一种有机发光显示面板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其是涉及一种有机发光显示面板及其制造方法、包含该有机发光显示面板的显示装置。
背景技术
有机发光显示器(OLED,Organic Light Emitting Display)是一种利用有机半导体材料制成的、用直流电压驱动的薄膜发光器件,OLED显示技术与传统的LCD显示方式不同,无需背光灯,采用非常薄的有机材料涂层和玻璃基板,当有电流通过时,这些有机材料就会发光。而且OLED显示屏幕可以做得更轻更薄,可视角度更大,并且能够显著节省电能。
有机发光显示面板中需要设置许多金属层,金属的反光能力强,其中有机发光元件的阳极和阴极通常都采用反光或者半反光材料,同时,盖板上与有机发光元件相对的区域均为开口区域,使得环境光可以进入有机发光显示面板并发生强烈的反射,影响有机发光显示面板的显示效果。目前,通常采用在盖板上贴合一片圆偏光片的方法来起到很好的防反作用,但带来的负面效应是:模组亮度降低明显;为实现模组与贴片前同等显示亮度,功耗相应增加;功耗的增加又会带来显示寿命的大幅缩短;整个面板的厚度也增加了约160um甚至以上。
目前,为提升OLED显示性能,提高亮度,增加使用寿命,人们一直致力于研究OLED器件效率和寿命提升的各种方法。如有能不用圆偏光片,同时起到防反作用的技术出现,将克服以上采用圆偏光片的缺陷,在高亮度、低功耗、长寿命的使用需求上做出贡献。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种有机发光显示面板及其制造方法、显示装置。
一种有机发光显示面板,所述有机发光显示面板包括:
阵列基板,具有像素发光区和像素间隔区,包括设置在所述像素发光区的下微棱镜;
盖板,与所述阵列基板相对设置,具有透光区和遮光区,包括至少设置在所述透光区的上微棱镜,所述透光区对应所述像素间隔区,所述遮光区对应所述像素发光区;
介质,填充在所述阵列基板和所述盖板之间的空隙中。
一种显示装置,包含所述的有机发光显示面板。
一种有机发光显示面板的制造方法,其特征在于:
提供一阵列基板,所述阵列基板具有像素发光区和像素间隔区,所述像素
发光区设置有下微棱镜;
提供一盖板,所述盖板具有遮光区与透光区,至少在所述透光区设置有上微棱镜;
将所述阵列基板与所述盖板在介质气氛中相对贴合,或在阵列基板与盖板中任一上铺上介质,然后将所述阵列基板与所述盖板相对贴合,贴合时所述像素发光区与所述遮光区对应,所述像素间隔区与所述透光区对应。
本发明提供的有机发光显示面板,可以减少有机发光显示面板正面的反射光,改善有机发光显示面板的显示效果,提高有机发光元件的光的利用率,从而降低有机发光显示面板的功耗,进而可以延长有机发光元件的使用寿命。
附图说明
图1(a)为实施例一提供的一种有机发光显示面板的俯视示意图;
图1(b)为实施例一提供的另一种有机发光显示面板的俯视示意图;
图1(c)为实施例一提供的再一种有机发光显示面板的俯视示意图;
图1(d)为实施例一提供的有机发光显示面板的截面结构示意图;
图2为实施例一的有机发光显示面板多种光路示意图;
图3(a)为实施例一的有机发光显示面板光路示意图;
图3(b)为图3(a)中下微棱镜114的截面放大示意图;
图3(c)为图3(a)中上微棱镜124的截面放大示意图;
图4(a)为三棱柱体下微棱镜形状示意图;
图4(b)为三棱柱体下微棱镜的排布示意图
图5(a)为一种四棱锥体下微棱镜形状示意图;
图5(b)为一种四棱锥体下微棱镜的排布示意图
图6(a)为另一种四棱锥体下微棱镜形状示意图;
图6(b)为另一种四棱锥体下微棱镜的排布示意图
图7(a)为另一种三棱柱体下微棱镜形状示意图;
图7(b)为另一种三棱柱体下微棱镜的排布示意图;
图7(c)为另一种三棱柱体下微棱镜的另一种排布示意图;
图8(a)为实施例一显示仿真实验中的阵列基板的俯视结构示意图;
图8(b)为实施例一显示仿真实验中盖板的俯视结构示意图;
图8(c)为实施例一显示仿真实验中有机发光显示面板的截面结构示意图;
图9(a)为实施例一仿真实验光探测器所接收到的光能量角度分布图;
图9(b)为实施例一仿真实验光探测器所接收到的光通量角度分布图;
图10为实施例二提供的有机发光显示面板的截面结构示意图;
