CN104094198B - 导电基板及包含其的电子装置 - Google Patents

导电基板及包含其的电子装置 Download PDF

Info

Publication number
CN104094198B
CN104094198B CN201280037884.7A CN201280037884A CN104094198B CN 104094198 B CN104094198 B CN 104094198B CN 201280037884 A CN201280037884 A CN 201280037884A CN 104094198 B CN104094198 B CN 104094198B
Authority
CN
China
Prior art keywords
formula
pixel
conductor wire
display
line width
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201280037884.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN104094198A (zh
Inventor
黄智永
黃仁晳
孙镛久
具范谟
成智玹
金姝延
朴济燮
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Corp
Original Assignee
LG Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chemical Co Ltd filed Critical LG Chemical Co Ltd
Publication of CN104094198A publication Critical patent/CN104094198A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN104094198B publication Critical patent/CN104094198B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F1/00—Details not covered by groups G06F3/00 - G06F13/00 and G06F21/00
    • G06F1/16—Constructional details or arrangements
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/0412—Digitisers structurally integrated in a display
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B5/00—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form
    • H01B5/14—Non-insulated conductors or conductive bodies characterised by their form comprising conductive layers or films on insulating-supports
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00—Printed circuits
    • H05K1/02—Details
    • H05K1/0274—Optical details, e.g. printed circuits comprising integral optical means
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00—Organic light-emitting devices
    • H10K50/80—Constructional details
    • H10K50/805—Electrodes
    • H10K50/81—Anodes
    • H10K50/814—Anodes combined with auxiliary electrodes, e.g. ITO layer combined with metal lines
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/805—Electrodes
    • H10K59/8051—Anodes
    • H10K59/80516—Anodes combined with auxiliary electrodes, e.g. ITO layer combined with metal lines
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04103—Manufacturing, i.e. details related to manufacturing processes specially suited for touch sensitive devices
