2向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空9.4×10-4 Pa状态下,Ar:O2为3:2,溅射气压为1 Pa,溅射功率为120 W,以碳化钨(WC)为靶材,溅射时间为40 min,在浪型保持架正面2溅射制得1498.4 nm的碳化钨(WC)薄膜。
实例2
1.1 洗浪型保持架
浪型保持架分别用去离子水、丙酮、无水乙醇清洗10 min,最后用氮气将浪型保持架表面吹干。
1.2 镀膜
参见图1, 将浪型保持架背面向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空1.1×10-3 Pa状态下,Ar:O2为3:2,溅射气压为1 Pa,溅射功率为130 W,以碳化钨(WC)为靶材,溅射时间为40 min,在浪型保持架A面(如附图)溅射制得1489.6 nm的碳化钨(WC)薄膜。
将浪型保持架正面2向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空9.4×10-4 Pa状态下,Ar:O2为3:2,溅射气压为1 Pa,溅射功率为120 W,以碳化钨(WC)为靶材,溅射时间为40 min,在浪型保持架正面2溅射制得1480.7 nm的碳化钨(WC)薄膜。
上述实施例中,浪型保持架正面系指球兜11的底面所在面为正面2,相应的球兜所在面的背面即为浪型保持架背面1。
Claims (2)
1.一种浪型保持架的表面处理方法,其特征在于包括以下工序:
将浪型保持架进行清洗,去除表面杂质和油污,并用氮气将浪型保持架表面吹干,将浪型保持架的背面或/和正面向上置于磁控溅射镀膜机内,并处于真空9.4×10-4 Pa~1.1×10-3 Pa状态下,Ar:O2为3:2-2:3,溅射气压为1~3Pa,溅射功率为100W~130W,以碳化钨为靶材,溅射时间为30 min~1h,在浪型保持架表面溅射制得1000nm~2000nm的碳化钨薄膜。
2.根据权利要求1所述的浪型保持架的表面处理方法,其特征在于:所述的浪型保持架依次用去离子水、丙酮、无水乙醇进行清洗。
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