CN104181776B - 浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 239000012530 fluid Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 title claims abstract description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 claims description 9
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 4
- 238000012938 design process Methods 0.000 abstract description 5
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 44
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 38
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 38
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 15
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 238000000671 immersion lithography Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
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Abstract
本发明公开了一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法。根据目标***流体的传输路线及流体性质，将该***分为多个具有不同功能的控制模块；分别制定每个控制模块各自的工作流程、状态位及故障位；采用阻塞方法进行自动模式下各个控制模块之间工作流程的时序配合，通过调用控制模块的接口对手动模式下各个控制模块的工作流程进行控制。本发明使***中各个模块可独立工作，减少单个模块出现故障对***的影响，减小了功能模块的耦合度，提高***控制的灵活度；同时模块间能够自动进行时序流程操作及故障保护，保证模块间能够高效协调配合，简化了控制过程，保证了流体控制***设计过程的有效性、高效性及可靠性。
Description
技术领域
本发明涉及***控制领域中工作流程的模块控制方法，尤其涉及一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法。
技术背景
光刻机是制造超大规模集成电路的核心装备之一，现代光刻机以光学光刻为主，通过图形转换技术以光刻胶为中间媒介将掩膜版上的图形转移到硅片上已形成所需要的图形。每一代新集成电路的出现，总是以光刻工艺实现更小特征尺寸为主要技术标志。
浸没式光刻技术是在光刻机投影物镜最后一个透镜的下表面与硅片上的光刻胶间充满高折射率的液体。相对于中间介质为空气的干式光刻机，提高了投影物镜的数值孔径(NA)，从而提高了光刻设备的分辨率和焦深。浸没式光刻技术使得193nmArF光刻机向65nm和45nm节点延伸成为可能。目前常采用的方案是局部浸没法，即将液体限制在硅片上方和最后一片投影物镜的下表面的局部区域内（以下简称局部区域），并在步进扫描的过程中保持稳定连续的液体流动。
流体控制***是浸没式光刻设备中的一个关键组件，用来实现光刻机局部区域液体的平稳注入和回收，并保证无泄漏和气泡的产生。***内部器件数量比较多，控制过程复杂。
传统的流程设计多采用根据***的工作要求，事先确认出***的工作流程，从而完成***内部器件的协调配合。这种方法在***器件比较少时，工作流程设计相对简单。而流体动力控制***中器件数量比较多，工作流程就要应对于不同的工作状态，如***待机、开机、运行、关机，各种类型的故障状态制定所涉及相应器件的协调控制，因此，工作流程的制定变得非常复杂，且***控制中单个功能实现的独立性能差，灵活性差。
发明内容
本发明的目的是提供一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法，以简化流程设计过程，提高***的控制的灵活度，简化控制过程，保证流体控制***设计过程的有效性、高效性及可靠性。
为了达到上述目的，本发明采用的技术方案如下：
根据目标***流体的传输路线及流体性质，将该***分为多个具有不同功能的控制模块；分别制定每个控制模块各自的工作流程、状态位及故障位；在控制模块各自的工作流程中采用阻塞方法进行自动模式下各个控制模块之间工作流程的时序配合，通过调用控制模块的接口对手动模式下各个控制模块的工作流程进行控制。
所述的控制模块的工作流程包括待机、开机和关机三个依次进行的工作流程，控制模块的状态位包括开机状态和关机状态，控制模块的故障位包括故障状态和非故障状态。
所述的采用阻塞体系进行各个控制模块之间工作流程的时序配合具体包括以下步骤：各个控制模块首先同时进入各自的工作流程，当控制模块之间需时序配合时，在时序配合中的后置控制模块的工作流程中，对前置控制模块的状态位进行判断，若前置控制模块的当前状态位不符合所需要的状态位时，则后置控制模块的工作流程阻塞，直到前置控制模块的状态位符合所需要的状态位，则后置控制模块继续工作流程。
当监测到某一控制模块出现故障时，则该控制模块对应的故障位设置为故障状态，同时该控制模块进入关机流程对故障进行处理，其他控制模块进入待机流程；当故障经处理排除后，故障处理后的控制模块故障位设置为非故障状态，并重新进入工作流程，其他控制模块继续各自所需的流程。
