CN104932161A - 阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供了一种阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置，属于显示技术领域。阵列基板包括形成在衬底基板上的信号线和与所述信号线绝缘设置的公共电极线，所述公共电极线包括同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，所述第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧。本发明的技术方案能够很方便检测到阵列基板上数据线和栅线的不良，并在数据线和栅线产生断路不良时，很容易对数据线和栅线进行修复。

Description

阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别是指一种阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置。
背景技术
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜场效应晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，TFT-LCD)是目前液晶显示器中的主流产品。
随着TFT-LCD产品的竞争日益激烈，各厂家纷纷通过采用新技术来降低产品的成本，提高产品的市场竞争力。然而，现有的液晶显示器的阵列基板结构中数据线和栅线发生断路(open)的几率相对较大，尤其是阵列基板与彩膜基板成盒以后，如果在数据线上存在断路，信号将无法正常通过数据线传输到每个像素区域，因此导致液晶显示器无法正常显示。
现有技术为了减小公共电极线的阻抗，如图1所示，采用单独的一层金属来形成网状的公共电极线4，形成的公共电极线4一般位于栅线1和数据线2的上方，将会对栅线1和数据线2造成遮挡，导致难以检测栅线1和数据线2的不良，并且，在栅线1和数据线2产生不良时，很难对栅线1和数据线2进行修复。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置，能够很方便检测到阵列基板上数据线和栅线的不良，并在数据线和栅线产生断路不良时，很容易对数据线和栅线进行修复。
为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：
一方面，提供一种阵列基板，包括形成在衬底基板上的信号线和与所述信号线绝缘设置的公共电极线，所述公共电极线包括同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，所述第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧。
进一步地，所述信号线包括栅线和数据线。
进一步地，所述第一走线和第二走线与所述信号线位于不同层，所述第一走线和第二走线与所述导电连接线位于同一层。
进一步地，所述第一走线和第二走线与所述信号线位于同一层，所述第一走线和第二走线与所述导电连接线位于不同层。
进一步地，在第一位置点与第二位置点之间的信号线出现断路时，在所述第一走线的第一延伸方向上，距离所述第一位置点最近的第三位置点处的第一导电连接线与所述第二走线的连接断开，所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接，所述第一过孔位于所述第一导电连接线与所述信号线的交点处；
在所述第一走线的第二延伸方向上，距离所述第二位置点最近的第四位置点处的第二导电连接线与所述第二走线的连接断开，所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接，所述第二过孔位于所述第二导电连接线与所述信号线的交点处；
所述第一走线位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与所述第一走线其他部分的连接断开；
其中，第一延伸方向与第二延伸方向为相反的方向。
本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如上所述的阵列基板。
本发明实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成信号线，所述制作方法还包括：
形成同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，并形成连接所述第一走线和第二走线的导电连接线，所述第一走线、第二走线和所述导电连接线组成与所述信号线绝缘的公共电极线，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧。
本发明实施例还提供了一种阵列基板的修复方法，所述阵列基板包括形成在衬底基板上的信号线和与所述信号线绝缘设置的公共电极线，所述公共电极线包括同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，所述第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧，所述修复方法包括：
在第一位置点与第二位置点之间的信号线出现断路时，在所述第一走线的第一延伸方向上，将距离所述第一位置点最近的第三位置点处的第一导电连接线与所述第二走线的连接断开，将所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接，所述第一过孔位于所述第一导电连接线与所述信号线的交点处；
