CN104146441A - 一种鞋底粘接前处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种鞋底粘接前处理方法,首首先通入臭氧,并利用UVC灯管产生波段为254nm和185nm的紫外光a,照射在大底和中底的粘接面上,以去除大底和中底的粘接面上的有机污物,然后清洗大底和中底,接着用UV灯管产生波段为185nm的紫外光b对大底和中底的粘接面进行蚀刻,使粘接面***糙,再用红外线烘干大底和中底,最后在大底和中底的粘接面上涂覆胶水,以完成上胶。采用紫外光a和紫外光b作用大底和中底粘接面,发生光敏氧化反应,不仅可以有效去除大底和中底粘接面上的有机污物,而且还能够提高大底和中底粘接面的浸润性和粘合强度,具有环保、节能和高效的特点,避免了用化学试剂直接腐蚀粘接面而产生对人体有害的VOC,改善鞋子生产环境。
Description
【技术领域】
本发明涉及鞋子生产工艺,尤其是一种鞋底粘接前处理方法。
【背景技术】
鞋底包括大底、中底和内底,目前,制鞋行业中的鞋底所用的材料有橡胶、EVA和人造革、皮革等材料,其表面为惰性材料,在上胶粘接前,都需要将大底和中底用处理剂进行表面处理,才能达到一定的接合强度,通常采用化学腐蚀法和化学接枝法对其进行表面处理。
用橡胶材料作为鞋底的鞋子,现有技术中的粘接方法是:对橡胶鞋底用依次用碱性液体进行清洗,用酸性液体中和清洗,用清水漂洗,接着烘干橡胶鞋底,人工涂刷橡胶处理剂进行化学腐蚀,再烘干,最后进行上胶粘接。该橡胶处理剂主要成分为添加有机溶剂的合成树脂。
用EVA材料作为鞋底的鞋子,现有技术中的粘接方法是:对EVA鞋底依次用碱性液体进行清洗,用酸性液体中和清洗,用清水漂洗,接着烘干EVA鞋底,人工涂刷EVA处理剂,以腐蚀EVA鞋底产生粗糙粘接面。该EVA处理剂主要成分为丁酮、环己酮和碳酸甲基脂的混合物。
采用上述粘接方法有以下缺点:
第一,排放大量的VOC和工业废水;
第二,工序繁杂,需要工人在鞋底表面涂覆试剂,人工成本高;
第三,耗能大、占用厂房空间多,致使生产成本高;
第四,VOC排放高,毒性强,严重影响现场工人的身体健康。
本发明即针对上述问题的不足而研究提出。
【发明内容】
本发明要解决的技术问题是提供一种鞋底粘接前处理方法,首先通入臭氧,并利用UVC灯管产生波段为254nm和185nm的紫外光a,照射在大底和中底的粘接面上,以去除大底和中底的粘接面上的有机污物,然后清洗大底和中底,接着用UV灯管产生波段为185nm的紫外光b对大底和中底的粘接面进行蚀刻,使粘接面***糙,再用红外线烘干大底和中底,最后在大底和中底的粘接面上涂覆胶水,以完成上胶。采用紫外光a和紫外光b作用大底和中底粘接面,发生光敏氧化反应,不仅可以有效去除大底和中底粘接面上的有机污物,而且还能够提高大底和中底粘接面的浸润性和粘合强度,具有环保、节能和高效的特点,避免了用化学试剂直接腐蚀粘接面而产生对人体有害的VOC,改善鞋子生产环境。
为解决上述技术问题,本发明一种鞋底粘接前处理方法,所述鞋底包括大底和中底,其特征在于依次包括如下步骤:
A、通入臭氧和用紫外光a对大底和中底的粘接面进行照射,使大底和中底上的有机污物被氧化,以去除大底和中底上的有机污物;
B、清洗由A步骤所得的大底和中底;
C、通入臭氧和用紫外光b照射大底和中底的粘接表面,以蚀刻大底和中底的粘接表面;
D、烘干由C步骤所得的大底和中底;
E、对D步骤所得的大底和中底的粘接面涂覆粘接胶水,以完成上胶。
所述A步骤中紫外光a波段为254nm和185nm,由VUC灯管产生。
所述B步骤通过超声波或者低温等离子进行清洗。
所述C步骤中紫外光b波段为185nm,由UV灯管产生。
所述D步骤中通过红外烤箱进行烘干。
本发明一种鞋底粘接前处理方法,首先通入臭氧,并利用UVC灯管产生波段为254nm和185nm的紫外光a,照射在大底和中底的粘接面上,以去除大底和中底的粘接面上的有机污物,然后清洗大底和中底,接着用UV灯管产生波段为185nm的紫外光b对大底和中底的粘接面进行蚀刻,使粘接面***糙,再用红外线烘干大底和中底,最后在大底和中底的粘接面上涂覆胶水,以完成上胶。采用紫外光a和紫外光b作用大底和中底粘接面,发生光敏氧化反应,不仅可以有效去除大底和中底粘接面上的有机污物,而且还能够提高大底和中底粘接面的浸润性和粘合强度,具有环保、节能和高效的特点,避免了用化学试剂直接腐蚀粘接面而产生对人体有害的VOC,改善鞋子生产环境。
【附图说明】
图1为本发明实施的示意图。
【具体实施方式】
下面对本发明的实施方式作详细说明。
本发明一种鞋底粘接前处理方法,所述鞋底包括大底和中底,其特征在于依次包括如下步骤:
