CN104669709A - 外壳及其制造方法 - Google Patents

外壳及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN104669709A
CN104669709A CN201310614634.1A CN201310614634A CN104669709A CN 104669709 A CN104669709 A CN 104669709A CN 201310614634 A CN201310614634 A CN 201310614634A CN 104669709 A CN104669709 A CN 104669709A
Authority
CN
China
Prior art keywords
shell
target
layer
transition zone
base material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201310614634.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104669709B (zh
Inventor
张春杰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd filed Critical Shenzhen Futaihong Precision Industry Co Ltd
Priority to CN201310614634.1A priority Critical patent/CN104669709B/zh
Priority to TW102144563A priority patent/TWI596009B/zh
Priority to JP2014236307A priority patent/JP6559944B2/ja
Publication of CN104669709A publication Critical patent/CN104669709A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104669709B publication Critical patent/CN104669709B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B15/00—Layered products comprising a layer of metal
    • B32B15/04—Layered products comprising a layer of metal comprising metal as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B9/00—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
    • B32B9/04—Layered products comprising a layer of a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00 comprising such particular substance as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34—Sputtering
    • C23C14/35—Sputtering by application of a magnetic field, e.g. magnetron sputtering
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K5/00—Casings, cabinets or drawers for electric apparatus
    • H05K5/04—Metal casings

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

一种外壳，其包括基材及形成于基材表面的透明膜，该透明膜包括打底层、过渡层和透明层，该打底层为铬层，该过渡层为碳化铬层，该透明层为硅层。本发明还涉及一种外壳的制造方法：提供基材；以铬靶为靶材，在基材表面溅镀打底层；以铬靶为靶材，通入反应气体乙炔，在打底层的表面溅镀过渡层；以硅靶为靶材，在过渡层的表面溅镀透明层。所述透明膜具有高光亮度，使外壳的表面呈现较高的亮度和光洁度；膜层之间的逐层过渡较好，使外壳具有较高的硬度和抗磨损的性能，延长了外壳的使用寿命。

