CN1042859A

CN1042859A - 抛光设备

Info

Publication number: CN1042859A
Application number: CN 89108597
Authority: CN
Inventors: 大野家建
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1988-11-19
Filing date: 1989-10-18
Publication date: 1990-06-13
Also published as: EP0370713A2; EP0370713A3; CA2003185A1; JPH02284860A

Abstract

一种抛光设备，包括一与安装到转动体上的主转动中心径向隔开的副转动轴，最好转动体如平衡锤绕主转动中心转动，一圆柱或多边柱形抛光室绕副转动轴转动，抛光材料和待抛光工件装入抛光室。通过以固定速率沿相对主转动中心的固定方向使副转动轴绕主转动中的转动来获得有效地抛光，同时通过上述设置可获得最大容量的抛光室。

Description

本发明涉及一种抛光设备，特别涉及这样一种抛光设备，其中，通过转动一个装有抛光材料和待抛光工件的抛光室来抛光所述待抛光工件。

目前使用的一种抛光设备，是通过转动一个装有抛光材料和待抛光工件的抛光室来进行流体抛光待抛光工件的。

上述类型的传统抛光设备的一个例子如图4所示。其中，带有转动轴A的多边柱形抛光室B通过轴A的两端支承在基座C上。在抛光室B侧面的一端，设有一开口D，开口上通过螺钉装有一可拿开的盖子E。

一皮带轮F固定到转动轴A上，以便轴A通过皮带H在电机G的作用下转动。

在传统的抛光设备中，通过拿开盖子E，将抛光材料J和待抛光工件K装入抛光室B，同时，留出一定空间，使它们可在抛光室B中自由流动。然后，用螺钉将盖子E拧在开口D上，将其封闭。接着，开动电机，使抛光室B绕转动轴A旋转。

抛光材料J和待抛光工件K通过旋转，在抛光室内相互流动摩擦。

但是，在上述抛光设备中，随着转动速度增加，作用到抛光室内抛光材料和待抛光工件上的离心力也会增加，导致它们被挤到抛光室的内表面上。这样，抛光材料和待抛光工件静止地呆在上述内表面上，以致它们之间不能产生接触流动，使得既使抛光室在转动，它们之间也不产生抛光作用。

因此，在传统的抛光设备中，抛光室应以低速转动，以便不增加作用到抛光材料和待抛光工件上的离心力。这样，对待抛光工件加工来说，只具有较低的抛光效率。

本发明是针对上述传统的抛光设备的情况而完成的。

因此，本发明的目的是提供一种抛光设备，它能通过以高速转动抛光室来高效地抛光大量的待抛光工件。

为实现上述本发明的目的，本发明设备包括一个副转动轴，它沿径向离开主转动中心并安装在一转动体上，该转动体绕主转动中心旋转，一圆形或多边形柱状抛光室，其中，装有抛光材料和待抛光工件，一驱动装置以固定速率并沿一相对主转动中心固定的转动方向转动副转动轴，该副转动轴在其两端利用上述转动体如平衡锤支承，或者说通过在设备的相对两侧分别设置转动体来支承副转动轴。

当本发明设备如上所述构成时，副转动轴既绕主转动轴，同时又绕其自身轴线，在分别设置于主转动中心以及不具有通轴（一旋转轴）的主转动中心和副转动轴之间的驱动装置作用下以固定速率并沿固定转动方向旋转。因此，在本发明中，抛光室既绕副转动轴的自身轴线旋转同时又绕主转动中心公转。这样，在抛光室中，抛光材料和待抛光工件能够总是相互流动接触，以便在高转速下完成有效地抛光，不会使抛光材料和待抛光工件在离心力作用下处于相对静止状态。另外，由于存在公转轴，使抛光室直径不受限制，这样，可获得在大容量的抛光室内有效地抛光待抛光工件。

下面参考附图表明的实施例。

图1是表示本发明一实施例结构的前视图;

图2是表示本发明结构的侧视图;

图3是本发明实施例的一个说明性附图;

图4是现有技术设备的前视图。

图1和图2表明了本发明的结构，其中，相同标号代表相同部件，在该实施例中，转动轴11分成两部分，它们可旋转地分别支承在基座3的左右两侧。具有相同形状的平衡锤12和13分别固定到转动轴11上。

这些平衡锤12和13可以是简单的转动体，无须特别设置在设备的相对两端或形成一整体的贯通整个轴长的件。因为上述转动轴仅用来支承转动体12的转动中心（主转动中心）。

（在下文中，平衡锤统称为转动体）。

一副转动轴14可转动地固定到转动体12和13上，径向离开该转动体的主转动中心一段距离，一六边柱形抛光室2固定到副转动轴14上。在抛光室2的内表面上，在其整个表面设置一层包层如橡胶，该包层表面为粗糙的表面。