A、通入臭氧和用紫外光a对大底和中底的粘接面进行照射,使大底和中底上的有机污物被氧化,以去除大底和中底上的有机污物,紫外光a VUC灯管发出,波段为254nm和185nm,紫外光a可以直接打开或切断有机污物分子中的共价键,使有机污物由大分子结构变为小分子结构,同时波段为185nm的光能量将空气中的O2合成O3,而波段为254nm的光能量又将O3分解为O2和游离态的活性氧O,在这个光敏氧化反应的过程中,有机污物分子中被破坏的共价键与游离态的活性氧O反应,并生成相应的CO2和H2O,从而达到去除大底和中底上的有机污物,使之清洁;波段为185nm紫外光与空气作用可产生有强氧化作用的臭氧,可有效地杀灭细菌,且臭氧能够吸收99%以上的紫外光,波段为254nm的紫外光则具有高效的杀菌能力,可以有效去除有机污物;
B、清洗由A步骤所得的大底和中底,经过A步骤的处理,大底和中底上的有机污物被O3氧化,此时需要将残留物质进一步清理,可选用超声波或者低温等离子进行清洗,当选用超声波进行清洗时,可加入专用的清洗剂对大底和中底进行清洗;
C、通入臭氧和用紫外光b照射大底和中底的粘接表面,以蚀刻大底和中底的粘接表面,使其粘接面被蚀刻而***糙,紫外光b由UV灯管发出,波段为185nm,可对大底和中底的粘接面进行蚀刻,当粘接面因蚀刻而***糙,使得大底和中底粘接时具有更好的浸润性和粘合强度;
D、烘干由C步骤所得的大底和中底,即通过红外加热烘干大底和中底上水分;
E、对D步骤所得的大底和中底的粘接面涂覆粘接胶水,以完成上胶。
图1为本发明实施的示意图,包括第一输送轨道1和第二输送轨道2,所述第一输送轨道1和第二输送轨道2之间设有清洗装置3,清洗装置3可以选用超声波清洗或者低温等离子进行清洗,所述第一输送轨道1和第二输送轨道2上方均设有罩壳4,所述罩壳4上设有臭氧进气口5和臭氧出气口6,以及连通臭氧进气口5和臭氧出气口6的臭氧腔室7,所述罩壳4上还设有用于产生紫外光以照射大底和中底的灯管8,位于第一输送轨道1上的灯管8为UVC灯管,位于第二输送轨道2上的灯管8为UV灯管,所述第二输送轨道2末端设有红外干燥装置9,以对完成蚀刻的大底和中底进行烘干。
大底和中底输随第一输送轨道1输送至其上的罩壳4内,罩壳4上的臭氧出气口6喷出臭氧,同时UVC灯管发出波段为254nm和185nm的紫外光a,并照射在大底和中底的粘接表面,紫外光a破坏有机污物的共价键,臭氧则与之反应,生成相应的CO2和H2O,从而达到去除大底和中底上的有机污物;接着利用超声波将大底和中底放入清洗池中,对粘接面进行清洗;完成清洗后再由输送轨道2将大底和中底输送至输送轨道2上的罩壳4内,在该罩壳4内,臭氧出气口6喷出臭氧,同时UV灯管发出波段为185nm的紫外光b,照射在大底和中底的粘接面上,使其被蚀刻粗糙、凹凸不平,满足大底和中底粘接时具有更好的浸润性和粘合强度;再者,第二输送轨道2将完成蚀刻的大底和中底输送到红外干燥装置9中,将其表面上的水分进行烘干,避免影响大底和中底上胶后相互粘接的效果。
本发明利用光敏氧化反应,可对包括采用橡胶、EVA、人造皮、皮革等材料为鞋底进行表面清洁处理,再利用短波紫外光能量对大底和中底的粘接面进行蚀刻。与现有技术相比,本发明具有以下优点:
1、成本低,避免使用各种表面处理剂和降低能耗以及减少人工,现有技术中需要的处理剂价格高,且用量大,因此本发明显著降低制鞋成本;
2、环保安全,避免使用由各种有机溶剂为组分的表面处理剂,显著降低了制鞋企业的VOC排放,杜绝了其中的有机溶剂挥发气体对工人健康的伤害,改善了制鞋企业工人的工作环境。
3、效率高,减少了采用大量人工的工序,提高了制鞋企业的自动化水平和劳动效率。
Claims (5)
1.一种鞋底粘接前处理方法,所述鞋底包括大底和中底,其特征在于依次包括如下步骤:
A、通入臭氧和用紫外光a对大底和中底的粘接面进行照射,使大底和中底上的有机污物被氧化,以去除大底和中底上的有机污物;
B、清洗由A步骤所得的大底和中底;
C、通入臭氧和用紫外光b照射大底和中底的粘接表面,以蚀刻大底和中底的粘接表面;
D、烘干由C步骤所得的大底和中底;
E、对D步骤所得的大底和中底的粘接面涂覆粘接胶水,以完成上胶。
2.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法,其特征在于所述A步骤中紫外光a波段为254nm和185nm,由VUC灯管产生。
3.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法,其特征在于所述B步骤通过超声波或者低温等离子进行清洗。
4.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法,其特征在于所述C步骤中紫外光b波段为185nm,由UV灯管产生。
5.按权利要求1所述一种鞋底粘接前处理方法,其特征在于所述D步骤中通过红外烤箱进行烘干。
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