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F2203/00—Indexing scheme relating to G06F3/00 - G06F3/048
    • G06F2203/041—Indexing scheme relating to G06F3/041 - G06F3/045
    • G06F2203/04112—Electrode mesh in capacitive digitiser: electrode for touch sensing is formed of a mesh of very fine, normally metallic, interconnected lines that are almost invisible to see. This provides a quite large but transparent electrode surface, without need for ITO or similar transparent conductive material

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

本发明涉及一种导电基板，该导电基板包括：透明基板；以及导电图案，其包括形成于该透明基板上的导电线。本发明还涉及包括该导电基板的电子装置。

Description

导电基板及包含其的电子装置
本申请要求于201l年12月23日向韩国专利局提交的第10-2011-0141747号韩国专利申请的优先权，其全部内容通过参考合并于此。
技术领域
本发明涉及一种导电基板及包含其的电子装置。更具体地，本发明涉及一种具有优异导电性且不妨碍观看的导电基板及包含其的电子装置。
背景技术
近年来，随着智能型手机、笔记本式计算机、IPTV（网络电视）等的加速普及，对于无须单独的如键盘或遥控器等输入装置而是以人手直接成为输入装置的触控功能的需求逐渐增加。而且，除特定点触控功能外，对于可写入的多点触控功能也额外地存在需求。
具有这些功能的触控面板可根据信号检测方式而分类如下。
即，该触控面板分为电阻式、电容式及电磁式，其中电阻式是在施加直流电压时通过电流或电压的变化来检测施压位置，电容式是在施加交流电压的状态下利用电容耦合，而电磁式是在施加磁场的状态下在电压变化时检测所选位置。
上述的这些类型中，最广泛的电阻式及电容式触控面板是通过使用透明导电膜(如ITO薄膜)，根据电子触控或电容变化而识别有无触控。然而，大多数透明导电膜具有150ohm/平方以上的高电阻，且当尺寸增加时，灵敏度劣化。此外，当屏幕尺寸增加时，IT0薄膜的成本急剧增加，从而不易商品化。为解决此问题，正在试图通过使用具有高导电性的金属图案实现大尺寸。然而，在具有高导电性的金属图案的情况下，其有妨碍观看的问题。
发明内容
如上所述，本发明是通过硏究当使用金属图案构成的导电基板时防止妨碍观看的方案而完成的。
本发明的一个实施例提供了一种导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中所述导电图案包括由所述导电线封闭的栅格，
用所述栅格的面积的0.5次方的值来定义所述栅格的特征长度(Lc)，并且
当通过设定所述栅格的平均特征长度(Lcav)为X轴及设定所述导电线的线宽(W)为Y轴以图示出表示下式1的曲线1及表示下式2的曲线2时，所述导电线的线宽(W)及所述栅格的平均特征长度(Lcav)包括在所述曲线1的较低区域及所述曲线2的较低区域的交叉区域中：
[式1]
W=[(1/AR0.5)-1]Lcav
[式2]
W=13exp(-0.0052Lcav)+α
在式1及式2中，W为所述导电线的线宽，Lcav为由所述导电线封闭的栅格的平均特征长度，AR为所述导电图案的开口率，以及α为常数。
本发明的另一实施例提供了一种导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中所述导电图案包括由所述导电线封闭的栅格，
用所述栅格的面积的0.5次方的值来定义的所述栅格的特征长度(Lc)满足下式3：
[式3]
Y1/n≤Lc≤2Y2
在式3中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，并且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1=(2.9Q+68.1)x1μm/l英寸
Y2=(13.3Q+98.1)x1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
本发明的另一实施例提供了一种导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中所述导电图案包括由所述导电线封闭的栅格，
用所述栅格的面积的0.5次方的值来定义的所述栅格的特征长度(Lc)满足下式4：
[式4]
Lp/n≤Lc≤2Lp
在式4中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度。
本发明的另一实施例提供了一导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中，所述导电线的线宽(W)满足下式6：
[式6]
0.03Y3≥W
在式6中，W为所述导电线的线宽，Y3为在Y1≤Y3≤Y2的范围内的实数，且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1=(2.9Q+68.1)x1μm/l英寸