Description

外壳及其制造方法
技术领域
本发明涉及一种外壳及其制造方法，尤其涉及一种表面形成有透明膜的外壳及其制造方法。
背景技术
随着科技的迅速演进，移动电话、个人计算机等3C产品和汽车电子产品的发展迅速，市场上所出现的高光、高亮度、多样化的外壳及表面具有金属外观的产品普遍得到消费者的青睐。为了使电子产品呈现良好的亮度和光洁度，通常使用喷涂等传统的制作工艺于电子产品表面形成透明膜。然而，这些传统的制作工艺复杂，且制作的透明膜光洁度较低，耐磨损性能较差，使用寿命较短。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种外壳，其表面形成有高光、高亮度的透明膜。
另外，还有必要提供一种上述外壳的制造方法。
一种外壳，其包括基材和形成于基材表面的透明膜，该透明膜包括打底层、形成于打底层表面的过渡层及形成于过渡层表面的透明层，该打底层为铬层，该过渡层为碳化铬层，该透明层为硅层，该打底层形成于所述基材的表面，该过渡层形成于该打底层的表面，该透明层形成于该过渡层的表面。
一种外壳的制造方法，其包括如下步骤：
提供基材；
以铬靶为靶材，采用磁控溅射法在基材表面溅镀打底层，该打底层为铬层；
以铬靶为靶材，通入反应气体乙炔，采用磁控溅射法在打底层的表面溅镀过渡层，该过渡层为碳化铬层；
以硅靶为靶材，采用磁控溅射法在过渡层的表面溅镀透明层，该透明层为硅层。
本发明采用特殊的靶材组合，配合新的PVD镀膜工艺，制备出具有透明膜的外壳，所述透明膜具有高光亮度，使外壳的表面具有较高的亮度和光洁度。另，使用磁控溅射法在基体表面依次溅镀打底层、过渡层和透明层，膜层之间逐层过渡较好，膜层内部没有明显的应力产生，这样在施加外力时，透明膜不易被破坏，可呈现良好的硬度和耐磨性，延长了外壳的使用寿命。
附图说明
图1为本发明一较佳实施例的外壳的剖视图。
图2为本发明一较佳实施例真空镀膜机的俯视示意图。
主要元件符号说明
金属外壳 100
基材 20
透明膜 10
打底层 13
过渡层 15
透明层 17
真空镀膜机 200
镀膜室 21
铬靶 23
硅靶 24
轨迹 25
真空泵 300
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明提供一种较佳实施方式的外壳100，其可用于3C电子产品或汽车电子产品。该外壳100包括基材20和透明膜10，该透明膜10无色透明。该透明膜10包括形成于基材20表面的打底层13、形成于打底层13表面的过渡层15及形成于过渡层15表面的透明层17。
该基材20的材质为可为金属、塑料或陶瓷。
该打底层13为金属铬层，其厚度为0.1-0.3μm，该打底层13起到提高膜层结合力的作用。
该过渡层15为碳化铬层，其厚度为0.2-0.4μm，该过渡层15可增强透明层17的附着力。
该透明层17为硅层，其厚度为0.1-0.3μm。该透明层17中仅含有硅原子，因此其透明性较好。
本发明使用磁控溅射法，首先在基材20的表面溅镀金属铬作为打底层13，再在打底层13的表面溅镀过渡层15，最后在过渡层15上溅镀透明层17，膜层之间逐层过渡较好，且膜层之间结合较好，膜层内部没有明显的应力产生，这样，在施加外力时，透明膜10不易被破坏，可呈现良好的硬度和耐磨性。
所述打底层13为金属铬层，具有透明性；所述过渡层15为CrC层，且厚度较小，不影响透明膜10的透明度；所述透明层17仅含有硅原子，具有较高的透明性，且该透明层17表面平整，因此所述透明膜10具有较高的透明度，从而使外壳100的表面呈现较高的亮度和光洁度。
本发明一较佳实施方式外壳100的制备方法，其包括如下步骤：
请参阅图2，提供一真空镀膜机200，其包括一镀膜室21及连接于镀膜室21的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室21抽真空。该镀膜室21内设有转架(未图示)、铬靶23和硅靶24。转架带动基材20沿圆形的轨迹25公转，且基材20在沿轨迹25公转时亦自转。
提供基材20，该基材20的材质可为金属、塑料和陶瓷的任意一种。
对该基材20进行表面预处理，该表面预处理可包括常规的对基材20进行清洗及抛光等步骤，将预处理后的基材20烘干后固定于镀膜室21内的转架上。
抽真空，开启真空泵300，将镀膜室21抽真空至5×10-2Pa。
洗靶，通入工作气体氩气，氩气流量为100标况毫升每分钟（sccm），在恒定功率5KW下，洗靶15分钟。
对镀膜室21抽高真空并加热，镀膜室21的温度设定为200℃，用真空泵300抽高真空至5×10-3 Pa。
高电压氩离子辉光清洗，镀膜室21温度为120℃，负偏压设定1300V，通入工作气体氩气，对基材20表面进行清洗。
以铬靶23为靶材，采用磁控溅射法在清洗后的基材20表面溅镀打底层13。铬靶23使用射频电源，溅镀时，开启铬靶23并设置其功率为8-15KW，通入工作气体氩气，氩气流量为100-150sccm，镀膜室21的室内温度为120-180℃，施加于基材20的负偏压为100-250V，镀膜时间为5-10min。
以铬靶23为靶材，继续采用磁控溅射法在打底层13的表面溅镀过渡层15。铬靶23使用射频电源，溅镀时，开启铬靶23并设置其功率为6-12KW，向镀膜室21内通入工作气体氩气和反应气体乙炔，氩气流量为80-140sccm，乙炔流量为50-75sccm，镀膜室21的室内温度为100-150℃，施加于基材20的负偏压为200-300V，镀膜时间为40-50min。由于乙炔通入量较少，不会影响透明膜10的透明度；
以硅靶24为靶材，继续采用磁控溅射法在过渡层15的表面溅镀透明层17。硅靶24使用射频电源，溅镀时开启硅靶24，并设置其功率为4-8KW，通入工作气体氩气，氩气流量为50-135sccm，镀膜室21的室内温度为90-120℃，施加于基材20的负偏压为200-400V，镀膜时间为20-40min。
下面通过实施例来对本发明进行具体说明。
实施例1
本实施例所采用的基材20的材质为不锈钢316。
溅镀打底层13：铬靶23的功率为8kw，氩气流量为100 sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为170℃，施加于基材20的负偏压为100v，镀膜时间为5min。
溅镀过渡层15：铬靶23的功率为6kw，氩气流量为110 sccm，乙炔的流量为55sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为160℃，施加于基材20的负偏压为200v，镀膜时间为40min。
溅镀透明层17：硅靶24的功率为6kw，氩气流量为125 sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为130℃，施加于基材20的负偏压为300v，镀膜时间为20min。
实施例2
本实施例所采用的基材20的材质为SUS304。
溅镀打底层13：铬靶23的功率为10kw，氩气流量为110sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为175℃ ，施加于基材20的负偏压为150v，镀膜时间为8min。
溅镀过渡层15：铬靶23的功率为7kw，氩气流量为120sccm，乙炔的流量为60sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为165℃，施加于基材20的负偏压为250v，镀膜时间为45min。
溅镀透明层17：硅靶24的功率为5.5kw，氩气流量为120sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为125℃，施加于基材20的负偏压为350v，镀膜时间为25min。
实施例3
本实施例所使用的基材20的材质为不锈钢314。
溅镀打底层13：铬靶23的功率为12kw，氩气流量为135sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为180℃，施加于基材20的负偏压为220v，镀膜时间为12min。
溅镀过渡层15：铬靶23的功率为9kw，氩气流量为135sccm，乙炔的流量为65sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为170℃，施加于基材20的负偏压为300v，镀膜时间为50min。
溅镀透明层17：硅靶24的功率为7kw，氩气流量为135sccm，镀膜时镀膜室21内的温度为115℃，施加于基材20的负偏压为400v，镀膜时间为35min。
本发明的金属外壳100使用铬靶23和硅靶24为靶材，使用磁控溅射法，首先在基材20的表面溅镀金属铬作为打底层13，再在打底层13的表面溅镀过渡层15，最后在过渡层15上溅镀透明层17，膜层之间逐层过渡较好，所述透明膜表面平整，膜层内部没有明显的应力产生，这样在施加外力时，透明膜10不易被破坏，可呈现良好的硬度和耐磨性，延长了使用寿命。所述打底层13为铬层，具有透明性；所述过渡层15为CrC层，且厚度较小，不影响透明膜的透明度；所述透明层17仅含有硅原子，具有较高的透明性，且所述透明层17的表面平整，因此所述透明膜10具有较高的透明度，从而使外壳100的表面呈现较高的亮度和光洁度。

