CN104487921A - 触摸屏面板制造方法及钢化玻璃基板制造方法 - Google Patents
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Abstract
公开了一种触摸屏面板制造方法及钢化玻璃基板制造方法。触摸屏面板制造方法包括如下步骤:对原始玻璃基板的表面进行研磨进而使原始玻璃基板的第一面平坦化;在原始玻璃基板的所述第一面按单元单位形成槽;对原始玻璃基板进行钢化;在原始玻璃基板的第二面形成透明电极以及配线图形;和根据槽按单元单位切割原始玻璃基板,其中,第二面是所述第一面的相反侧面。
Description
技术领域
本发明涉及一种触摸屏面板制造方法及钢化玻璃基板制造方法,涉及一种即使按大片工艺(sheet type)来制造侧面强度也非常出色的触摸屏面板及钢化玻璃基板的制造方法。
背景技术
使用玻璃基板的触摸屏面板的制造工艺可分为大片工艺(sheet type)以及单元工艺(cell type)两大类。单元工艺是根据显示器大小切割原始玻璃基板(rawglass substrate)并在执行钢化处理后加工单元(cell)的方式,且大片工艺是在钢化的原始玻璃基板上加工单元后根据显示器大小而进行切割的方式。
单元工艺之触摸屏面板的情况,由于在切割原始玻璃基板后执行钢化处理,因此强度出色且可按各种颜色印刷保护玻璃(cover glass),但相比大片工艺难以进行大量生产。并且,由于按单元单位(cell unit)执行钢化处理且按单元单位形成透明电极和配线图形,因此会发生制造费用的上升。
大片工艺之触摸屏面板的情况,由于在原始玻璃基板上形成针对各个单元的透明电极和配线图形且对其进行切割而提供,因此相比单元工艺的触摸屏面板容易进行大量生产且在制造费用方面也存在优势。但,大片工艺之触摸屏面板的情况,由于按照在原始玻璃基板执行钢化处理后切割原始玻璃基板的顺序而实现工艺,且被切割的断面是未被钢化的一般玻璃部分,因此相比单元工艺的触摸屏面板,其侧面强度脆弱且在按曲面玻璃形状进行加工中也存有困难。
发明内容
技术问题
本发明要解决的课题是需要提供一种侧面被钢化的大片工艺的触摸屏面板及其制造方法。
本发明要解决的另一课题是需要提供一种侧面被钢化的大片工艺的钢化玻璃基板及其制造方法。
本发明的课题并不局限于上述提及的课题,未被提及的课题或其他课题从下述记载中对本领域的技术人员来说是可被明确理解的。
技术方案
用于解决上述课题的本发明的一个实施例之触摸屏面板制造方法包括如下步骤:对原始玻璃基板的表面进行研磨进而使所述原始玻璃基板的第一面平坦化;在所述原始玻璃基板的所述第一面按单元单位形成槽;对所述原始玻璃基板进行钢化;在所述原始玻璃基板的第二面形成透明电极以及配线图形;和根据所述槽按所述单元单位切割所述原始玻璃基板,其中,所述第二面是所述第一面的相反侧面。
用于解决上述课题的本发明的一个实施例之触摸屏面板按照上述触摸屏面板制造方法来制造。
用于解决上述课题的本发明的一个实施例之钢化玻璃基板制造方法包括如下步骤:对原始玻璃基板的表面进行研磨进而使所述原始玻璃基板的一个面平坦化;在所述原始玻璃基板的所述一个面按单元单位形成槽;对所述原始玻璃基板进行钢化;和根据所述槽按所述单元单位切割所述原始玻璃基板。
其他实施例的具体事项包含在详细说明以及附图中。
技术效果
根据本发明的实施例,至少具有如下效果。
即,可提供一种侧面被钢化的大片工艺的触摸屏面板及其制造方法。
并且,可提供一种侧面被钢化的大片工艺的钢化玻璃基板及其制造方法。
根据本发明的效果并不局限于上述示例的内容,更多样的效果包含在本说明书内。
附图说明
图1是根据本发明一个实施例之触摸屏面板制造方法的顺序图。
图2至图7是根据本发明一个实施例之触摸屏面板制造方法的制造工艺透视图以及剖面图。
图8是本发明之根据本发明一个实施例的触摸屏面板的剖面图。
图9是根据本发明一个实施例之钢化玻璃基板制造方法的顺序图。
图10是根据本发明一个实施例之钢化玻璃基板的剖面图。