图11为实施例三提供的有机发光显示面板的截面结构示意图;
图12(a)为实施例三显示仿真实验中的阵列基板的俯视结构示意图;
图12(b)为实施例三显示仿真实验中盖板的俯视结构示意图;
图12(c)为实施例三显示仿真实验中有机发光显示面板的截面结构示意图;
图13(a)为实施例三仿真实验光探测器所接收到的光能量角度分布图;
图13(b)为实施例三仿真实验光探测器所接收到的光通量角度分布图;
图14为本发明实施例三的另一种实施方式的有机发光显示面板的截面结构示意图;
图15为棱锥台体形状示意图;
图16(a)为实施例三的另一种实施方式的仿真实验光探测器所接收到的光能量角度分布图;
图16(b)为实施例三的另一种实施方式的仿真实验光探测器所接收到的光通量角度分布图;
图17为本发明实施例四的有机发光显示面板的俯视示意图;
图18为本发明的实施例有机发光显示面板的制造方法的流程图。
具体实施方式
为了进一步了解本发明的技术内容,特举具体实施例并配合所附图示说明如下,但是以下附图和具体实施方式并不是对本发明的限制,任何所属技术领域中具有通常知识者,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的更动与润饰,因此本发明的保护范围当视权利要求书所界定者为准。
实施例一
参考图1(a)至图1(d),图1(a)至图1(c)为本发明实施例一提供的有机发光显示面板的盖板一侧的局部俯视图,有机发光显示面板的盖板上具有遮光区125和透光区126,遮光区125可以采用如图1(a)所示的RGB Stripe结构,也可以采用如图1(b)所示的Delta结构,还可以采用如图1(c)所示的品字结构。
图1(d)为本发明实施例一提供的有机发光显示面板AA’截面示意图,虽然有机发光显示面板可以采用不同结构,但在AA’截面的结构相同。如图1(d)所示,所述有机发光显示面板包括相对设置的阵列基板和盖板以及填充在阵列基板和盖板之间的介质130。
所述阵列基板具有多个间隔设置的像素发光区115和像素间隔区116,所述阵列基板包括基板110、设置在基板110上的为有机发光元件113提供信号的布线111、设置在像素发光区115的有机发光元件113、覆盖在有机发光元件113之上的下微棱镜114、设置在像素间隔区116的像素定义层112。多个有机发光元件113依次排列在基板110的多个像素发光区115内,相邻两个有机发光元件113之间设置有像素定义层112,并且像素定义层112围绕在有机发光元件113的周围。多个下微棱镜114设置在像素发光区215的有机发光元件213上。
所述盖板与所述阵列基板相对设置,具有透光区126和遮光区125。在遮光区125设置有遮光层121,可以阻挡光线的通过,所述遮光层121可以为黑矩阵。多个遮光区125与阵列基板的多个像素发光区115一一对应,透光区126与阵列基板的像素间隔区116一一对应,从垂直于有机发光显示面板的方向上看,遮光区125与像素发光区115重叠,优选地,遮光区125与像素发光区115的形状和大小相同,从垂直于有机发光显示面板的方向上看,遮光区125与像素发光区115恰好完全重合。在盖板的透光区126面对阵列基板的内侧设置有上微棱镜124。阵列基板与盖板之间的空隙中填充有介质130,该介质130可以为透明的惰性气体或干燥剂等物质。
现有技术中因为盖板上与阵列基板的像素发光区对应的区域是全透光的,由于设置在像素发光区的有机发光原件其阳极或者阴极为反光或者半反光材料,因此从外界入射到有机发光显示面板内部的光线通过阳极或者阴极的反射会产生反光现象,影响有机发光显示面板的显示效果。本发明实施例一提供的有机发光显示面板中,阵列基板的像素发光区115设置有有机发光元件113,与像素发光区115对应盖板上的区域为遮光区125,阻挡了环境光,因此有机发光元件113的阳极或者阴极造成的反光大大降低了;同时,与盖板的透光区126对应的是阵列基板的像素间隔区116,像素间隔区116的材料通常为亚克力或者树脂材料,反射率低,降低对外界光线的反射。因此本发明实施例一提 供的有机发光显示面板有效地降低了反光现象,提高了有机发光显示面板的显示效果。
本发明实施例一提供的有机发光显示面板是利用设置在面板内部的下微棱镜114和上微棱镜124来实现显示的,当有机发光元件113发出的光线通过像素发光区115表面的下微棱镜114时,光线方向发生偏转,使得光线可以到达盖板的透光区126,到达透光区126的光线经过盖板内的上微棱镜124时,会再一次发生折射,调正光路,使更多的光线能够以垂直有机发光显示面板的方向从盖板的透光区126透出。