在所述第一走线的第二延伸方向上，将距离所述第二位置点最近的第四位置点处的第二导电连接线与所述第二走线的连接断开，将所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接，所述第二过孔位于所述第二导电连接线与所述信号线的交点处；
将所述第一走线位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与所述第一走线其他部分的连接断开；
其中，第一延伸方向与第二延伸方向为相反的方向。
进一步地，所述信号线包括栅线和数据线。
进一步地，将所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接包括：
在所述第一导电连接线与所述信号线的交点处形成贯穿所述第一导电连接线与所述信号线之间所有膜层的第一过孔，并清除所述第一过孔处的导电图形；
通过所述第一过孔将所述第一导电连接线与所述信号线焊接在一起；
将所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接包括：
在所述第二导电连接线与所述信号线的交点处形成贯穿所述第二导电连接线与所述信号线之间所有膜层的第二过孔，并清除所述第二过孔处的导电图形；
通过所述第二过孔将所述第二导电连接线与所述信号线焊接在一起。
本发明的实施例具有以下有益效果：
上述方案中，公共电极线包括同层设置、分别与信号线平行的第一走线和第二走线，第一走线在衬底基板上的投影与第二走线在衬底基板上的投影分别位于信号线在衬底基板上的投影的两侧，因此，第一走线和第二走线不会对信号线造成遮挡，方便对信号线进行检测；另外，第一走线和第二走线通过导电连接线进行连接，导电连接线将与信号线产生交点，如果信号线出现断路，可以利用交点处的过孔将信号线与导电连接线连接起来，通过导电连接线和部分第一走线形成的修复线能够很容易对信号线进行修复，由于公共电极线还包括有第二走线，因此，牺牲掉部分第一走线也不会对公共电极线的工作造成影响。
附图说明
图1为现有技术中阵列基板的结构示意图；
图2为本发明实施例形成栅线后的示意图；
图3为本发明实施例形成数据线后的示意图；
图4为本发明实施例形成第一透明导电层后的示意图；
图5为本发明实施例形成公共电极线后的示意图；
图6为本发明实施例对断路的数据线进行修复的示意图。
附图标记
1栅线 2数据线 3第一透明导电层 4公共电极线
具体实施方式
为使本发明的实施例要解决的技术问题、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例进行详细描述。
本发明的实施例针对现有技术中在采用单独的一层金属来形成网状的公共电极线时，形成的公共电极线一般位于栅线和数据线的上方，将会对栅线和数据线造成遮挡，导致难以检测栅线和数据线的不良，并且，在栅线和数据线产生不良时，很难对栅线和数据线进行修复的问题，提供一种阵列基板及其制作方法、修复方法、显示装置，能够很方便检测到阵列基板上数据线和栅线的不良，并在数据线和栅线产生断路不良时，很容易对数据线和栅线进行修复。
实施例一
本实施例提供了一种阵列基板，包括形成在衬底基板上的信号线和与信号线绝缘设置的公共电极线，公共电极线包括同层设置、分别与信号线平行的第一走线和第二走线，第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，第一走线在衬底基板上的投影与第二走线在衬底基板上的投影分别位于信号线在衬底基板上的投影的两侧。
本实施例中，由于第一走线在衬底基板上的投影与第二走线在衬底基板上的投影分别位于信号线在衬底基板上的投影的两侧，因此，第一走线和第二走线不会对信号线造成遮挡，方便对信号线进行检测；另外，第一走线和第二走线通过导电连接线进行连接，导电连接线将与信号线产生交点，如果信号线出现断路，可以利用交点处的过孔将信号线与导电连接线连接起来，通过导电连接线和部分第一走线形成的修复线能够很容易对信号线进行修复，由于公共电极线还包括有第二走线，因此，牺牲掉部分第一走线也不会对公共电极线的工作造成影响。
具体实施例中，信号线可以为栅线和/或数据线。
具体实施例中，第一走线和第二走线与信号线可以位于不同层，第一走线和第二走线与导电连接线位于同一层。
另一具体实施例中，第一走线和第二走线与信号线可以位于同一层，第一走线和第二走线与导电连接线位于不同层。
进一步地，在第一位置点与第二位置点之间的信号线出现断路时，在所述第一走线的第一延伸方向上，距离所述第一位置点最近的第三位置点处的第一导电连接线与所述第二走线的连接断开，所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接，所述第一过孔位于所述第一导电连接线与所述信号线的交点处；
在所述第一走线的第二延伸方向上，距离所述第二位置点最近的第四位置点处的第二导电连接线与所述第二走线的连接断开，所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接，所述第二过孔位于所述第二导电连接线与所述信号线的交点处；
所述第一走线位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与所述第一走线其他部分的连接断开；
其中，第一延伸方向与第二延伸方向为相反的方向。
这样在信号线出现断路时，断开与信号线最近的导电连接线与第二走线的连接，并利用导电连接线以及对应的部分第一走线形成修复线，通过位于导电连接线与信号线交点处的过孔连接修复线和信号线，可以很容易对信号线进行修复。