所述的控制模块提供开机工作流程和关机工作流程的接口，手动模式下通过调用两个接口独立控制每个控制模块的工作流程。
本发明具有的有益效果是：
（1）本发明的模块流程设计方法与传统的流程设计相比，使原本应对于多种状态的流程简化为对应模块的流程设计，简化了***的流程设计过程。
（2）模块工作流程具有独立性，且单个模块故障对***的影响减小，提高了***工作的灵活度及增加***的稳定性。
（3）采用了阻塞体系保证***运行时模块间能够较好的协调配合，保证了流体控制***设计过程的有效性、高效性及可靠性。
附图说明
图1是本发明中浸没式光刻机流体控制***的原理示意图。
图2是本发明工作流程的模块示意图。
图3是本发明中注液模块工作流程。
图4是本发明中注气模块工作流程。
图5是本发明中气液回收模块工作流程。
具体实施方式
下面结合附图和实施例详细说明本发明的具体实施过程。
如图1所示，本发明包括：根据目标***流体的传输路线及流体性质，将该***分为多个具有不同功能的控制模块；分别制定每个控制模块各自的工作流程、状态位及故障位，确保模块的工作、修改的独立性；在控制模块各自的工作流程中采用阻塞方法进行自动模式下各个控制模块之间工作流程的时序配合，通过调用控制模块的接口对手动模式下各个控制模块的工作流程进行控制。
控制模块的工作流程包括待机、开机和关机三个依次进行的工作流程，控制模块的状态位包括开机状态和关机状态，控制模块的故障位包括故障状态和非故障状态。
采用阻塞体系进行各个控制模块之间工作流程的时序配合具体包括以下步骤：各个控制模块首先同时进入各自的工作流程，当控制模块之间需时序配合时，在时序配合中的后置控制模块的工作流程中，对前置控制模块的状态位进行判断，若前置控制模块的当前状态位不符合所需要的状态位时，则后置控制模块的工作流程阻塞，直到前置控制模块的状态位符合所需要的状态位，则后置控制模块继续工作流程。
当监测到某一控制模块出现故障时，则该控制模块对应的故障位设置为故障状态，同时该控制模块进入关机流程对故障进行处理，其他控制模块进入待机流程。
当故障处理排除后，故障处理后的控制模块故障位设置为非故障状态，并重新进入工作流程，其他控制模块继续各自所需的流程。
控制模块提供开机工作流程和关机工作流程的接口，手动模式下通过调用两个接口独立控制每个控制模块的工作流程。
本发明的流体控制***实现光刻机局部区域液体的平稳注入和回收，并保证无泄漏和气泡的产生。如图1所示，***将浸液和气源进行一系列的动力学调制之后向局部区域提供稳定的浸液、气密封气体还有稳定的气液回收。
本发明采用“模块化设计”理念，将***分为多个独立功能的控制模块；分别制定单个模块的工作流程及定义模块状态位及故障信息，确保模块的工作、修改的独立性；在模块工作流程中采用阻塞方法确保独立模块之间工作流程的协调配合。
本发明方法适用于复杂的流体控制***内部结构，简化工作流程的控制。
具体实施中，本发明***对外可只提供模块开始和终止工作流程的接口；在***运行时，可根据***需求，调用控制模块接口，使任一控制模块工作流程开始或中止。
本发明的具体实施例如下：
根据流体控制***内部结构可分解为多个控制模块，按照流体传输方向及流体的性质具体将***划分为三个：注气模块、注液模块和气液回收模块。
采用“模块化设计”理念，以模块为单位，分别制定单个模块的工作流程，工作流程中包含对应模块待机、开机和关机全部流程操作，并包括对模块状态位和故障状态位的判断。如图2，本***的工作流程可分为注气模块工作流程、注液模块工作流程和气液回收模块工作流程。相应模块的详细工作流程如图3、4、5所示。
模块间流程操作有时序配合时，使用阻塞体系。***正常运行时，注液模块开启稳定后，注气模块和气液回收模块才能够开启，避免在流场建立时混入气泡。如图4中，注气模块的开机流程前加入“注液模块状态位为开”的判断，如果判断为N，则进入阻塞；直到判断为Y时，注气模块才能进入开机流程。
本发明的各个工作流程是：
1）当***开机时：
1.1）注气模块、注液模块、气液回收模块同时进入相应模块的工作流程，此时三个模块处于工作流程中的待机流程；
1.2）注液模块进入开机流程，注气模块和气液回收模块阻塞等待注液模块开机流程结束；
1.3）注液模块开机完成，注液模块状态位为开；
1.4）气液回收模块、注气模块阻塞解除，气液回收模块和注气模块工作流程继续执行，进入相应开机流程。
1.5）气液回收模块开机完成，其状态位为开；注气模块开机完成，其状态位为开。
1.6）***完成开机，处于运行状态。
2）当***发出关机指令时：
2.1）注液模块、注气模块同时进入相应模块流程的关机流程，此时，气液回收模块工作流程的关机流程阻塞；
2.2）注液模块、注气模块关机流程执行结束时，相应模块状态位为关；
2.3）一旦注液模块状态位为关，气液回收模块工作流程的关机流程阻塞开，气液回收模块工作流程进入关机流程；
2.4）气液回收模块关机完成，其状态位设置为关。
2.5）***完成关机。
如图3～图5中，当监测到某一模块出现故障时，该模块进入关机流程，其他模块进入待机流程。当所有故障排除后，可开启该刚故障的模块，各个模块进入开机流程。
3）当***运行时，注液模块发生故障***的运行行为：
3.1）监测到注液模块故障位故障状态，注液模块进入关机流程，关机完成后，注液模块状态位为关；注气模块、气液回收模块分别进入相应模块的待机流程，相应状态位设置为关；
3.2）当注液模块故障修复后，注液模块故障位设置为非故障，开启注液模块流程，开机流程完成后，注液模块状态位为开；
3.3）注气模块、气液回收模块进入相应模块的开机流程，开机完成后，相应状态位设置为开。
同时，三个模块的流程中设置手动、自动运行判断位。当***自动运行时，模块之间的工作流程的运行需要相互协调配合；当***处于手动运行模式时，单个模块可以独立工作，提高***的灵活性。