Claims (9)

1.一种外壳，其包括基材及形成于基材表面的透明膜，该透明膜包括打底层、过渡层和透明层，其特征在于：该打底层为铬层，该过渡层为碳化铬层，该透明层为硅层，该打底层形成于所述基材的表面，该过渡层形成于该打底层的表面，该透明层形成于该过渡层的表面。
2.如权利要求1所述的外壳，其特征在于：所述透明层由硅原子组成，该透明层的厚度为0.1-0.3μm。
3.如权利要求1所述的外壳，其特征在于：所述打底层的厚度为0.1-0.3μm，所述过渡层的厚度为0.2-0.4μm。
4.如权利要求1所述的外壳，其特征在于：所述基材的材质为金属、塑料或陶瓷。
5.一种外壳的制造方法，其包括如下步骤：
提供基材；
以铬靶为靶材，采用磁控溅射法在基材表面溅镀打底层，该打底层为铬层；
以铬靶为靶材，通入反应气体乙炔，采用磁控溅射法在打底层的表面溅镀过渡层，该过渡层为碳化铬层；
以硅靶为靶材，采用磁控溅射法在过渡层的表面溅镀透明层，该透明层为硅层。
6.如权利要求5所述的外壳的制造方法，其特征在于：所述基材的材质为金属、塑料或陶瓷。
7.如权利要求5所述的外壳的制造方法，其特征在于：所述打底层的厚度为0.1-0.3μm，制备该打底层的工艺参数为：铬靶使用射频电源，铬靶功率为8-15KW，通入氩气，氩气流量为100-150sccm，镀膜室的室内温度为120-180℃，施加于基材的负偏压为100-250V，镀膜时间为5-10min。
8.如权利要求5所述的外壳的制造方法，其特征在于：所述过渡层的厚度为0.2-0.4μm，制备该过渡层的工艺参数为：铬靶使用射频电源，铬靶功率为6-12KW，通入氩气，氩气流量为80-140sccm，乙炔流量为50-75sccm，镀膜室的室内温度为100-150℃，施加于基材的负偏压为200-300V，镀膜时间为40-50min。
9.如权利要求5所述的外壳的制造方法，其特征在于：所述透明层由硅原子组成，该透明层的厚度为0.1-0.3μm，制备该透明层的工艺参数为：硅靶使用射频电源，硅靶功率为4-8KW，通入氩气，氩气流量为50-135sccm，镀膜室的室内温度为90-120℃，施加于基材的负偏压为200-400V，镀膜时间为20-40min。
CN201310614634.1A 2013-11-28 2013-11-28 外壳及其制造方法 Expired - Fee Related CN104669709B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310614634.1A CN104669709B (zh) 2013-11-28 2013-11-28 外壳及其制造方法
TW102144563A TWI596009B (zh) 2013-11-28 2013-12-05 外殼及其製造方法
JP2014236307A JP6559944B2 (ja) 2013-11-28 2014-11-21 ケース及びその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310614634.1A CN104669709B (zh) 2013-11-28 2013-11-28 外壳及其制造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104669709A true CN104669709A (zh) 2015-06-03
CN104669709B CN104669709B (zh) 2017-07-07