以下结合附图具体说明本发明实施例一提供的有机发光显示面板的工作原理。图2为实施例一提供的有机发光显示面板的多条光路示意图,请参考图2,有机发光元件113发出的光线会从各个方向上射出,图2中光线a、b、c、d、e示意性地给出了一个有机发光元件113发出的不同方向的光线的不同走向情况。光线a和d经过下微棱镜114的折射后到达了盖板上的遮光层121,无法透射到有机发光显示面板外。光线b经过下微棱镜114和上微棱镜124的折射后以斜方向透出有机发光显示面板。光线c和e经过下微棱镜114和上微棱镜124的折射后以垂直于有机发光显示面板的方向透出有机发光显示面板。光线c从有机发光元件113相对的遮光层121的左侧透出,光线e从有机发光元件113相对的遮光层121的右侧透出。
有机发光元件113发出的光在各个角度上的能量分布接近朗伯分布,也就是说在垂直有机发光面板的方向上的光强最大,另外,在通常的情况下用户都在垂直或接近垂直于有机发光显示面板的方向上观察使用,如果有机发光元件113发出的垂直于有机发光显示面板的光经过下微棱镜114和上微棱镜124的折射后,依然能够以垂直于有机发光面板的方向透出,那么其提供的有机发光显示面板可以达到较好的显示效率,因此可以参考垂直于有机发光显示面板的光线来选择下微棱镜114和上微棱镜124的形状及折射率等。
要使有机发光元件113发出的垂直于有机发光显示面板的光经过下微棱镜 114和上微棱镜124的折射后,能够以垂直于有机发光面板的方向透出,需要满足以下的公式(1):
公式(1)
其中,np1为下微棱镜114的折射率,
np2为上微棱镜124的折射率,
α为下微棱镜114光线发生折射的侧面与垂直有机发光显示面板方向的夹角,
β为上微棱镜124光线发生折射的侧面与垂直有机发光显示面板方向的夹角,
d为光线在下微棱镜114和上微棱镜124发生折射的两点间在垂直有机发光显示面板方向上的距离,
L为光线在下微棱镜114和上微棱镜124发生折射的两点间在平行有机发光显示面板方向上的距离。
以下结合附图对公式(1)进行进行具体的说明。图3(a)为实施例一提供的垂直于有机发光显示面板的光线Z的光路示意图,图3(b)为图3(a)中的下微棱镜114的截面放大示意图,图3(c)为图3(a)中的上微棱镜124的截面放大示意图。
如图3(a)所示,光线Z从下微棱镜114的侧面A射出,并从位于下微棱镜114上方右侧的上微棱镜124的侧面B进入上微棱镜124,从而透出有机发光显示面板,下微棱镜114的侧面A与上微棱镜124的侧面B为两个相对的侧面。
如图3(b)所示,下微棱镜114的侧面A与垂直有机发光显示面板方向上的夹角为α。如图3(c)所示,上微棱镜124的侧面B与垂直面板方向上的夹角为β。下微棱镜114和上微棱镜124的折射率分别为为np1和np2;介质130的折射率为nm。
光线Z首先照射至下微棱镜114的侧面A的出射点X,此时,由于下微 棱镜114的折射率np1与介质130的折射率nm不同,光线Z会发生折射。在出射点X处法线F1和侧面A垂直,即法线F1和侧面A之间的夹角为光线Z的入射方向和法线F1之间夹角i即为入射角。因为光线Z在下微棱镜114内传播的方向也是垂直于有机发光显示面板方向的,因此光线Z和下微棱镜114的侧面A的夹角为也α,则入射角
光线Z从下微棱镜114射出进入介质130时的出射角为r,也就是光线Z在介质130中的传播方向和法线F1之间的夹角,并且 其中θ为光线Z在点X折射后的方向与垂直有机发光显示面板方向之间的夹角。具体地,如上所述下微棱镜114的侧面A与垂直有机发光显示面板方向上的夹角为α,则法线F1和垂直有机发光显示面板方向之间的夹角 同时根据三角形外角定理又有e=r+θ,则 并且折射后,光线Z在介质130中传输至上微棱镜124的侧面B的入射点Y处。下微棱镜114的侧面A的出射点X和上微棱镜124的侧面B的入射点Y两点间的平行于有机发光面板方向上的距离为L,垂直于有机发光面板方向上的距离为d。根据折射定律请参考公式(2):
公式(2)
将i、r等代入公式(2)计算得到如下等式,见公式(3):
公式(3)