上述具体实施方式用来解释说明本发明，而不是对本发明进行限制，在本发明的精神和权利要求的保护范围内，对本发明作出的任何修改和改变，都落入本发明的保护范围。
Claims (4)
1.一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法，其特征在于：根据目标***流体的传输路线及流体性质，将该***分为多个具有不同功能的控制模块；分别制定每个控制模块各自的工作流程、状态位及故障位；在控制模块各自的工作流程中采用阻塞方法进行自动模式下各个控制模块之间工作流程的时序配合，通过调用控制模块的接口对手动模式下各个控制模块的工作流程进行控制；
所述的采用阻塞体系进行各个控制模块之间工作流程的时序配合具体包括以下步骤：各个控制模块首先同时进入各自的工作流程，当控制模块之间需时序配合时，在时序配合中的后置控制模块的工作流程中，对前置控制模块的状态位进行判断，若前置控制模块的当前状态位不符合所需要的状态位时，则后置控制模块的工作流程阻塞，直到前置控制模块的状态位符合所需要的状态位，则后置控制模块继续工作流程。
2.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法，其特征在于：所述的控制模块的工作流程包括待机、开机和关机三个依次进行的工作流程，控制模块的状态位包括开机状态和关机状态，控制模块的故障位包括故障状态和非故障状态。
3.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法，其特征在于：当监测到某一控制模块出现故障时，则该控制模块对应的故障位设置为故障状态，同时该控制模块进入关机流程对故障进行处理，其他控制模块进入待机流程；当故障经处理排除后，故障处理后的控制模块故障位设置为非故障状态，并重新进入工作流程，其他控制模块继续各自所需的流程。
4.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法，其特征在于：所述的控制模块提供开机工作流程和关机工作流程的接口，手动模式下通过调用两个接口独立控制每个控制模块的工作流程。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410361764.3A CN104181776B (zh) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | 浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410361764.3A CN104181776B (zh) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | 浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN104181776A CN104181776A (zh) | 2014-12-03 |
| CN104181776B true CN104181776B (zh) | 2016-04-13 |
Family
ID=51962931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410361764.3A Active CN104181776B (zh) | 2014-07-28 | 2014-07-28 | 浸没式光刻机流体控制***的模块化工作流程控制方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN104181776B (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112666799B (zh) * | 2020-12-30 | 2024-06-25 | 浙江启尔机电技术有限公司 | 一种浸液供给回收***及其控制方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1864244A (zh) * | 2003-10-09 | 2006-11-15 | 株式会社尼康 | 曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 |
| CN101477314A (zh) * | 2009-01-20 | 2009-07-08 | 上海微电子装备有限公司 | 浸没光刻机的浸液供给装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7420188B2 (en) * | 2005-10-14 | 2008-09-02 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Exposure method and apparatus for immersion lithography |
-
2014
- 2014-07-28 CN CN201410361764.3A patent/CN104181776B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN1864244A (zh) * | 2003-10-09 | 2006-11-15 | 株式会社尼康 | 曝光装置和曝光方法以及器件制造方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN104181776A (zh) | 2014-12-03 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
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