具体实施方式
本发明的优点和特征以及达成其的方法参考附图以及后述详细说明的实施例将变得明确。但本发明并不局限于下述揭示的实施例,可按互相不同的多种形态来实现,本实施例等只是为了使本发明的揭示完全,且是为了向本发明所述技术领域中具有一般知识的技术人员完全告知发明的范畴而提供的,本发明仅根据权利要求的范畴而被定义。
要素(elements)或层按其他要素或层的“上(on)”表示的包括所有在其他要素直接上面或中间介入其他层或其他要素的情况。贯通整个说明书,相同的参考符号表示相同的构成要素。
虽然为了阐述多种构成要素而使用了第一、第二等,但这些构成要素并不局限于这些用语。这些用语只是为了将一个构成要素与其他构成要素进行区别而使用的。因此,下述提及的第一构成要素在本发明的技术思想内也可是第二构成要素。
以下,参考附图对本发明的实施例进行说明。
图1是根据本发明一个实施例之触摸屏面板制造方法的顺序图。图2至图7是根据本发明一个实施例之触摸屏面板制造方法的制造工艺透视图以及剖面图。为了针对触摸屏面板制造方法进行更详细的说明,将一并参考图2至图7的制造工艺透视图和剖面图。
首先,对原始玻璃基板100的第一面110进行平坦化(S10)。关于步骤S10的说明将参考前述图2对原始玻璃基板100进行说明。
原始玻璃基板100用作为触摸屏面板1000的底座基板(base substrate),且可使用透明材质的玻璃基板。原始玻璃基板100如图2所示可形成为长方体形状,但其并不局限于此,也可形成为正六面体或多角棱柱或圆形棱柱形状。
原始玻璃基板100包括第一面110以及第二面110的相反侧面即第二面120。将第二面120称为第一面110的相反侧面例如可指第一面110是原始玻璃基板100的上面,且第二面120是原始玻璃基板100的下面。参考图2,原始玻璃基板100的第一面110可指长方体形状的原始玻璃基板100的最宽两个面中的一个,原始玻璃基板100的第二面120可指长方体形状的原始玻璃基板100的最宽两个面中的另一个。但,其并不局限于此,第一面110和第二面120在原始玻璃基板100中可进行多种定义。
原始玻璃基板100的第一面110可包括单位单元区域111和围绕单位单元区域111的周边区域112。单位单元区域111作为意味着与一个触摸屏面板1000相对应的原始玻璃基板100中的区域,一个单位单元区域111可与一个触摸屏面板1000相对应。周边区域112作为用于沿各个单位单元区域111切割原始玻璃基板100的虚拟(dummy)区域,是在钢化工艺和透明电极与配线图形形成工艺等所有工艺完成后用于沿各个单位单元区域111切割原始玻璃基板100而使用的区域。
单位单元区域111可与触摸屏面板1000的形状相对应,进而还可与使用触摸屏面板1000的显示装置的形状相对应地设定。在图2中为了说明的方便虽然使用了四边形形状的单位单元区域111,但也可设定为多边形形状或圆形形状等多种形状的单位单元区域111。周边区域112作为用于切割原始玻璃基板100的边缘(margin)区域,可按围绕单位单元区域111的形状而形成。在图2中单位单元区域111由于按四边形形状进行了设定,因此周边区域112按格子形状进行设定。但,当单位单元区域111按其他形状而形成时,周边区域112的形状并不局限于此,可按围绕单位单元区域111的多种形状而设定。
参考图3,单位单元区域111包括接触感应区域113和***区域114。接触感应区域113可指在与一个触摸屏面板1000相对应的单位单元区域111中配置多个柱(column)电极或膜片(patch)电极、配线图形等而感应根据用户的画面接触或手势(gesture)产生的输入信息之区域。***区域114作为配置在接触感应区域113的***的区域,例如可指围绕接触感应区域113的区域,也可指传达在接触感应区域113中产生的感应信号之存在配线图形等的区域。为了说明的方便,虽然区分为单位单元区域111中的接触感应区域113和***区域114,但接触感应区域113和***区域114也可一体化,***区域114也可感应用户的输入信息。并且,在图3中为了说明的方便,虽然示出了***区域114完全围绕接触感应区域113的实施例,但***区域114也可只配置在接触感应区域113的一边或也可配置在接触感应区域113的两边,可按多种形状进行配置。