光线Z经过下微棱镜114的折射后,经过介质130到达上微棱镜124的侧面B的入射点Y,再一次发生折射。在入射点Y处法线F2和侧面B垂直,即法线F2和侧面B之间的夹角为 光线Z的传播方向和法线F2之间夹角i’即为入射角,并且 其中θ为光线Z在出射点X折射后的方向与垂直有机发光显示面板方向之间的夹角。具体地,如上所述上微棱镜124的侧面A与垂直有机发光显示面板方向上的夹角为β,则法线F2和垂直有机发光 显示面板方向之间的夹角 同时根据三角形外角定理又有f=i'+θ,则
光线Z从介质130进入上微棱镜124时的出射角为r’,也就是光线Z在上微棱镜124中的传播方向和法线F2之间的夹角,因为光线Z在上微棱镜124内传播的方向也是垂直于有机发光显示面板方向的,因此光线Z和上微棱镜124的侧面B的夹角为也β,则
根据折射定律请参考公式(4):
公式(4)
将i'、r'等代入公式(4)计算得到如下等式,见公式(5):
公式(5)
通过公式(3)和公式(5)消去nm计算可以得到公式(1)。
从上面的分析过程中可以发现:
由于i>r,即光线Z在X点发生折射时入射角i大于出射角r,根据折射定律,有nm>np1,即介质130的折射率nm大于下微棱镜114的折射率np1;
由于i'<r',即光线Z在Y点发生折射时入射角i’小于出射角r’,根据折射定律,有np2<nm,即上微棱镜124的折射率np2小于介质130的折射率nm。
因而,选择介质130的折射率大于下微棱镜114和上微棱镜124的折射率,可以更加有效地让有机发光元件113发出的垂直于面板方向上的光透出盖板透光区126用以显示。
进一步地,公式(1)中的d为点X和点Y之间在垂直于有机发光面板方向上的距离,d与有机发光显示面板的盖板和阵列基板之间的距离以及上微棱镜114和下微棱镜124的大小有关。公式(1)中的L为点X和点Y之间在平行于有机发光面板方向上的距离,L与阵列基板上有机发光元件113的大小和盖板上透光区126的大小有关。
根据以上示意性的说明,可以对下微棱镜114和上微棱镜124的材料折射率、形状以及介质130的折射率进行考虑作适当的选择。以下对下微棱镜114和上微棱镜124的材料、形状、大小、排布情况及制作方法进行更为详细的说明。
在本发明实施例一提供的有机发光面板中,下微棱镜114和上微棱镜124使用透明材料,可以使用有机材料、无机材料或者有机无机混合材料等。作为有机材料,一般可以使用树脂材料,特别是紫外线固化树脂、电子束固化树脂电离辐射可固化树脂、热固性树脂、热塑性树脂或类似物等都可以。
对于下微棱镜114和上微棱镜124的制造方法,可以采用光刻法,或者使用紫外固化树脂微接触印刷法等。
对于下微棱镜114和上微棱镜124的形状、大小及排布方法,没有严格的限定,也不限定下微棱镜114和上微棱镜124是否全部相同。以下举出几种下微棱镜114和上微棱镜124的形状、大小及排布方法的实施方式。
如图4(a)为下微棱镜114的形状示意图,所述下微棱镜114的形状为三棱柱体形,三棱柱体形的下微棱镜114的一个侧面与有机发光元件接触,一个像素发光区可以设置一个或多个三棱柱体形的下微棱镜114,为了更多地让有机发光元件发出的光透出盖板的透光区,下微棱镜114的排布应当以布满整个像素发光区为宜,因此三棱柱体下微棱镜114的大小可以根据像素发光区的大小和一个像素发光区设置的微棱镜的个数来调整,图4(b)为一个像素发光区设置了3个三棱柱体形的下微棱镜114的示意图。三棱柱体形的下微棱镜114侧面夹角的大小根据前述公式(1)来确定。
下微棱镜114的形状也可以是四棱锥体形,如图5(a)为一种四棱锥体形下微棱镜114的形状示意图,所述四棱锥体形下微棱镜114的底面四边形为长方形,其底面与有机发光元件接触,一个像素发光区可以设置一个或多个下微棱镜114,下微棱镜114的排布以布满整个像素发光区为宜,如图5(b)为一个像素发光区设置了多个四棱锥体形下微棱镜114的示意图。
图6(a)为为另一种四棱锥体形下微棱镜114的形状示意图,所述四棱锥体形下微棱镜114的底面四边形为正方形,其底面与有机发光元件接触,一个像素发光区可以设置一个或多个下微棱镜114,下微棱镜114的排布以布满整个像素发光区为宜,如图6(b)为一个像素发光区设置了多个四棱锥体形下微棱镜114的示意图。
另外,四棱锥体形下微棱镜114的底面四边形也可以为平行四边形或者其他四边形,但会使得下微棱镜114在像素发光区的排布方法和光透出的经过更加复杂。四棱锥体下微棱镜114侧面夹角的大小根据前述公式(1)来确定。