一皮带轮15固定到支承抛光室2的转动轴11的一侧上，该皮带轮通过皮带8受到装在基座3上的电机7的驱动，进而驱动转动轴11。皮带轮16的中心为转动轴11，该轮由电机7驱动旋转，轮16也可为链轮，通过链驱动装置而转动，该轮固定到轴11上。一皮带轮17固定到副转动轴14上，位于抛光室2一侧。皮带轮16和17由皮带18相连，在本实施例中，盖5安装在抛光室2侧面两端的两个位置。

在本实施例中，当皮带轮16和17直径相等时，主转动中心11c旋转一圈，转动体13也转动，抛光室2沿径向离开转动体13的转动中心一段距离的轴划出的轨迹公转，同时，副转动轴14转过一固定圈数。抛光室2的结构使得转动可如上进行。

在基座3上设有一卸料导槽19，该导槽可改变其处于转动体13一侧的盖5附近的卸料位置和方向。卸料导槽19上装有网20。本发明设备其他部分的结构与图4所示传统抛光设备相同。

下面将描述本发明的工作过程。

图1中，抛光材料和工件通过平衡锤12一侧的打开的盖5装入抛光室，其装载量应使抛光室内给装入物体留有充分的流动空间。

盖5用螺钉固定。因此，抛光材料和待抛光工件就被装入抛光室内。然后，开动电机7，通过皮带8转动皮带轮15。轮15的转动使转动轴11以固定转速转动。通过转轴11的转动，抛光室2绕转动体13的转动中心11c公转，运动轨迹为由转轴14的轴线14c划出的圆形轨迹L₁。

同时，随着上述公转，转轴11的转动通过皮带轮16，皮带18和皮带轮17传递到副转动轴14上，转轴11转一圈，转动体12和13以一固定转数使抛光室2绕副转动轴以一固定转数转动。

图3表明了抛光室2绕转动体13的转动中心11c公转以及在上述转动过程中抛光室又绕副转动轴14的轴线14c旋转的情况。例如，抛光室2的棱边A₁如图所示运动。通过抛光室2的转动，抛光室2旋转产生的离心力f以及抛光室绕自身轴线转动产生的离心力和重力作用在抛光材料和待抛光工件上，使其相互流动接触，以抛光该工件。

抛光室内壁与抛光材料和待抛光工件相对运动。如前所述，抛光室内壁包有一层表面粗糙的橡胶。通过应用上述橡胶，位于邻近抛光室内壁的抛光材料和待抛光的工件相互搅动，增强了抛光效率。

在完成了全部抛光操作后，电机7停止，平衡锤13一侧的盖子5打开，将抛光材料和工件从抛光室2卸到卸料导槽19上，工件落在网20上，而抛光材料落到导槽19的底部以便拿走。

这样，按照本发明的实施例，由于抛光材料和待抛光工件在离心力作用下被挤到抛光室2内壁表面从而处于静止状态的情况被避免了。所以工件能够通过抛光室2的高速转动有效地抛光。由于转动体12和13是做为平衡锤安装的，它们与抛光室重量平衡，所以，作用到转动体12和13上的力矩是平衡的，使得抛光室2的转动能平稳地进行，避免了不平衡的负载作用到转轴11上，而使轴11断裂，进而可获得安全地高速操作。另外，由于没有象传统设备那样的设在转动体上的转动轴，使抛光室的直径不受上述轴的限制，因而，可以足够大。

图示的本发明实施例中，转动体和副转动轴以相同速率并沿相同转向旋转，抛光室保持运动平稳，抛光室内部为一单一室。然而，本发明并不局限于上述实施例，例如，转动体和副转动轴可设置成纵向倾斜的，或者，抛光室内部可分成多个室。

图示的本发明实施例结构还可构成如下，主转动轴一侧和副转动轴一侧可通过辊子和皮带连接。该两轴还可通过齿轮-链条或齿轮对连接。

这样，按照本发明，其优越性在于通过选择驱动装置来建立不同的搅动抛光条件，进而获得有效和安全地抛光待抛光工件，同时，不会由于高速转动产生的离心力使抛光材料和待抛光工件挤到抛光室由表面上处于静止状态。由于转动体没有传统的转轴，使抛光室可足够大，以适应大批量生产。抛光室的转动可非常平稳，由于转动体为平衡锤，并设置在设备的两侧，支承在副转动轴的两端。

Claims

1、一种抛光设备包括绕主转动中心转动的转动体，一与主转动轴径向隔开一段距离的副转动轴，一绕副转动轴旋转的柱形抛光室，其中，抛光室内装入抛光材料和工件，以及以一固定速率并沿相对主转动中心的一固定方向转动副转动轴的装置。

2、按照权利要求1的抛光设备，其中，该转动体包括平衡锤，该平衡锤处于抛光室两端相对的位置并与抛光室的重量相平衡。

3、按照权利要求1或2的抛光设备，其中，转动体设置在设备两侧，使得该转动体支承在副转动轴的两端。