再参考图1,对原始玻璃基板100的表面进行研磨进而使原始玻璃基板100的第一面110平坦化(S10)。对原始玻璃基板100的表面进行研磨的平坦化步骤不仅可确保原始玻璃基板100的平坦度,也是在执行原始玻璃基板100的钢化处理工艺时为了使钾源溶液内的钾离子与原始玻璃基板100内的钠离子容易地相互交换而对原始玻璃基板100的表面特别是第一面110进行平坦化的工艺。对原始玻璃基板100进行研磨进而平坦化的工艺作为一般周知的工艺,可使用多种研磨剂来执行。
在各种实施例中,在对原始玻璃基板100的第一面110进行平坦化时可在前述原始玻璃基板100的第一面110的***区域114中形成印刷层。参考图3,如前所述,单位单元区域111包括接触感应区域113和***区域114,***区域114作为配置在接触感应区域113的***的区域,可指传达在接触感应区域113中产生的感应信号之存在配线图形等的区域,例如***区域114可与在配置了触摸屏面板1000的显示装置中不显示画像的非显示区域相对应。因此,***区域114不必一定维持透明,可使用用于覆盖配置在***区域114的配线图形等的不透明层。因此,在对原始玻璃基板100的第一面110进行研磨的平坦化工艺中可在前述***区域114中形成印刷层。
再参考图1,接着在原始玻璃基板100的第一面110按单元单位形成槽(groove)130(S11)。关于形成槽130之工艺的更加详细的说明将参考图4和图5。
为了在原始玻璃基板100的第一面110中按单元单位形成槽130,在原始玻璃基板100的周边区域112形成有槽130。如前述说明,周边区域112作为用于根据每个单位单元区域111切割原始玻璃基板100的虚拟区域,当钢化工艺以及透明电极和配线图形形成工艺等所有工艺完成后,切割周边区域112进而可将原始玻璃基板100分离为每个单元单位的触摸屏面板1000。因此,原始玻璃基板100与周边区域112的界限部分为切割原始玻璃基板100的切割面进而成为触摸屏面板1000的侧面。在根据本发明的一个实施例的触摸屏面板1000制造方法中,为了针对触摸屏面板1000的原始玻璃基板100的切割面部分即触摸屏面板1000的侧面部分执行钢化处理,在原始玻璃基板100的周边区域112形成有槽130。关于钢化处理的具体内容将参考图6在后面进行说明。
参考图4和图5,槽130可形成为三角形形状。但图4和图5只是为了说明的方便,槽130也可形成为多角形形状或圆形形状等多种形状。
当在原始玻璃基板100的第一面110按单元单位形成槽130时,可调整原始玻璃基板100的周边区域112的厚度d进而形成槽130。若在原始玻璃基板100的周边区域112形成槽130,则原始玻璃基板100的周边区域112的厚度d相比原始玻璃基板100的单位单元区域111的厚度要薄,且在之后执行的钢化处理工艺中截止单位单元区域111和周边区域112的断差部分执行钢化处理,进而可改善触摸屏面板1000的侧面强度。原始玻璃基板100的周边区域112的厚度d与钢化处理的关系相关之具体内容将参考图6在后面进行说明。
如图5所示,在原始玻璃基板100的第一面110按单元单位形成槽130之后,在执行原始玻璃基板100相关的钢化工艺之前,为了除去槽130形成过程中产生的异物等,对形成有槽130的原始玻璃基板100进行清洗和干燥。
再参考图1,接着对原始玻璃基板100进行钢化(S12)。关于钢化原始玻璃基板100之工艺的更加详细的说明将参考图5和图6。