Y2=(13.3Q+98.1)x1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
本发明的另一实施例提供了一种导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中，所述导电线的线宽(W)满足下式7：
[式7]
0.03Lp≥W
在式7中，W为所述导电线的线宽，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度。
本发明的另一实施例提供了一种导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中，所述导电线的线宽(W)满足下式9：
[式9]
3Y3/(100×101/2)≥W
在式9中，W为所述导电线的线宽，Y3为在Y1≤Y3≤Y2的范围内的实数(μm)，且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1=(2.9Q+68.1)x1μm/l英寸
Y2=(13.3Q+98.1)x1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
另外，本发明的另一实施例提供了一种导电板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中，所述导电线的线宽(W)满足下式10：
[式10]
3Lp/(100×101/2)≥W
在式10中，W为所述导电线的线宽，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度(μm)。
此外，本发明的另一实施例提供了一种导电基板，包括：
透明基板和包括设置于所述透明基板上的导电线的导电图案，
其中，所述导电线的线宽(W)满足下式12，且大于0至3.6μm或以下：
[式12]
Wv=W×Rm
在式12中，W为所述导电线的线宽，Rm为构造所述导电图案的导电线材料的反射率。
另外，本发明的另一实施例提供了一种电子装置，其包括所述导电基板。
此外，本发明的另一实施例提供了一种显示装置，其包括所述导电基板。
根据本发明，在使用由导电线封闭的栅格的平均特征长度及导电线的线宽之间的相关性的情况下，可提供一种具有优异的导电性且不妨碍观看的导电基板。据此，该导电基板可用于对于观看的确保比较重要的电子装置中，如触控面板或者OLED照明。
此外，根据本发明，由于根据显示器的像素的间距可得自该显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)，因此可得到根据金属网格图案的像素的间距及线宽，通过控制该金属网格图案的线宽、问距等以及该显示器的像素间距等，可更有效地提高该导电图案的观看特性。
附图说明
图1图示了由式1及式2的曲线所定义的导电线的线宽(W)及由该导电线封闭的栅格的平均特征长度的可允许区域，本发明中根据开口率定义式1及式2。
图2为图示根据本发明实施例的显示器的像素及亚像素的示意图。
图3为图示根据本发明实施例的显示器中的像素间距与有效屏幕部分的对角线长度(英寸)之间的相关性。
图4为示例性地图示了根据本发明实施例的显示器中的像素的混合颜色的非均匀性的示意图。
图5为图示了根据本发明实施例的显示器被金属网格图案所覆盖的区域的示意图。
图6及图7图示了根据本发明的形成触控面板的导电图案的过程。
图8及图9图示了本发明实施例及比较例的导电图案的示意图。
图10图示了根据本发明实施例的用来测量亮室中的反射率的装置的构造及配置的示意图。
图11图示了根据本发明实施例的可视线宽的相关性的示意图。
图12图示了根据本发明实施例的每度视角周期(cycle per degree，CPD)的定义的示意图。
图13图示了根据本发明实施例的基于CPD的可视功能的示意图。
具体实施方式
以下，将详细描述本发明。
根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，
其中，该导电图案包括由该导电线封闭的栅格，
用该栅格的面积的0.5次方的值来定义该栅格的特征长度(Lc)，并且
当通过设定所述栅格的平均特征长度(Lcav)为X轴及设定所述导电线的线宽(W)为Y轴以图示出表示下式1的曲线1及表示下式2的曲线2时，所述导电线的线宽(W)及所述栅格的平均特征长度(Lcav)包括在所述曲线1的较低区域及所述曲线2的较低区域的交叉区域中。
[式1]
W=[(1/AR0.5)-1]Lcav
[式2]
W=13exp(-0.0052Lcav)+α
在式1及式2中，W为所述导电线的线宽，Lcav为由所述导电线封闭的栅格的平均特征长度，AR为所述导电图案的开口率，以及α为常数。
在现有技术中，当导电图案使用于电子装置中时，通常使用具有如条状或网格状的简单形状的图案，但最近尝试在电子装置中使用的一种导电基板所使用的导电图案具有各种形状以避免波纹(moire)等。
然而，当导电图案的形状不同时，在如触控面板等在很大程度上要求确保观看的使用中，无法找到用以降低导电图案的可视度的参照。
而且，在无限增加导电图案的开口率或无限降低导电线的线宽的情况下，会产生因制造技术导致的难以达到这样的尺寸的问题，成本也会大幅增加，并且无法满足相应装置所需的其它物理性能，例如导电性。