图7(a)为另一种三棱柱体形下微棱镜114形状示意图,三棱柱体形的下微棱镜114的一个侧面与有机发光元件接触,下微棱镜114的形状在垂直面板方向上不对称。所述具有不对称形状的下微棱镜114在像素发光区进行排布时,可以采用单个重复排列的方式,如图7(b)为另一种三棱柱体形下微棱镜114的单个重复排布示意图;也可以采用对称排列的方式,沿着像素发光区115的中线向两边对称排列,如图7(c)为另一种三棱柱体形下微棱镜114的对称排布示意图。
对于盖板上的上微棱镜124,可以采用与下微棱镜114相同的形状进行对应的排布,也可以采用不同的形状。
以下对本发明实施例一的有机发光显示面板结构进行了显示仿真实验。请参考图8(a)、图8(b)和图8(c),图8(a)为实施例一显示仿真实验中的阵列基板的俯视结构示意图,图8(b)为实施例一显示仿真实验中盖板的俯视结构示意图,图8(c)为实施例一显示仿真实验中有机发光显示面板的截面结构示意图。如图所示,仿真实验中的有机发光显示面板的盖板的遮光区125为品字结构,阵列基板具有像素发光区115和像素间隔区116,像素发光区115和像素间隔区116的面积大小均为20mm×20mm,在每个像素发光区115内设置有多个正四棱锥体形的下微棱镜114。在阵列基板上的像素发光区116设置有有机发光元件113,仿真实验中采用的有机发光显示面板中共有5个有机发光元件,每 个有机发光元件113发出的光的能量为1W,且每个有机发光元件113发出的光符合朗伯分布。盖板具有遮光区125和透光区126,遮光区125与阵列基板上的像素发光区115对应,并且遮光区125的遮光层采用不透光材料。透光区126与阵列基板上的像素间隔区116对应,每个透光区126内设置有多个正四棱锥体的上微棱镜124,下微棱镜114与上微棱镜124的大小、形状及折射率均相同。阵列基板与盖板之间填充有介质130,介质130的折射率为1.9,下微棱镜114和上微棱镜124的折射率均为1.52,光探测器10设置在盖板的外表面,可以接收从有机发光显示面板表面透出的光。
实施例一仿真实验的有机发光显示面板中共有5个有机发光元件,每个有机发光元件的功率为1W,因此该有机发光面板的光能量共为5W,而光探测器10探测到的光能量为1.8587W,也就是透出该有机发光显示面板的光能量为1.8587W,1.8587W/5W=0.3717,因而实施例一的有机发光显示面板对光的利用率为37.17%。
图9(a)为实施例一仿真实验光探测器所接收到的光能量角度分布图,半径坐标为光能量(W),角坐标为角度(°),由图9(a)可知,光探测器10探测到的光能量大部分分布在90°方向上,也就是垂直有机发光显示面板的方向上。有机发光元件113本身发出的光符合朗伯分布,在90°方向上的辐射强度为1.3W/Sr。图9(b)为实施例一仿真实验光探测器所接收到的光通量角度分布图,图中横坐标为角度(°),纵坐标为辐射强度(W/Sr),由图9(b)可知,光探测器10探测到的光在90°方向上的辐射强度为2W/Sr,大于有机发光元件113本身发出的光在90°方向上的辐射强度,说明此结构可以让有机发光元件113发出的光通过折射透出有机发光面板,并将透出的光聚集到垂直面板的方向上。
实施例二
参考图10,图10为本发明实施例二提供的有机发光显示面板结构的截面 示意图。如图所示,所述有机发光显示面板包括相对设置的阵列基板和盖板以及填充在阵列基板和盖板之间的介质230。
所述阵列基板具有多个间隔设置的像素发光区215和像素间隔区216,所述阵列基板包括基板210、设置在基板210上的为有机发光元件213提供信号的布线211、设置在像素发光区215的有机发光元件213、覆盖在有机发光元件113之上的下微棱镜214、设置在像素间隔区216的像素定义层212。多个有机发光元件213依次排列在基板210的多个像素发光区215内,相邻两个有机发光元件213之间设置有像素定义层212,并且像素定义层212围绕在有机发光元件213的周围。多个下微棱镜214设置在像素发光区215的有机发光元件213上。