Family

ID=53305536

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310614634.1A Expired - Fee Related CN104669709B (zh) 2013-11-28 2013-11-28 外壳及其制造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP6559944B2 (zh)
CN (1) CN104669709B (zh)
TW (1) TWI596009B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107267943A (zh) * 2017-06-21 2017-10-20 维达力实业(深圳)有限公司 深黑色金属薄膜及其制备方法和应用
CN114249608A (zh) * 2020-09-25 2022-03-29 Oppo广东移动通信有限公司 渐变色陶瓷件、其加工方法及终端设备

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902572A (en) * 1988-04-19 1990-02-20 The Boeing Company Film deposition system
CN1829421A (zh) * 2005-06-17 2006-09-06 深圳富泰宏精密工业有限公司 壳体及制作方法
US20100247859A1 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for fabricating injection-molded product
CN102534481A (zh) * 2010-12-23 2012-07-04 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 被覆件及其制造方法
CN103009705A (zh) * 2011-09-26 2013-04-03 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件及其制造方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002206161A (ja) * 2001-01-09 2002-07-26 Citizen Watch Co Ltd 装飾成形部材およびその製造方法
JP4085699B2 (ja) * 2002-06-04 2008-05-14 トヨタ自動車株式会社 摺動部材及びその製造方法
JP4115284B2 (ja) * 2003-01-08 2008-07-09 Ｆｃｍ株式会社 Ｓｉ積層体
JP2006002221A (ja) * 2004-06-18 2006-01-05 Nachi Fujikoshi Corp クロム含有ダイヤモンド状炭素膜及び摺動部材
TW201226615A (en) * 2010-12-29 2012-07-01 Hon Hai Prec Ind Co Ltd Housing and method for making the same
CN103158294A (zh) * 2011-12-15 2013-06-19 深圳富泰宏精密工业有限公司 壳体及其制备方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902572A (en) * 1988-04-19 1990-02-20 The Boeing Company Film deposition system
CN1829421A (zh) * 2005-06-17 2006-09-06 深圳富泰宏精密工业有限公司 壳体及制作方法
US20100247859A1 (en) * 2009-03-27 2010-09-30 Samsung Electronics Co., Ltd. Method for fabricating injection-molded product
CN102534481A (zh) * 2010-12-23 2012-07-04 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 被覆件及其制造方法
CN103009705A (zh) * 2011-09-26 2013-04-03 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 镀膜件及其制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107267943A (zh) * 2017-06-21 2017-10-20 维达力实业(深圳)有限公司 深黑色金属薄膜及其制备方法和应用
CN114249608A (zh) * 2020-09-25 2022-03-29 Oppo广东移动通信有限公司 渐变色陶瓷件、其加工方法及终端设备

Also Published As

Publication number Publication date
CN104669709B (zh) 2017-07-07
JP2015104924A (ja) 2015-06-08
TW201520053A (zh) 2015-06-01
JP6559944B2 (ja) 2019-08-14
TWI596009B (zh) 2017-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107653441B (zh) 一种在塑胶上生产pvd防菌膜的方法
CN103921498B (zh) 具有硬质膜层的不锈钢制品及其制备方法
CN103572207B (zh) 镀膜件及其制备方法
CN103935075B (zh) 壳体及其制作方法
TW201425625A (zh) 鍍膜件及其製備方法
CN107326414B (zh) 一种塑料基材无铬金属化方法
CN104032260B (zh) 壳体及其制作方法
TW201313929A (zh) 鍍膜件及其製造方法
CN101942636A (zh) 多层复合镀膜、其制造方法以及具有该多层复合镀膜的基材
CN104669709A (zh) 外壳及其制造方法
TW201326426A (zh) 鍍膜件及其製備方法
CN101459226B (zh) 顶部发光有机显示器的阳极结构及其制造工艺
CN102950838A (zh) 壳体及其制备方法
CN102899622A (zh) 镀膜件及其制备方法
CN103160778A (zh) 真空镀膜件及其制造方法
US20130209736A1 (en) Coated article having rock like pattern and method for manufacturing the same
TW201018738A (en) Multilayer composite plating film, manufacturing method and substrate having the same
TW201309820A (zh) 殼體的製備方法及由該方法所製得的殼體
CN102560348A (zh) 镀膜件及其制备方法
TW201215693A (en) Vacuum depositing article and method for making the same
CN102433537A (zh) 镀膜件及其制作方法
TW201127255A (en) Casing having color and the related surface-treating method
TW201241203A (en) Coated article and method for making the same
CN207276700U (zh) 一种高硬度抗氧化的模具钢用涂层结构
CN104178737B (zh) 在金属表面通过改变气体达到改变颜色的膜层堆积的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20170707