本发明是基于发现如下事实而得出的：导电图案的可视性并不简单地依赖于一种或两种条件，如开口率或导电线宽度，而是依赖多种条件，如导电图案的形状、尺寸及开口率，以及导电线的线宽及线的间距。因此，如果该导电图案包括由导电线封闭而成的栅格，本发明可提供不论导电图案的形状如何，均可通过将开口率或导电线的线宽控制于预定范围中，从而不妨碍观看的导电图案。
在本发明中，该栅格的面积的0.5次方的值定义为该由导电线封闭的栅格的特征长度(Lc)。通过定义如上所述的该特征长度，只要该导电图案包括该由导电线封闭的栅格，无论导电图案的形状如何，可得到用于构造不妨碍观看的导电图案的条件。该栅格的特征长度、以及影响导电图案可视度的导电线的间距可成为该导电图案的形状及尺寸的指标。
在本发明中，下式1为根据开口率的栅格的特征长度和导电线的线宽之间的公式。
[式1]
W=[(1/AR0.5)-1]Lcav
同时，在本发明中，除了式1的条件外，作为决定可视度的方程，得出表示栅格的特征长度及导电线的线宽之间的关系的式2。
[式2]
W=13exp(-0.0052Lcav)+α
在本发明中，通过满足式1的曲线的较低区域的条件及式2的曲线的较低区域的条件，可明确地确保该导电图案的可视度。
在式2中，α为根据制造材料或条件所决定的常数，一般可确定为0至2的实数，且可以例如为2。
图1图示了由式1及式2的曲线所定义的导电线的线宽(W)及由该导电线封闭的栅格的平均特征长度的可允许区域，本发明中根据开口率定义式1及式2。通过在图1所示的两曲线的较低重叠区域中决定该导电线的线宽(W)及该由导电线封闭的栅格的平均特征长度(Lcav)，可提供不妨碍观看的导电基板。
只要满足前述式1及式2的条件，该导电基板就包含于本发明的范畴中，但下文将描述较佳的条件。
在本发明中，使用者将根据显示器的有效屏幕部分的对角线(英寸)来定义金属网格的线宽及间距之间的关系，以当通过细微金属网格线构成使用于该显示器的触控面板时，遮蔽由金属制成的触控面板的金属线，并保持显示器的与构成该金属的材料的反射率有关的性能。
在使用现有的金属网格图案的触控面板的情况中，作为配置使用该金属网格图案的触控面板的最重要的因素，通过细化该金属网格图案的线宽以减少线的可视度的技术常被使用。然而，在线宽细化技术的情况中，除了减少线宽以外，当线的可视度随着对应于构成该金属图案的线间距离的间距而变化时，需要为变化的可视度选择适当的间距。此外，当间距的尺寸具有与如波纹或透光率等光学特性相关时，在使用金属图案制造触控面板时，会破坏由制造商设计的自由程度。
为了克服上述缺点，在本发明中，是先设定根据该显示器有效屏幕部分的对角线长度的适当间距。接着，为了解决可能发生于现有发明中的对应该间距的线的可视度问题，通过控制金属反射率而改变线的可视度，从而最小化间距及线宽间的相关性。而且因此，当制造该触控面板时，可向使用者建议在波纹或透光度下最大限度遮蔽线及自由设定间距的方法。
一般而言，在显示器中，像素的尺寸是根据人观察该显示器的距离而定义的。在这种情况下，像素是指由R/G/B组成的亚像素组合，且由于大多数的像素形状接近方形，该像素的间距是指该像素的尺寸。目前，根据使用距离，在手机的情况中，使用于显示器中的像素通常具有约75μm的像素尺寸，在如平板或笔记本式计算机及监视器等模块的情况中约为150μm；以及在TV模块的情况中约为200μm。以下，图2是显示根据本发明实施例的显示器的像素及亚像素。
如上所述，在显示器中，像素的间距一般是根据使用显示器的使用者的平均距离而定义。例如，在LCD中，由于假设该显示器的像素间距一般具有方形，该显示器的像素间距可通过显示器的规格信息而推知。
首先，通过显示器中显示的每英寸像素(pixel per inch，PPI)推知的像素间距如下所述。
PPI一般意为包含于显示器有效屏幕部分的1英寸对角线长度内的像素数量。因此，假设在该显示器内呈现的PPI为200，由于该情况意为约有200个像素存在于1英寸内，可理解该像素的间距为Ppixel=2.54cm/200=0.0127cm，也就是说，该像素的间距约为127μm。假如没有PPI的信息，PPI可通过设计于分辨率中的数值计算而得，且在信息以如WXGA呈现的情况下，可推知与WXGA对应的1280x800所对应的PPI信息。此外，PPI可通过以各种方法呈现的最大分辨率信息的值推知。作为一个例子，在设计于分辨率中的信息为A×B的情况中，当呈现于对应的显示器的对角线英寸为I时，(A2+B2)1/2相当于位于该显示器的对角线处的像素数目，因此，(A2+B2)1/2/I对应于PPI。也就是说，这种情况下的像素间距可表示为Ppixel=2.54cm×I/(A2+B2)1/2。
综上，像素的间距Ppixel可由下列等式1表示。
[等式1]
Ppixel=2.54cm/PPI=2.54cm(I/(A2+B2)1/2)
在等式1中，
A表示在显示器水平方向的最大分辨率，B表示在显示器垂直方向的最大分辨率。
目前巿面上主要分布的产品是通过使用上述PPI或分辨率来转换产品的像素尺寸的结果来进行检查的。据此，其可验证具有高至77至200μm等级的各种像素间距的显示器主要适用于手机的情况，且具有170至240μm等级的各种像素间距的显示器主要适用于笔记本式计算机的情况，250至300μm则主要适用于监视器的情况，以及230至635μm则主要适用于TV的情况。
基于上述结果，本发明人推导了像素间距与显示器有效屏幕部分对角线长度(英寸)的相关性，且该推导结果显示于图3。