有机发光元件213包括阳极层2131、有机发光材料层2132和阴极层2133,在有机发光元件213中,阳极层2131最靠近基板210一侧,采用金属材料,具有反射光线的作用。有机发光材料层2132夹在阳极层2131和阴极层2133之间,阴极层2133采用透明导电材料,如氧化铟锡(ITO)等。在铺设阴极层2133时对其进行图案化,全部或者部分地去除像素间隔区216的阴极层2133,即阴极层2133部分覆盖或者不覆盖像素间隔区216。阴极层2133虽然是透明材料,但它对光也有一定的反射作用,减少阴极层2133在像素间隔区216的铺设面积,可以减弱像素间隔区216对环境光的反射作用。
像素定义层212覆盖在布线211上,由于布线211通常采用金属导电材料,因而它对光的反射能力很强,采用遮光且抗反射的像素定义层212覆盖在布线211之上,可以极大地减少阵列基板对环境光的反射。像素定义层212可以采用黑矩阵材料等。像素定义层还可以制作成多层结构,当像素定义层具有至少两层的结构时,最靠近盖板的那一层可以采用抗反射的材料,所述至少两层中的任意一层或多层可以采用遮光材料。
所述盖板与所述阵列基板相对设置,具有透光区226和遮光区225。在遮光区225设置有遮光层221,可以阻挡光线的通过,所述遮光层121可以为黑 矩阵。多个遮光区225与阵列基板的多个像素发光区215一一对应,透光区226与阵列基板的像素间隔区216一一对应。在盖板的透光区226面对阵列基板的内侧设置有上微棱镜224。阵列基板与盖板之间的空隙中填充有介质230,该介质230可以为透明的惰性气体或干燥剂等物质。
该实施例的显示原理与实施例一相同,因此,对上微棱镜、下微棱镜的材料、形状、大小、排布及制作方法等问题的解决方法也与实施例一相同,在此,对显示原理、上微棱镜、下微棱镜的相关问题不再赘述。
实施例三
参考图11,图11为本发明实施例三提供的有机发光显示面板结构的截面示意图。如图所示,所述有机发光显示面板包括相对设置的阵列基板和盖板以及填充在阵列基板和盖板之间的介质330。
所述阵列基板具有多个间隔设置的像素发光区315和像素间隔区316,所述阵列基板包括基板310、设置在基板310上的为有机发光元件313提供信号的布线311、设置在像素发光区315的有机发光元件313、覆盖在有机发光元件113之上的下微棱镜314、设置在像素间隔区316的像素定义层312。多个有机发光元件313依次排列在基板310的多个像素发光区115内,相邻两个有机发光元件313之间设置有像素定义层312,并且像素定义层312围绕在有机发光元件313的周围。多个下微棱镜314设置在像素发光区315的有机发光元件313上。
所述盖板与所述阵列基板相对设置,具有透光区326和遮光区325。在遮光区325设置有遮光层321,可以阻挡光线的通过,所述遮光层321可以为黑矩阵。多个遮光区325与阵列基板的多个像素发光区315一一对应,透光区326与阵列基板的像素间隔区316一一对应。在盖板的透光区326面对阵列基板的内侧设置有上微棱镜324。阵列基板与盖板之间的空隙中填充有介质330,该介质330可以为透明的惰性气体或干燥剂等物质。
进一步地,在盖板的遮光层321朝向阵列基板的一侧设置有反射层322,反射层322可以采用金属材料,除了盖板的透光区326处设置有上微棱镜324,盖板的反射层322朝向阵列基板的一侧也设置有上微棱镜324,对于反射层322朝向阵列基板的一侧的上微棱镜324的形状、大小并没有严格的限定,可以采用与透光区326相同的上微棱镜324和相同的排布方式。有机发光元件313发出的光照射到盖板的遮光区325时,反射层322可以将光反射回像素发光区315而再一次加以利用,提高光的利用率。
以下对本发明实施例三的有机发光显示面板结构进行了显示仿真实验。请参考图12(a)、图12(b)和图12(c),图12(a)为实施例三显示仿真实验中的阵列基板的俯视结构示意图,图12(b)为实施例三显示仿真实验中盖板的俯视结构示意图,图12(c)为实施例三显示仿真实验中有机发光显示面板的截面结构示意图。如图所示,阵列基板具有像素发光区315和像素间隔区316,像素发光区315和像素间隔区316的面积大小均为20mm×20mm,在每个像素发光区315内设置有多个正四棱锥体形的下微棱镜314。在阵列基板上的像素发光区316设置有有机发光元件313,仿真实验中采用的有机发光显示面板中共有5个有机发光元件,每个有机发光元件313发出的光的能量为1W,且每个有机发光元件313发出的光符合朗伯分布。盖板具有遮光区325和透光区326,遮光区325与阵列基板上的像素发光区315对应,遮光区325设置有遮光层321,遮光层321朝向阵列基板的一侧设置有反射层322,透光区326与阵列基板上的像素间隔区316对应。盖板的遮光区325和透光区326朝向阵列基板的一侧均设置有多个正四棱锥体的上微棱镜324,下微棱镜314与上微棱镜324的大小、形状及折射率均相同。阵列基板与盖板之间填充有介质330,介质330的折射率为1.9,下微棱镜314和上微棱镜324的折射率均为1.52,光探测器10设置在盖板的外表面,可以接收从有机发光显示面板表面透出的光。