作为对原始玻璃基板100进行钢化的工艺,可对原始玻璃基板100进行化学钢化。化学钢化处理工艺可于所定的时间期间向所定温度的钾源溶液内投入原始玻璃基板100而执行。例如,化学钢化处理工艺可于4至6小时时间向300至400℃的钾源溶液内投入原始玻璃基板100来执行。在此,钾源溶液作为意味着包含钾离子的溶液,可包括硝酸钾、氢氧化磷酸钾、氯化钾以及磷酸钾中的至少一个。
若向钾源溶液中投入原始玻璃基板100,则原始玻璃基板100表面的钠离子与钾源溶液的钾离子互相离子置换,从而原始玻璃基板100表面的钠离子脱离且钾离子进入至钠离子的位置。通过这种离子置换,原始玻璃基板100的表面的密度增高进而实现表面压缩,且据此原始玻璃基板100的表面被钢化。
向钾源溶液中投入原始玻璃基板100可按向钾源溶液中投入原始玻璃基板100的第一面110之方式来执行。即,由于原始玻璃基板100中需要钢化的部分与触摸屏面板1000中发生用户接触输入的第一面110相对应,因此为了钢化原始玻璃基板100的第一面110,可向钾源溶液中投入原始玻璃基板100的第一面110。
参考图6,示出了完成钢化工艺的原始玻璃基板100的剖面。随着对原始玻璃基板100的第一面110进行钢化,原始玻璃基板100的第一面110的表面部分被钢化进而形成钢化区域140,尤其是,形成有槽130的原始玻璃基板100的断差部分也生成钢化区域140。在各种实施例中,为了最大化钢化区域140的形成,使原始玻璃基板100的周边区域112的厚度为10至100μm,以在原始玻璃基板100的周边区域112形成槽130。
参考图6,钢化区域140在原始玻璃基板100的第一面110的表面共形(conformal)形成。因此,钢化区域140根据形成在原始玻璃基板100的槽130的形状可按多种形状而形成。
在根据本发明一个实施例的触摸屏面板制造方法中,在原始玻璃基板100的周边区域112形成槽130之后通过执行钢化原始玻璃基板100的表面的工艺,以使单位单元区域111的侧面部分被钢化,即使按单元单位切割原始玻璃基板100进而分割为每个触摸屏面板1000也可提供触摸屏面板1000的侧面被钢化的大片工艺的触摸屏面板1000。
在各种实施例中,在向钾源溶液中投入原始玻璃基板100时可执行预热之前原始玻璃基板100的工艺。预热原始玻璃基板100的工艺可将原始玻璃基板100置于350至400℃的温度下预热30分钟至1小时30分钟而执行。向钾源溶液投入原始玻璃基板100之前通过预热原始玻璃基板100,在之后执行钢化工艺中更容易诱导离子置换反应。
上述虽然针对钢化原始玻璃基板100的工艺以化学钢化处理工艺为示例进行了说明,但也可通过其他化学钢化处理工艺或多种物理钢化处理工艺来钢化原始玻璃基板100。
接着,清洗钢化的原始玻璃基板100进而除去原始玻璃基板100尤其是存在于原始玻璃基板100的槽130中的异物等。
再参考图1,接着在原始玻璃基板100的第二面120形成透明电极以及配线图形150(S13)。关于透明电极和配线图形150的形成工艺的更加详细的说明将参考图7。
原始玻璃基板100的第二面120作为第一面110的相反侧面,第二面120包括单位单元区域121和周边区域122。第二面120的单位单元区域121和周边区域122与第一面110的单位单元区域121和周边区域122相对应。在原始玻璃基板100的第二面120的单位单元区域121形成为了沿触摸屏面板1000动作而需要的多种透明电极和配线图形150。例如,作为多种透明电极可形成柱形状的感应电极和膜片形状的驱动电极,且可形成向驱动电极传达驱动信号的配线以及传达来自感应电极的感应信号的配线。在各种实施例中,形成透明电极和配线图形150的工艺包括执行低温沉积工艺。在图7中,示出了在原始玻璃基板100的第二面120上形成单一层的透明电极和配线图形150,且其在2011年11月21日申请的名称为“接触感应装置及接触感应装置制造方法”的韩国专利申请号第10-2011-0121807号中进行了记载,相应申请发明的内容作为参考包含在本说明书中。