通过根据前述的显示器有效屏幕部分对角线长度的像素间距范围，在本发明中，通过下列分析可定义金属网格图案的像素范围。首先，在金属网格图案设置于显示器上的情况中，由于网格每个像素只定位一个网格线或交点，因此假设该网格图案不旋转的状态为最佳，显示器中的像素的混合颜色保持均匀。当广泛的解释此观点时，虽然其被认为显示器的像素一般是由三个具有长度比约为3：1的亚像素组成，且在OLED的情况中，该像素是在P（pentile）模式下的四个亚像素组成，基本上，在导入前述像素的间距区域的0.25倍或以下的网格图案间距的情况中，可能通过网格图案的线宽或网格图案的交点而发生像素的局部混合颜色的非均匀性(因为经常发生存在像素覆盖的区域)，且因此该网格图案的像素优选设定为该像素的间距的0.25倍或以上。此外，在该金属网格图案间距设定为该像素的间距以上的情况时，当该金属网格图案的间距设定为该像素间距的2倍以上时，因为由金属网格图案的线组件覆盖的像素和未被由线组件覆盖的像素交替呈现为如图4所示，因此可能发生整体混合颜色的非均匀性。
因此，本发明人导入了触控面板的金属网格图案在相应的显示器中需具有的间距。
根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，其中，该导电图案包括由该导电线封闭的栅格，
用该栅格的面积的0.5次方的值来定义的该栅格的特征长度(Lc)可满足下式3：
[式3]
Y1/n≤Lc≤2Y2
在式3中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，并且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1=(2.9Q+68.1)x1μm/l英寸
Y2=(13.3Q+98.1)x1μm/1英寸
其中，Q为使用该导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
此外，根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，
其中，该导电图案包括由该导电线封闭的栅格，
用该栅格的面积的0.5次方的值来定义的该栅格的特征长度(Lc)可满足下式4：
[式4]
Lp/n≤Lc≤2Lp
在式4中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度。
另外，在本发明中，该栅格的特征长度(Lc)可满足下式5：
[式5]
Ppixel1/n≤LC≤2Ppixel2
在式5中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，Ppixel1为使用所述导电基板的显示器的每个像素的短宽度的间距，且Ppixel2为使用所述导电基板的显示器的每个像素的长宽度的间距。
除了提供前述定义的金属网格图案的间距外，重要的部分可为关于该网格图案线宽的部分。一般而言，如图5所示，显示器的像素由三个亚像素所组成，在此情况中，当网格图案的线设置于每一亚像素的对角线时，像素被覆盖得最多，相反，当像素以平行于每一亚像素的短边被覆盖时，像素被覆盖得最少。据此，从该点来看，当该显示器被覆盖时，根据该金属网格图案的线宽，可如下所述地计算开口面积。
如上所述，由于根据该显示器的像素尺寸为Ppixel=2.54cm/PPI=2.54cm(I/(A2+B2)1/2)，相较于在每一情况中在覆盖像素前的开口面积可分别表示为(P2 pixel－P×W)/P2 pixel及(Ppixel－101/2×P×W)2/P2 pixel。在此情况中，通常为了人们不识别该混合颜色，因此开口率的差需要为约3%以内。因此，基于其得出显示器像素间距及触控面板金属网格图案的线宽之间的相关性。
根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，其中，该导电线的线宽(W)满足下式6：
[式6]
0.03Y3≥W
在式6中，W为所述导电线的线宽，Y3为在Y1≤Y3≤Y2的范围内的实数，且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1=(2.9Q+68.1)x1μm/l英寸
Y2=(13.3Q+98.1)x1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
此外，根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，其中，该导电线的线宽(W)满足下式7：
[式7]
0.03Lp≥W
在式7中，W为所述导电线的线宽，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度。
另外，该导电线的线宽(W)可满足下式8：
[式8]
0.03Ppixel≥W
在式8中，W为所述导电线的线宽，Ppixel为使用所述导电基板的显示器的每个像素的间距。
另外，根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，其中，该导电线的线宽(W)可满足下式9：
[式9]
3Y3/(100×101/2)≥W
在式9中，W为所述导电线的线宽，Y3为在Y1≤Y3≤Y2的范围内的实数(μm)，且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1=(2.9Q+68.1)x1μm/l英寸
Y2=(13.3Q+98.1)x1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