实施例三仿真实验的有机发光显示面板中共有5个有机发光元件,每个有机发光元件的功率为1W,因此该有机发光面板的光能量共为5W,而光探测 器10探测到的光能量为2.0312W,也就是透出该有机发光显示面板的光能量为2.0312W,2.0312W/5W=0.40624,因而实施例三地有机发光显示面板对光的利用率为40.624%。
图13(a)为实施例三仿真实验光探测器所接收到的光能量角度分布图,半径坐标为光能量(W),角坐标为角度(°),由图13(a)可知,光探测器10探测到的光能量大部分分布在90°方向上,也就是垂直有机发光显示面板的方向上。有机发光元件313本身发出的光符合朗伯分布,在90°方向上的辐射强度为1.3W/Sr。图13(b)为实施例三仿真实验光探测器所接收到的光通量角度分布图,图中横坐标为角度(°),纵坐标为辐射强度(W/Sr),由图13(b)可知,光探测器10探测到的光在90°方向上的辐射强度为2.1W/Sr,大于有机发光元件313本身发出的光在90°方向上的辐射强度,说明此结构可以让有机发光元件313发出的光通过折射透出有机发光面板,并将透出的光聚集到垂直面板的方向上,且在仿真条件下,实施例三的有机发光显示面板的结构比实施例一对光能量的利用率更高。
在实施例三的另一种实施方式中,将遮光层321制作成棱锥台体形,参考图14,图14为本发明实施例三另一种实施方式提供的有机发光显示面板结构的截面示意图,其中遮光层321的截面形状为梯形。图15为遮光层321的形状示意图,所述遮光层321的形状为棱锥台体形。遮光层321靠近盖板的一侧为底面,底面面积较大,以遮盖盖板的遮光区325,遮光层321远离盖板的一侧为顶面,所述顶面面积比所述底面面积小,但对于顶面的面积大小并没有严格的限定,在遮光层321的顶面朝向阵列基板的一侧设置反射层322,反射层朝向阵列基板的一侧也设置有上微棱镜324,优选地,在盖板的反射层322和上微棱镜324之间,还具有一平坦化层,平坦化层可以改善遮光层321和反射层322造成的盖板表面的凹凸不平,使得更易于在盖板面对阵列基板的一侧形成上微棱镜324,并使得形成的上微棱镜324更加均匀。。本实施方式中由于遮光层321为棱锥台体形,边缘遮挡的光线更少,可以提高有机发光显示面板 的出光率。对本实施方式的有机发光显示面板的显示效果进行模拟仿真,与实施例三的第一种实施方式的仿真方式相同。
光探测器10探测到的光能量为2.3596W,也就是透出该有机发光显示面板的光能量为2.3596W,2.3596W/5W=0.47192,因而实施例三的另一种实施方式的有机发光显示面板对光的利用率为47.192%。
图16(a)为实施例三的另一种实施方式的仿真实验光探测器所接收到的光能量角度分布图,半径坐标为光能量(W),角坐标为角度(°),由图16(a)可知,光探测器10探测到的光能量大部分分布在90°方向上,也就是垂直有机发光显示面板的方向上。有机发光元件313本身发出的光符合朗伯分布,在90°方向上的辐射强度为1.3W/Sr。图16(b)为实施例三的另一种实施方式的仿真实验光探测器所接收到的光通量角度分布图,图中横坐标为角度(°),纵坐标为辐射强度(W/Sr),由图16(b)可知,光探测器10探测到的光在90°方向上的辐射强度为2.1W/Sr,大于有机发光元件313本身发出的光在90°方向上的辐射强度,说明此结构可以让有机发光元件313发出的光通过折射透出有机发光面板,并将透出的光聚集到垂直面板的方向上,且在仿真条件下,实施例三的另一种实施方式的有机发光显示面板的结构比实施例三的第一种实施方式对光能量的利用率更高。
实施例四
