CN104101273A - 一种基于水下***技术的新型排爆装置 - Google Patents

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刘建湖
郝轶
毛海斌
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702th Research Institute of CSIC
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702th Research Institute of CSIC
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Abstract

一种基于水下***技术的新型排爆装置,包括水仓和后盖;水仓为底部密封、顶部开口的正方形水槽;水仓的底部为正方形,底部沿着正方形相对的两条边的中线向内凹进去,形成一个柱形楔角;后盖的形状与所述水仓的顶部开口形状相同,且密封住所述水仓的顶部开口;后盖朝向水仓的那个面上粘结有中空柱状接头;接头的底部粘结有主装药,所述主装药由左翼、右翼和平台组成;左翼和右翼为具有厚度的板状体,左翼和右翼连接起来,组成一个夹角;左翼和右翼分别与水仓底部内凹的柱形楔角的两个表面平行,且夹角与所述楔角的角度相同;平台位于所述左翼和右翼连接处,且位于接头的柱状中空内。本发明结构简单轻便,切割效果好,应用范围广。

Description

一种基于水下***技术的新型排爆装置
技术领域
本发明涉及排爆技术领域,尤其是涉及一种用于拆除、销毁易爆危险物品的新型排爆装置。
背景技术
近年来国际国内形势日趋复杂,局部战争和恐怖袭击事件层出不穷,出现了各类新型自制***,对现有的排爆技术提出了新的挑战,此外无论是国内还是国外,恐怖***组织采用自制***制造恐怖犯罪的事件越来越多,由于自制***原材料简单易得和制作工艺的日趋精细简单,自制***呈现***感度高,起爆容易等特性,使得排爆单位在利用现有的***物销毁器处置***物时,发生了多起***物被致爆的事故,造成了一些平民、干警伤亡和有效物证线索丢失等严重后果,给世界各国人民造成了巨大的经济损伤。
为了应对上述挑战,国内外开发了一系列的排爆装置如纯水/水磨切割机、水炮枪等,纯水/水磨切割机是利用高压水泵增压后产生的高压水流(40~50MPa)通过极细的喷嘴喷出(纯水与水磨的区别为水流中添加了金刚砂等硬质微粒)。该装置加工应力小,但存在着较大局限,装置较重较难全面部署,适应面较窄,无法较好应对突发事件以及排除不能移动的危险物品。
水炮枪是一种通过黑火药底火***产生高压驱动枪管内水柱,利用产生的高速水柱摧毁危险品的一种装置,其可有效的对信件邮包***进行摧毁而不会引起***。由于水炮枪发射出的高压水流是由黑火药底火产生的,速度和压力不快,无法应对具有较厚外壳的危险物品。
水压***物销毁器是一种利用较大质量的后水仓将***能量反射至前水仓上,并使得前水仓的水形成定向高速水流冲击并击碎目标物,以达到排爆的目的,该装置较水炮***构更为简单,但其仍存在着一定的缺陷,主要是其高速水流分散性较大,作用面积大,较难摧毁硬质外壳危险物品如战争遗留弹药等。
发明内容
针对现有技术存在的上述问题,本申请人提供了一种基于水下***技术的新型排爆装置。本发明结构简单轻便,切割效果好,应用范围广。
本发明的技术方案如下:
一种基于水下***技术的新型排爆装置,包括水仓和后盖;所述水仓为底部密封、顶部开口的正方形水槽;所述水仓的底部为正方形,所述底部沿着正方形相对的两条边的中线向内凹进去,形成一个以所述中线为顶边的柱形楔角;
      所述后盖的形状与所述水仓的顶部开口形状相同,且密封住所述水仓的顶部开口;所述后盖朝向水仓的那个面上粘结有中空柱状接头,所述柱状接头的外表面垂直于所述后盖;
      所述接头的底部粘结有主装药,所述主装药由左翼、右翼和平台组成;所述左翼和右翼为具有厚度的板状体,所述左翼和右翼连接起来,组成一个夹角;所述左翼和右翼分别与水仓底部内凹的柱形楔角的两个表面平行,且所述夹角与所述楔角的角度相同;所述平台位于所述左翼和右翼连接处,且位于所述接头的柱状中空内。
所述后盖上开有注水孔。所述水仓的侧边上安装有吊环。所述后盖与水仓方向相反的那个面上安装有起爆装置定位环,所述定位环为中空柱状,其中空部分与所述接头的中空部分联通,且位于所述主装药平台的正上方。
本发明有益的技术效果在于:
本发明的工作原理如下:主装药起爆后,爆轰波在***中传播,由于主装药特有的线型聚能装药形式,使得主装药爆轰的大部分能量向***下方的水中聚集,并将水向主装药楔形对称面的方向加速;这些高速水流在对称面上汇聚形成类似刀锋的高速运动水流,待切割的危险品或装置在高速水流的作用下,被切开的同时破坏其中的起爆装置和***,以达到安全排爆的作用。
本发明与传统的排爆装置相比,具有以下独特优点:
(1)轻便、便于装备,本发明装置在工作状态下只有不到300g的重量与现有的排爆装置动辄几十甚至几百公斤的重量相比有着明显的优势;
(2)切割范围调整方便、适应性广,可以通过改变装置距待切割物的距离来调节切割范围和击穿厚度,无需调节***的爆速和装药形式等参数,容易实现;
(3)温度低、附带损伤小。本发明装置切割介质为高速、质量集中的水流,可以在不引爆危险物品的情况下,切开硬质外壳的危险物从而达到排爆的目的,并能较为完整的保留危险物品以保留犯罪证据或研究使用;
(4)用途广,本发明装置产生的高速水流质量集中,作用面小,切割能力强,不仅可以排爆,而且能够应用于金属结构的切割和拆除。
本发明采用的工作原理使得本装置产生的水流较水压***物销毁器更为高速(经试验观测水流速度可高达到2500m/s),并且刀锋状的水流作用面更小,使之能够切开各种硬质外壳的危险物品如战争遗留弹药等。由于本发明产生的高速水流有着较好的切割能力,使之可以适用于金属结构的切割和拆除。
附图说明
图1为本发明排爆装置外部立体视图;
图2为本发明排爆装置内部结构图;
图3 为本发明排爆装置工作原理图。
具体实施方式
下面结合附图,对本发明进行具体描述。
由图1和图2所示,本排爆装置包括水仓1和后盖3;水仓1为底部密封、顶部开口的正方形水槽;水仓1的底部为正方形,底部沿着正方形相对的两条边的中线向内凹进去,形成一个以中线为顶边的三角柱形楔角9。水仓1为有机玻璃通过热弯成型和粘结工艺制成,在水仓1四周利用粘结将四个吊环2固定,以方便悬挂使用。
后盖3的形状与水仓1的顶部开口方向相同,且密封住水仓1的顶部开口;后盖3朝向水仓1的那个面上粘结有中空柱状接头7,柱状接头7的外表面垂直于后盖3。后盖3由有机玻璃板切割成型,接头7由有机玻璃通过机加工制成,两者通过粘结组装。
接头7的底部粘结有主装药6,主装药6由左翼、右翼和平台8组成;左翼和右翼为具有一定厚度(例如5~10mm,可优选8mm)的板状体,左翼和右翼连接起来,并形成一个夹角,该夹角与楔角9的角度(例如120~150°,可优选120°)相同;左翼和右翼分别与水仓1底部内凹的三角柱形的两个表面平行,平台8位于左翼和右翼连接处,且位于接头7的中空的柱状内部。平台8是扩爆药放置平台,接头7的中空部分是安装起爆装置的。
接头7下部具有与主装药6的左翼和右翼的倾斜角度一致的斜面,主装药6通过特有粘结剂粘结在接头7的下部的该斜面上。主装药6成分为20%梯恩梯与80%钝化黑索金组成,通过将两种装药粉末搅拌混和均匀、压装成型。该主装药配方稳定安全,具有一定的抗冲击能力。主装药应保证设计方案要求的压装密度(例如1.2~1.8g/cm3,可优选1.5 g/cm3),以及设计夹角和厚度。
后盖3上开有注水孔5,可以通过注水孔5向水仓1的内部注水。后盖3与水仓方向相反的那个面上安装有起爆装置定位环4,定位环为中空柱状,其中空部分与接头7的中空部分联通,且位于主装药平台8的正上方,是容纳起爆装置的。
本发明专利的工作原理是:如图3所示,将水通过注水孔5注入药仓1。注满水后封闭注水孔5。在准备工作时,将***和扩爆药通过起爆装置定位环4装入其柱状中空中,并放置在主装药6的平台8上。然后将***引线接入***和扩爆药中(***带有引线,直接可以将引线连接***)。使用扩爆药的原因是为了更好地起爆主装药,并使主装药***更为稳定。
启动***将***起爆,从而引爆主装药,主装药起爆后其产生的爆轰波和爆轰产物将推动主装药6下部与药仓1底部之间的水,由于药仓1与主装药6结构的对称性,水被爆轰波向对称面推动,并在对称面形成类似刀锋形状的高速水流。该水流具有高速、低温、质量集中的特点,可以轻易的切开危险物品外壳破坏内部结构而不会引起***,并能广泛的应用于金属结构的切割和拆除。