在原始玻璃基板100的第二面120形成透明电极和配线图形150的工艺可在执行钢化原始玻璃基板100的工艺之后实现。在钢化原始玻璃基板100的工艺中原始玻璃基板100按约350至400℃被加热。此时,在钢化原始玻璃基板100之前若在第二面120形成透明电极和配线图形150,根据原始玻璃基板100的加热温度透明电极和配线图形150会被分离。因此,在执行钢化原始玻璃基板100的工艺之后在原始玻璃基板100的第二面120形成透明电极和配线图形150。
再参考图1,接着根据槽130按单元单位切割原始玻璃基板100(S14)。按单元单位切割原始玻璃基板100的工艺包括根据原始玻璃基板100的槽130切割周边区域112且对切割的棱部进行倒角(chamfer)加工并进行清洗和干燥的工艺。钢化的原始玻璃基板的切割方法可使用公知的任何方法,例如可使用切割(scribing)、蚀刻(etching)、水射流切割(water jet cutting)、激光切割(laser cutting)等方法。
图8是本发明之根据本发明一个实施例的触摸屏面板的剖面图。触摸屏面板1000包括形成有钢化区域140的原始玻璃基板100以及形成在原始玻璃基板100的一个表面上的透明电极和配线图形150。由于根据本发明一个实施例的触摸屏面板1000按照上述本发明的一个实施例之触摸屏制造方法而制造,因此省略重复的说明。
参考图8,可确认在触摸屏面板1000的侧面部也形成有钢化区域140。即,在本发明的触摸屏面板1000制造方法中,由于在原始玻璃基板100的单位单元区域111的界限部分即周边区域112形成槽130之后执行钢化处理工艺,因此也可在触摸屏面板1000的侧面部形成钢化区域140,并且即使是大片工艺的触摸屏面板1000也可制造侧面强度被改善的触摸屏面板1000。
图9是根据本发明一个实施例之钢化玻璃基板制造方法的顺序图。
首先,对原始玻璃基板100的表面进行研磨进而使原始玻璃基板100的一个面平坦化(S90)。由于使原始玻璃基板100的一个面平坦化与使图1的原始玻璃基板的第一面平坦化实质相同,因此省略重复的说明。
接着,在原始玻璃基板100的一个面按单元单位形成槽(S91)。由于在原始玻璃基板100的一个面形成槽与在图1的原始玻璃基板的第一面形成槽实质相同,因此省略重复的说明。
接着,对原始玻璃基板100进行钢化(S92)。由于对原始玻璃基板100进行钢化与对图1的原始玻璃基板进行钢化实质相同,因此省略重复的说明。
接着,根据槽按单元单位切割原始玻璃基板100(S93)。由于切割原始玻璃基板100与切割图1的原始玻璃基板实质相同,因此省略重复的说明。
即,根据本发明一个实施例的钢化玻璃基板制造方法与前述说明的根据本发明一个实施例的触摸屏面板制造方法相比在不执行形成透明电极和配线图形的工艺这点存有差异,而其他工艺都实质相同。
图10是根据本发明一个实施例之钢化玻璃基板的剖面图。钢化玻璃基板2000包括形成有钢化区域140的原始玻璃基板100。由于根据本发明一个实施例的钢化玻璃基板2000按照上述本发明的一个实施例之钢化玻璃基板制造方法而制造,因此省略重复的说明。
参考图8,可确认在钢化玻璃基板2000的侧面部也形成有钢化区域140。即,在本发明的钢化玻璃基板2000制造方法中,由于在原始玻璃基板100的单位单元区域的界限部分即周边区域形成槽之后执行钢化处理工艺,因此也可在每个单位钢化玻璃基板的侧面部形成钢化区域,并且即使是按大片工艺制造钢化玻璃基板也可制造侧面强度被改善的钢化玻璃基板。
虽然参考如上附图对本发明的实施例进行了说明,但本发明所属技术领域中具有通常知识的技术人员也能理解在不变更本发明的技术思想或必要特征时也可按其他具体形态而实施。因此应理解如上所述的实施例在各方面都只是示例性实施例而不是限定性实施例。
Claims (18)
1.一种触摸屏面板制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
对原始玻璃基板的表面进行研磨进而使所述原始玻璃基板的第一面平坦化;
在所述原始玻璃基板的所述第一面按单元单位形成槽;
对所述原始玻璃基板进行钢化;