本发明实施例提供的有机发光显示面板中的有机发光元件可以采用发彩色光的有机发光元件,也可以采用发白色光的有机发光元件,实施例四提供一种采用发白色光的有机发光元件的有机发光显示面板。实施例四提供的采用发白色光的有机发光元件的有机发光显示面板的结构与其他实施例相同,区别在于,当采用发白色光的有机发光元件时,需要在有机发光显示面板的盖板上设置彩膜。图17为实施例四的有机发光显示面板的俯视示意图,参考图17,彩膜至少设置在盖板的透光区426围绕遮光区425的区域426R、426G、426B, 可以在区域426R设置红色彩膜,在区域426G设置绿色彩膜,在区域426B设置蓝色彩膜,由于遮光区425不透光,因而也可以在遮光区425设置彩膜,不会影响显示效果。盖板上的其余部件包括上微棱镜、反射层应当设置在彩膜上靠近阵列基板的一侧,遮光层可以设置在彩膜上靠近阵列基板的一侧,也可以设置在彩膜上远离阵列基板的一侧。
实施例五
本发明实施例五提供了一种有机发光显示面板的制造方法,参考图18,所述有机发光显示面板的制造方法包括以下步骤:
步骤S1:提供一阵列基板,所述阵列基板具有像素发光区和像素间隔区,所述像素发光区设置有下微棱镜。
步骤S2:提供一盖板,所述盖板具有遮光区与透光区,至少在所述透光区设置有上微棱镜。
步骤S3:将所述阵列基板与所述盖板在介质气氛中相对贴合,或在阵列基板与盖板中任一上铺上介质,然后将所述阵列基板与所述盖板相对贴合,贴合时所述像素发光区与所述遮光区对应,所述像素间隔区与所述透光区对应。
由于步骤S1与步骤S2是两个相互独立的步骤,因此也可以先进行步骤S2,然后再进行步骤S1,或者步骤S1与步骤S2同时进行。
具体地,步骤S1提供一阵列基板包括以下步骤:
步骤S1.1:提供一第一基板,所述第一基板通常选用透明玻璃基板,也可以采用树脂基板或者柔性基板。
步骤S1.2:在所述第一基板上设定像素发光区和像素间隔区,即将第一基板划分一定的区域用于后续形成不同的部件。
步骤S1.3:在所述像素间隔区形成像素定义层,通过在基板上形成像素定义层并对其图案化,仅在像素间隔区保留像素定义层。
像素定义层可以采用遮光且抗反射的材料,例如黑矩阵材料等。
像素定义层还可以制作成多层结构,当像素定义层具有至少两层的结构时,最靠近盖板的那一层可以采用抗反射的材料,所述至少两层中的任意一层或多层可以采用遮光材料。
步骤S1.4:在所述像素发光区内形成有机发光元件,首先在像素发光区形成阳极层,阳极层通常采用金属材料,然后在阳极层上形成有机发光层,最后在有机发光层上形成阴极层,阴极层通常采用透明导电材料,如氧化铟锡(ITO)等,阴极层通常会覆盖像素发光区以及像素间隔区。
优选地,对阴极层进行图案化,全部或者部分地去除像素间隔区的阴极层。
步骤S1.5:在所述像素发光区内形成下微棱镜,所述下微棱镜覆盖在所述有机发光元件上。下微棱镜使用透明材料,可以使用有机材料、无机材料或者有机无机混合材料等。作为有机材料,一般可以使用树脂材料,特别是紫外线固化树脂、电子束固化树脂电离辐射可固化树脂、热固性树脂、热塑性树脂或类似物等,可以采用光刻法,或者使用紫外固化树脂微接触印刷法等形成下微棱镜。优选地,下微棱镜布满整个像素发光区。
具体地,提供一盖板包括以下步骤:
步骤S2.1:提供一第二基板,所述第二基板通常选用透明玻璃基板,也可以采用树脂基板或者柔性基板。
步骤S2.2:在所述第二基板上设定遮光区和透光区,即将第二基板划分一定的区域用于后续形成不同的部件。
步骤S2.3:在所述遮光区形成遮光层,遮光层可以采用黑矩阵,采用光刻法进行制作。
优选地,遮光层的形状制作成棱锥台体形,遮光层靠近透明盖板的一侧为底面,底面面积较大,以遮盖盖板的预定遮光区,遮光层远离盖板的一侧为顶面,所述顶面面积比所述底面面积小,但对于顶面的面积大小并没有严格的限定。
步骤S2.4:至少在所述盖板的透光区形成上微棱镜,上微棱镜使用透明材 料,可以使用有机材料、无机材料或者有机无机混合材料等。作为有机材料,一般可以使用树脂材料,特别是紫外线固化树脂、电子束固化树脂电离辐射可固化树脂、热固性树脂、热塑性树脂或类似物等,可以采用光刻法,或者使用紫外固化树脂微接触印刷法等形成上微棱镜;上微棱镜最好布满整个预定透光区,优选地,在透明盖板的预定透光区和遮光区均形成上微棱镜。
优选地,在步骤S2.4在所述第二基板上设置上微棱镜之前,还包括在在所述第二基板上的遮光层与所述阵列基板相对的内表面设置反射层的步骤,反射层可以使用金属材料。