Claims (4)

1.一种基于水下***技术的新型排爆装置,其特征在于包括水仓和后盖;所述水仓为底部密封、顶部开口的正方形水槽;所述水仓的底部为正方形,所述底部沿着正方形相对的两条边的中线向内凹进去,形成一个以所述中线为顶边的柱形楔角;
    所述后盖的形状与所述水仓的顶部开口形状相同,且密封住所述水仓的顶部开口;所述后盖朝向水仓的那个面上粘结有中空柱状接头,所述柱状接头的外表面垂直于所述后盖;
    所述接头的底部粘结有主装药,所述主装药由左翼、右翼和平台组成;所述左翼和右翼为具有厚度的板状体,所述左翼和右翼连接起来,组成一个夹角;所述左翼和右翼分别与水仓底部内凹的柱形楔角的两个表面平行,且所述夹角与所述楔角的角度相同;所述平台位于所述左翼和右翼连接处,且位于所述接头的柱状中空内。
2.根据权利要求1所述的基于水下***技术的新型排爆装置,其特征在于所述后盖上开有注水孔。
3.根据权利要求1所述的基于水下***技术的新型排爆装置,其特征在于所述水仓的侧边上安装有吊环。
4.根据权利要求1所述的基于水下***技术的新型排爆装置,其特征在于所述后盖与水仓方向相反的那个面上安装有起爆装置定位环,所述定位环为中空柱状,其中空部分与所述接头的中空部分联通,且位于所述主装药平台的正上方。
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PB01 Publication
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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