此外，根据本发明的导电基板包括透明基板以及包括设置于该透明基板上的导电线的导电图案，其中，该导电线的线宽(W)可满足下式10：
[式10]
3Lp/(100×101/2)≥W
在式10中，W为所述导电线的线宽，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度(μm)。
此外，该导电线的线宽(W)可满足下式11：
[式11]
3Ppixel/(100×101/2)≥W
在式11中，W为所述导电线的线宽，Ppixel为使用所述导电基板的显示器的每个像素的间距。
一般而言，显示器是通过混合R、G、及B三色以显示显示器图像的白色及黑色。从这一点来看，最重要的部分可为关于在黑色状态中金属网格图案的可视度的部分。该金属网格图案在黑色状态中的可视度具有重要性的理由可为，在LCD的例子中，该黑色状态定义为最基本的状态，且即便在屏幕中，在显示器图像质量最重要因素的对比率上，黑色的表现也具有非常重要的效果。由此，构成该金属网格图案的金属线在黑色状态下的可视度可为最重要的因素，且影响该金属线可视度的因素不仅与该金属的物理线宽有非常大的相关性，而且与构成该金属的材料的反射率也有很大的相关性。在本发明中，由这一点来看，不仅包括现有技术中的物理线宽而且包括构成该金属线的材料的反射率的新的可视线宽的概念定义如下。
在本发明中，该导电线的可视线宽(W)满足下式12：
[式12]
Wv=W×Rm
在式12中，W为所述导电线的线宽，Rm为构造所述导电图案的导电线材料的反射率。
从反射率的观点来看，当该显示器的像素间距为Ppixel，该网格图案线宽为W，该网格图案材料的反射率为Rm，且在使用该网格图案的显示器的关闭模式中，该显示面板的亮室反射率为a时，包括该金属网格图案的显示器的总反射率可如下式所示：
Ppixel×W×Rm+(P2 pixel–P×W)×a
在肉眼无法区分的情况下，当[b1/b0-1]的绝对值是b时，具有所述导电图案的显示面板的亮室反射率为b1，未设有导电图案的显示面板的亮室反射率为b0，该公式可总结如下：
(1-b)×a×P2 pixel≤Ppixel×W×Rm+(P2 pixel–P×W)×a≤(1+b)×a×P2 pixel
该公式可概括如下：
a×(W–b×Ppixel)≤W×Rm≤a×(W+b×Ppixel)
在此情况下，由于W×Rm可由式12的可视线宽(Wv)代入且可视线宽的值为0或以上，最终可得到式13如下。
[式13]
0≤a×(W–b×Ppixel)≤Wv≤a×(W+b×Ppixel)
此外，在式13中，由于0≤(W–b×Ppixel)，式13具有b≤W/Ppixel的关系。
在式13中，a可以为0.11或以下，但并不仅限于此。此外，b可以为0.03或以下以及0.115或以下，但不仅限于此。
在本发明中，式13的可视宽度(Wv)可为大于0至3.6μm或以下，以及大于0至2.4μm以下，但并不限于此。
在本发明中，亮室反射率为仅测量待测量面的观察值，通过使用黑胶、胶带等将该待测量反射率的面相对面的反射率设为0。在此情况中，输入光源选择最接近环境光条件的扩散光源。而且，在此情况下，基于由集成球体的半圆的垂直线倾斜7度的位置测量该反射率。图10表示如前述的测量反射率的装置的配置及示意图。
如图11所示，当屏幕的长宽比为16：9时，该屏幕的高度为h，对角线长为d，使用者观察该显示器的视角为a，屏幕宽度为w，且眼睛及屏幕间的视线距离为D。
w=D×tan(a/2)×2，且
对应于该对角线长度的英寸为
h=w×9/16
I=(w2+h2)1/2=[(D×tan(a/2)×2)2+(D×tan(a/2)×2×9/16)2]1/2
公知当仅睁开一只眼睛时人类具有160度的水平视角及175度的垂直视角，当睁开两只眼睛时具有200度的水平视角及135度的垂直视角，且当两眼睁开时重叠的视角为水平120度及垂直135度。即，当睁开两眼观察时，仅有落在水平120度中的物体可被分辨，且由于可被聚焦于120度中的视角约为30度，一般而言，假设当使用者观察该显示器的视角为30度，可概括出如下等式。
D=1.6264I(英寸转换为待代入的cm；单位：cm)
人类分辨物体的能力表示为角度分辨率。角度分辨率是指在1度中可被区分出的黑线白线对的数量，且黑线白线对被称为一个周期并表示为每度视角周期(cycle perdegree，CPD)(图12)。该CPD表示周期数，该周期数在如下述D的距离处存在于对应1度视角范围的宽度w中，且公知50CPD是表示50周期为人类视网膜的限制(图13)。
根据图12所示的距离D，根据CPD的距离的公式定义为D=w/tan1度/2)×2。在此情况下，当该公式转换为w的等式时，w=2Dtan(0.5度)=0.01745D。
在此情况下，(包含在距离w中的像素数量×2)恰为一CPD值，且视网膜可分辨的上限及下限分别为0.5及50。
由于这可通过成对像素分析，最后，该对应像素可对应为1至100。由于D为1.6264I，当根据该距离D的英寸等式代入w=2Dtan(0.5度)=0.017456D时，该等式可转换为w=0.0284Icm(公分)。
由于对应视网膜限制的值为P=w及P=w/100，当该值分别转换为英寸及像素间距时，可获得下述值：
1P=0.0284I→P=0.0142I(cm)
100P=0.0284I→P=0.00028I(cm)
由于单位为cm，当该单位转换为微米时，
P=284I
P=2.81I(μm)