在所述原始玻璃基板的第二面形成透明电极以及配线图形;和
根据所述槽按所述单元单位切割所述原始玻璃基板,
其中,所述第二面是所述第一面的相反侧面。
2.如权利要求1所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,所述原始玻璃基板的所述第一面包括单位单元区域和格子形状的周边区域,且所述单位单元区域包括接触感应区域和***区域。
3.如权利要求2所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,进一步包括如下步骤:
在所述原始玻璃基板的所述第一面的所述***区域形成印刷层。
4.如权利要求2所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,所述形成槽的步骤包括:在所述原始玻璃基板的所述周边区域形成槽。
5.如权利要求4所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,所述形成槽的步骤包括:使所述原始玻璃基板的所述周边区域的厚度为10至100μm而形成槽。
6.如权利要求5所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,进一步包括如下步骤:
在对形成有所述槽的所述原始玻璃基板进行钢化之前,进行清洗和干燥。
7.如权利要求1所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,所述钢化步骤包括:将所述原始玻璃基板投入300至450℃的钾源溶液中4至6个小时。
8.如权利要求1所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,所述钢化步骤包括:将所述原始玻璃基板以350至400℃的温度加热30分钟至1小时30分钟,以及将所述原始玻璃基板投入300至450℃的钾源溶液中4至6个小时。
9.如权利要求7所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于所述钾源溶液包括硝酸钾、氢氧化磷酸钾、氯化钾以及磷酸钾中的至少一个。
10.如权利要求1所述的触摸屏面板制造方法,其特征在于,所述切割步骤包括:对所述原始玻璃基板之切割的棱部进行倒角加工,且进行清洗和干燥。
11.一种根据权利要求1至10中任意一项所述的触摸屏面板制造方法而制造的触摸屏面板。
12.一种钢化玻璃基板制造方法,其特征在于,包括如下步骤:
对原始玻璃基板的表面进行研磨进而使所述原始玻璃基板的一个面平坦化;
在所述原始玻璃基板的所述一个面按单元单位形成槽;
对所述原始玻璃基板进行钢化;和
根据所述槽按所述单元单位切割所述原始玻璃基板。
13.如权利要求12所述的钢化玻璃基板制造方法,其特征在于,所述原始玻璃基板的所述一个面包括单位单元区域和格子形状的周边区域,且所述形成槽的步骤包括:在所述原始玻璃基板的所述周边区域形成槽。
14.如权利要求13所述的钢化玻璃基板制造方法,其特征在于,所述形成槽的步骤包括:使所述原始玻璃基板的所述周边区域的厚度为10至100μm而形成槽。
15.如权利要求14所述的钢化玻璃基板制造方法,其特征在于,进一步包括如下步骤:
在对形成有所述槽的所述原始玻璃基板进行钢化之前,进行清洗和干燥。
16.如权利要求12所述的钢化玻璃基板制造方法,其特征在于,所述钢化步骤包括:将所述原始玻璃基板投入300至450℃的钾源溶液中4至6个小时。
17.如权利要求16所述的钢化玻璃基板制造方法,其特征在于所述钾源溶液包括硝酸钾、氢氧化磷酸钾、氯化钾以及磷酸钾中的至少一个。
18.如权利要求12所述的钢化玻璃基板制造方法,其特征在于,所述切割步骤包括:对所述原始玻璃基板之切割的棱部进行倒角加工,且进行清洗和干燥。
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