实施例二
本实施例提供了一种显示装置，包括如上的阵列基板。其中，阵列基板的结构以及工作原理同上述实施例，在此不再赘述。另外，显示装置其他部分的结构可以参考现有技术，对此本文不再详细描述。该显示装置可以为：液晶面板、电子纸、液晶电视、液晶显示器、数码相框、手机、平板电脑等具有任何显示功能的产品或部件。
实施例三
本实施例还提供了一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成信号线，所述制作方法还包括：
形成同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，并形成连接所述第一走线和第二走线的导电连接线，所述第一走线、第二走线和所述导电连接线组成与所述信号线绝缘的公共电极线，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧。
本实施例制作的阵列基板，由于第一走线在衬底基板上的投影与第二走线在衬底基板上的投影分别位于信号线在衬底基板上的投影的两侧，因此，第一走线和第二走线不会对信号线造成遮挡，方便对信号线进行检测；另外，第一走线和第二走线通过导电连接线进行连接，导电连接线将与信号线产生交点，如果信号线出现断路，可以利用交点处的过孔将信号线与导电连接线连接起来，通过导电连接线和部分第一走线形成的修复线能够很容易对信号线进行修复，由于公共电极线还包括有第二走线，因此，牺牲掉部分第一走线也不会对公共电极线的工作造成影响。
实施例四
本实施例还提供了一种阵列基板的修复方法，所述阵列基板包括形成在衬底基板上的信号线和与所述信号线绝缘设置的公共电极线，所述公共电极线包括同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，所述第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧，所述修复方法包括：
在第一位置点与第二位置点之间的信号线出现断路时，在所述第一走线的第一延伸方向上，将距离所述第一位置点最近的第三位置点处的第一导电连接线与所述第二走线的连接断开，将所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接，所述第一过孔位于所述第一导电连接线与所述信号线的交点处；
在所述第一走线的第二延伸方向上，将距离所述第二位置点最近的第四位置点处的第二导电连接线与所述第二走线的连接断开，将所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接，所述第二过孔位于所述第二导电连接线与所述信号线的交点处；
将所述第一走线位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与所述第一走线其他部分的连接断开；
其中，第一延伸方向与第二延伸方向为相反的方向。
这样在信号线出现断路时，断开与信号线最近的导电连接线与第二走线的连接，并利用导电连接线以及对应的部分第一走线形成修复线，通过位于导电连接线与信号线交点处的过孔连接修复线和信号线，可以很容易对信号线进行修复。
具体实施例中，信号线可以为栅线和/或数据线。
进一步地，将所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接包括：
在所述第一导电连接线与所述信号线的交点处形成贯穿所述第一导电连接线与所述信号线之间所有膜层的第一过孔，并清除所述第一过孔处的导电图形；
通过所述第一过孔将所述第一导电连接线与所述信号线焊接在一起；
将所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接包括：
在所述第二导电连接线与所述信号线的交点处形成贯穿所述第二导电连接线与所述信号线之间所有膜层的第二过孔，并清除所述第二过孔处的导电图形；
通过所述第二过孔将所述第二导电连接线与所述信号线焊接在一起。
本实施例在通过过孔连接导电连接线和信号线前，还需要清除过孔处的导电图形，防止将信号线和导电连接线与其他膜层的导电图形连接在一起。
实施例五
下面结合附图以及具体的实施例对本实施例的阵列基板及其修复方法进行详细介绍，本实施例的阵列基板的制作方法包括以下步骤:
步骤1、提供一衬底基板，在衬底基板上形成栅电极和栅线1的图形；
其中，衬底基板可为玻璃基板或石英基板。具体地，可以采用磁控溅射或热蒸发的方法在衬底基板上沉积厚度约为的栅金属层，栅金属层可以是Cu，Al，Ag，Mo，Cr，Nd，Ni，Mn，Ti，Ta，W等金属以及这些金属的合金，栅金属层可以为单层结构或者多层结构，多层结构比如Cu\Mo,Ti\Cu\Ti，Mo\Al\Mo等。在栅金属层上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于栅线1和栅电极的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的栅金属薄膜，剥离剩余的光刻胶，如图2所示，形成栅线1和栅电极的图形。
步骤2、在完成步骤1的衬底基板上形成栅绝缘层、半导体有源层和欧姆接触层的图形；
具体地，采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)方法在完成步骤1的衬底基板上沉积厚度为的栅绝缘层，栅绝缘层可以选用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，对应的反应气体是SiH4、NH3、N2或SiH2Cl2、NH3、N2。