当I取代为英寸单位，如果转换该等式以直接计算该像素间距，则
P=111.8I
P=1.10I
当呈现于图中，该等式对应于图3的点区域。
然而，并非所有的区域皆为制造显示器的区域，且目前通常用于制造显示器英寸的像素间距的上限及下限，以及根据主要制造的显示器英寸的像素是分别通过图3的红色实线、蓝色实线及黑色实线而呈现。在此情况下，当根据以黑色实线呈现的主要制造的显示器英寸的像素间距转换为CPD实线，该间距转换为约9.8的CPD值，该值可被理解为遵守从观察者观察的距离在1度中约排列20个像素的规则，且可对应至接近8的区域，其为在图13中根据CPD的可视功能变得最大的区域。
在本发明中，该导电线可由直线构成，但也可以通过曲线、波浪线、锯齿线等进行各种修饰。此外，该导电线可具有至少两种具有形状的线的混合形状。
在本发明中，只要由该导电线所封闭，该导电图案可包含三个角或以上的多边形图案，例如，三角形、四角形、五角形、六角形、七角形或以上。
在本发明中，该导电图案可包括规则图案。在此，该规则图案是指该图案的形状具有规则性。例如，该导电图案可包括具有网格形状的图案，如矩形、方形或六边形。
为了准备前述导电图案，首先，在决定所需图案形状后，该具有细线宽及精度的导电图案可通过使用印刷方法、光刻法、摄影法、掩模(mask)法、溅镀法、喷墨印刷法等方法而形成于该透明基板上。
该印刷方法可通过在所需图案形状中转移及灼烧该透明基板上的包含导电图案材料的浆料而执行。该转移的方法并不特别受限，但所需图案可通过形成该图案形状于图案转移介质(如凹版或网版)并使用该形成的图案形状而转移至该透明基板上。在图案转移介质上形成图案形状的方法可使用本领域公知方法。
该印刷方法并不特别受限且可使用如平版印刷(offset printing)、网版印刷(screen printing)、凹版印刷(gravure printing)、柔版印刷(flexo printing)及喷墨印刷(inkjet printing)的印刷法，且可使用一种以上的复合方法。该印刷方法可使用辊对辊(roll to roll)法、辊对版(roll to plate)法、版对辊(plate to roil)法或版对版(plate to plate)法。
在本发明中，为了实现精细的导电图案，优选采用反转平版印刷(reverse offsetprinting)法。图6说明了使用反转平版印刷的直接与间接程序。参照图6，当在称为包覆层(blanket)的硅基橡胶上进行蚀刻时，形成所需图案的方法可通过在整个表面涂布能够抗蚀刻的油墨，首先通过称为刻板(cliche)的具有图案的凹版移除不需要的部分，并接着转移保留于包覆层上的印刷图案至设置有金属等的膜或例如玻璃的基板上，然后加热并蚀刻该转移印刷图案。在使用该方法的情况下，通过使用设置有金属的基板，可确保在整个区域中线高度的均匀性，其有利于在厚度方向上的电阻保持均匀。
如图7所示，本发明的另一实施例可采用凹版印刷法。该凹版印刷法可以下述方式进行：通过将浆料填充于具有图案的凹版中，先将该浆料转移至该包覆层，接着，通过将该包覆层接触该透明基板而转移该浆料。此外，该凹版印刷可通过变型方法进行，其包括在辊上转动具有图案的凹版，将胶填充于该图案中，然后将该图案转移至该透明基板。在本发明中，除了使用方法外，这些方法可结合使用。再者，也可使用其它本领域技术人员公知的印刷方法，如网版印刷。
本发明并不限于上述印刷方法，还可使用光刻工艺。举例而言，该光刻工艺可通过下述方法进行：通过在透明基板整个表面上形成导电图案，在其上形成光阻层，通过选择性曝光及显影工艺使得光阻层图案化，通过利用该图案化的光阻层作为抗蚀刻层来形成导电图案，然后移除该光阻层。
此外，本发明也可使用摄影法。举例而言，在涂布包含卤化银的光敏性材料于该透明基板上后，也可通过选择性曝光及显影该光敏性材料而形成该图案。更详细的例子如下所述。首先，将负型光敏性材料涂布于基底上以形成图案。在此情况下，作为该基底，可使用聚合物膜，如PET及乙酰基赛璐璐片(acetyl celluloid)。在此，涂布光敏性材料的聚合物膜材料构件称为膜。该负型光敏性材料通常由卤化银所组成，该卤化银可通过混合少量碘化银(AgI)和对光反应非常敏感且规则(regularly)的溴化银(AgBr)而获得。由于通过摄影及显影，一般负型光敏性材料的影像为具有与目标物相反对比的负像，该摄影法可通过使用具有图案形状的掩模而进行，优选地，该图案形状为一不规则图案形状。
为了增加通过使用光刻及摄影工艺形成的导电图案的导电性，可进一步执行电镀工艺(plating process)。该电镀工艺可通过使用无电电镀(electroless planting)法进行，电镀材料可使用铜或镍，且在进行镀铜后，可在其上进行镀镍，但本发明的范畴并不仅限于此。
此外，本发明也可使用采用硬式掩模的方法。
举例而言，在将具有所期待的导电图案的掩模设置于靠近基底后，该导电图案材料可沉积于该基底上以图案化。
在此情况下，沉积方法可使用通过热或电子束的热沉积法、物理气相沉积(physical vapor deposition，PVD)法(如溅镀)、及使用有机金属材料的化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)法。
而且，本发明可用印刻(imprinting)工艺制造。该印刻工艺可使用下述方法：涂布可印刻树脂于沉积有导电金属等的基底上，通过使用准备好的模制图案(mold pattern)印刷该涂布树脂，通过干法蚀刻及蚀刻工艺使得金属线图案化，移除该树脂或图案化该树脂以通过模具印刻，在该图案间部分填充导电材料，然后使用该填充的导电材料或转移该填充的导电材料至另一基底。