之后在栅绝缘层上依次沉积半导体有源层材料和欧姆接触层材料，在欧姆接触层材料上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和完全保留区域。其中，光刻胶完全保留区域对应于半导体有源层以及欧姆接触层的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于半导体有源层以及欧姆接触层的图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶完全保留区域的光刻胶厚度保持不变。通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的半导体有源层以及欧姆接触层材料，剥离剩余的光刻胶，形成栅绝缘层、半导体有源层和欧姆接触层的图形。
步骤3、在完成步骤2的衬底基板上形成源电极、漏电极和数据线2的图形；
具体地，可以在完成步骤2的衬底基板上采用磁控溅射、热蒸发或其它成膜方法沉积一层厚度约为的源漏金属层，源漏金属层可以是Cu，Al，Ag，Mo，Cr，Nd，Ni，Mn，Ti，Ta，W等金属以及这些金属的合金。源漏金属层可以是单层结构或者多层结构，多层结构比如Cu\Mo，Ti\Cu\Ti，Mo\Al\Mo等。在源漏金属层上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于源电极、漏电极和数据线2的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的源漏金属层，以及有源层区域的欧姆接触层，剥离剩余的光刻胶，形成如图3所示的结构。
步骤4、在完成步骤3的衬底基板上形成第一绝缘层和第一透明导电层3的图形；
具体地，可以在完成步骤3的衬底基板上采用PECVD方法沉积厚度为的第一绝缘层，第一绝缘层可以选用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，具体地，第一绝缘层材料可以是SiNx，SiOx或Si(ON)x，第一绝缘层可以是单层结构，也可以是采用氮化硅和氧化硅构成的两层结构。之后在第一绝缘层上通过磁控溅射或热蒸发的方法沉积厚度约为的第一透明导电层，第一透明导电层可以是ITO、IZO或者其他的透明金属氧化物，在第一透明导电层上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的透明导电层薄膜，剥离剩余的光刻胶，形成第一透明导电层3的图形，如图4所示，第一透明导电层3的图形可以作为像素电极。
步骤5、在完成步骤4的衬底基板上形成第二绝缘层和公共电极线4的图形；
具体地，可以在完成步骤4的衬底基板上采用PECVD方法沉积厚度为的第二绝缘层，第二绝缘层可以选用氧化物、氮化物或者氧氮化合物，具体地，第二绝缘层材料可以是SiNx，SiOx或Si(ON)x，第二绝缘层可以是单层结构，也可以是采用氮化硅和氧化硅构成的两层结构。之后在第二绝缘层上通过磁控溅射或热蒸发的方法沉积厚度约为的金属层，金属层的材料可以为铂、铬和铝等金属以及这些金属的合金，金属层可以为单层结构或者多层结构。在金属层上涂覆一层光刻胶，采用掩膜板对光刻胶进行曝光，使光刻胶形成光刻胶未保留区域和光刻胶保留区域，其中，光刻胶保留区域对应于公共电极线4的图形所在区域，光刻胶未保留区域对应于上述图形以外的区域；进行显影处理，光刻胶未保留区域的光刻胶被完全去除，光刻胶保留区域的光刻胶厚度保持不变；通过刻蚀工艺完全刻蚀掉光刻胶未保留区域的金属层，剥离剩余的光刻胶，形成公共电极线4的图形，如图5所示，公共电极线4包括呈网状的第一部分走线和第二部分走线，其中第一部分走线与栅线1平行，在衬底基板上的投影分别位于栅线1在衬底基板上投影的两侧，位于栅线1两侧的走线之间通过多条导电连接线连接；第二部分走线与数据线2平行，在衬底基板上的投影分别位于数据线2在衬底基板上投影的两侧，位于数据线2两侧的走线之间通过多条导电连接线连接。
经过上述步骤1-5即可制作得到本实施例的阵列基板。本实施例中，由于第一部分走线在衬底基板上的投影分别位于栅线在衬底基板上投影的两侧，第二部分走线在衬底基板上的投影分别位于数据线在衬底基板上投影的两侧，因此，第一部分走线和第二部分走线不会对栅线和数据线造成遮挡，方便对栅线和数据线进行检测。
另外，分列栅线两侧的第一部分走线之间通过导电连接线进行连接，导电连接线将与栅线产生交点，如果栅线出现断路，可以利用交点处的过孔将栅线与导电连接线连接起来，通过导电连接线和第一部分走线的一部分形成修复线，利用修复线能够很容易对栅线进行修复；分列数据线两侧的第二部分走线之间通过导电连接线进行连接，导电连接线将与数据线产生交点，如果数据线出现断路，可以利用交点处的过孔将数据线与导电连接线连接起来，通过导电连接线和第二部分走线的一部分形成修复线，利用修复线能够很容易对数据线进行修复。
如图6所示，位置点A与位置点B之间的数据线2出现断路时，在数据线2的第一延伸方向上，将距离位置点A最近的位置点C处的第一导电连接线与走线41的连接断开，在位置点C处形成贯穿公共电极线4和数据线2之间所有膜层的过孔，清除过孔处的第一透明导电层3的图形，并通过该过孔将第一导电连接线与数据线2焊接在一起；在数据线2的第二延伸方向(第二延伸方向为与第一延伸方向相反的方向)上，将距离位置点B最近的位置点D处的第二导电连接线与走线41的连接断开，在位置点D处形成贯穿公共电极线4和数据线2之间所有膜层的过孔，清除该过孔处的第一透明导电层3的图形，并通过该过孔将第二导电连接线与数据线2焊接在一起，同时，将走线42位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与走线42其他部分的连接断开，这样，利用第一导电连接线、第二导电连接线、第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分走线42组成修复线，可以很容易对断路的数据线2进行修复，同时由于还有走线41的存在，因此，不会对公共电压的传输造成影响。
同理，在栅线1出现断路时，同样可以利用公共电极线4的一部分对栅线进行修复。
以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种阵列基板，包括形成在衬底基板上的信号线和与所述信号线绝缘设置的公共电极线，其特征在于，所述公共电极线包括同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，所述第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述信号线包括栅线和数据线。
3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一走线和第二走线与所述信号线位于不同层，所述第一走线和第二走线与所述导电连接线位于同一层。
4.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一走线和第二走线与所述信号线位于同一层，所述第一走线和第二走线与所述导电连接线位于不同层。
5.根据权利要求3或4所述的阵列基板，其特征在于，在第一位置点与第二位置点之间的信号线出现断路时，在所述第一走线的第一延伸方向上，距离所述第一位置点最近的第三位置点处的第一导电连接线与所述第二走线的连接断开，所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接，所述第一过孔位于所述第一导电连接线与所述信号线的交点处；
在所述第一走线的第二延伸方向上，距离所述第二位置点最近的第四位置点处的第二导电连接线与所述第二走线的连接断开，所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接，所述第二过孔位于所述第二导电连接线与所述信号线的交点处；
所述第一走线位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与所述第一走线其他部分的连接断开；
其中，第一延伸方向与第二延伸方向为相反的方向。
6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-5中任一项所述的阵列基板。
7.一种阵列基板的制作方法，包括在衬底基板上形成信号线，其特征在于，所述制作方法还包括：
形成同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，并形成连接所述第一走线和第二走线的导电连接线，所述第一走线、第二走线和所述导电连接线组成与所述信号线绝缘的公共电极线，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧。
8.一种阵列基板的修复方法，其特征在于，所述阵列基板包括形成在衬底基板上的信号线和与所述信号线绝缘设置的公共电极线，所述公共电极线包括同层设置、分别与所述信号线平行的第一走线和第二走线，所述第一走线和第二走线之间通过导电连接线连接，其中，所述第一走线在所述衬底基板上的投影与所述第二走线在所述衬底基板上的投影分别位于所述信号线在所述衬底基板上的投影的两侧，所述修复方法包括：
在第一位置点与第二位置点之间的信号线出现断路时，在所述第一走线的第一延伸方向上，将距离所述第一位置点最近的第三位置点处的第一导电连接线与所述第二走线的连接断开，将所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接，所述第一过孔位于所述第一导电连接线与所述信号线的交点处；
在所述第一走线的第二延伸方向上，将距离所述第二位置点最近的第四位置点处的第二导电连接线与所述第二走线的连接断开，将所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接，所述第二过孔位于所述第二导电连接线与所述信号线的交点处；
将所述第一走线位于第一导电连接线和第二导电连接线之间的部分与所述第一走线其他部分的连接断开；
其中，第一延伸方向与第二延伸方向为相反的方向。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的修复方法，其特征在于，所述信号线包括栅线和数据线。
10.根据权利要求8所述的阵列基板的修复方法，其特征在于，将所述第一导电连接线通过第一过孔与所述信号线连接包括：
在所述第一导电连接线与所述信号线的交点处形成贯穿所述第一导电连接线与所述信号线之间所有膜层的第一过孔，并清除所述第一过孔处的导电图形；
通过所述第一过孔将所述第一导电连接线与所述信号线焊接在一起；
将所述第二导电连接线通过第二过孔与所述信号线连接包括：
在所述第二导电连接线与所述信号线的交点处形成贯穿所述第二导电连接线与所述信号线之间所有膜层的第二过孔，并清除所述第二过孔处的导电图形；
通过所述第二过孔将所述第二导电连接线与所述信号线焊接在一起。
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