在本发明中，该导电图案可包括具有20微米以下的线宽的导电线，且可包括具有15微米以下、10微米以下、7微米以下、4微米以下、或3微米以下的线宽的导电线。在本发明中，该导电线的线宽可控制于0.5至10微米的范围内。
在本发明中，第三导电图案的开口率，即，未被图案覆盖的透明基板的面积比率优选为70%以上，且可为90%以上、93%以上、95%以上、96%以上、97%以上、98%以上、或99%以上。
根据本发明一实施例，该导体可包括不形成该导电图案的区域。
根据本发明一实施例，该导电图案可被黑化(blackened)。据此，即便在以金属材料制成导电图案的情况中，也可进一步降低可视度。在通过直接印刷导电图案形成图案的情况中，为了黑化该导电图案，在添加黑化材料至用以形成该导电图案的浆料或油墨后，进行黑化工艺；或者印刷并加热该浆料或油墨以黑化该导电图案。
可添加至该油墨或浆料的黑化材料包括金属氧化物、碳黑、碳纳米管、黑色色素、彩色玻璃火石(colored glass flit)等。在该油墨或浆料为银基底料的情况中，在加热后该黑化可通过下述方式进行：浸泡于氧化溶液，例如含有铁或铜离子的溶液；浸泡于含有卤素离子(例如氯离子)的溶液；浸泡于过氧化物(peroxide)、亚硝酸盐(nitrate)等；以及以卤素气体等进行处理。
在通过蚀刻而非印刷金属材料以形成图案的方法的情况中，黑化的其它例子可使用下述方法：沉积黑化层于人观察的一面上，沉积提供导电性的层，以及在随后的蚀刻工艺中一次性图案化该层。作为一个例子，在通过MoOxNy沉积该黑化层的情况中，沉积铝层于其上，及印刷并蚀刻抗蚀油墨于基底上，MoOxNy及铝同时在蚀刻剂(etchant)中图案化，从而黑化所期待的表面，其中，该蚀刻剂可为一磷酸、硝酸、醋酸及水的混合溶液。
在本发明中，该透明基板并不特别受限，但其透光度为50%以上，优选为75%以上，更优为88%以上。具体而言，该透明基板可使用玻璃、塑料基底、或塑料膜。该塑料基底或塑料膜可使用本领域公知的材料，例如，选自由聚丙烯酸化合物(polyacryls)、聚氨基甲酸酯(polyurathanes)、聚酯(polyesters)、聚环氧树脂(polyepoxies)、聚烯烃(polyolefins)、聚碳酸酯(polycarbonates)、及纤维素(celluloses)的一种或多种树脂组成的材料。具体地，该塑料基底或膜是优选为具有可见光透光度为80%以上的膜，例如聚对苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)、聚乙烯基丁醛(polyvinylbutyral，PVB)、聚萘二甲酸乙二酯(polyethylene naphthalate PEN)、聚醚砜(polyethersulfon，PES)、聚碳酸酯(polycarbonate，PC)、及醋酸赛璐珞(acetyl celluloid)。该塑料膜的厚度优选为12.5至500微米，更优为50至450微米，且最优为50至250微米。该塑料基底可为具有各种功能性层的结构的基底，如：用以阻断湿气及气体的气体壁垒层；以及用以补强强度、改善透光度及降低雾值的硬涂层，层压于该塑料膜的一侧或两侧上。包含于该塑料基底的功能性层并不限于前述层，且可设置各种功能性层。
该导电图案可直接形成于组件上，例如，该导电图案可施加于包含在组件或装置中的基板上，例如显示器、触控面板、及OLED照明。
在本发明中，作为该导电图案材料，可使用具有优异导电性的材料。此外，该导电图案材料的电阻率优选为1微欧厘米(microOhm cm)或以上且为100微欧厘米或以下，且更优为1微欧厘米或以上且为5微欧厘米或以下。作为该导电图案材料的详细例子，可使用铝(aluminum)、铜(copper)、银(silver)、金(gold)、铁(iron)、钼(molybdenum)、镍(nickel)、碳纳米管(carbon nanotube，CNT)、钛(titanium)、其合金或氧化物、其氮化物或氧氮化物等。然而，从成本及导电度的观点看，铝为最佳。在直接印刷的情况中，该导电图案材料可被转换并使用于颗粒形式，且在此情况中，该颗粒形式可为上述列举金属的单一组成或混合组成物。
在本发明中，在使用包含该导电图案材料的油墨或浆料的情况中，为了利于该印刷工艺，除了前述导电图案材料，该油墨或浆料可进一步包括有机粘结剂。在加热过程中，该有机粘结剂可具有挥发性。该有机粘结剂可包括聚丙烯酸树脂(polyacrylic resin)、聚氨酯树脂(polyurethane resin)、聚酯树脂(polyester resin)、聚烯烃树脂)polyolefinresin)、聚碳酸酯树脂(polycarbonate resin)、纤维素树脂(cellulose resin)、聚酰亚胺树脂(polyimide resin)、聚萘二甲酸乙二酯树脂(polyethylene naphthalate resin)、修饰的环氧树脂(modified epoxy)等，但并不限于此。
根据本发明的导电基板可连结至电源，且在此情况下，于室温下，考虑开口率的每单位面积的电阻值为0.01欧姆/平方(ohm/square)至1,000欧姆/平方，且优选为5欧姆/平方至150欧姆/平方。
除其自身的导电基板的配置外，可使用根据本发明的导电基板通过外部因素传导电流或施加电压。根据本发明的导电基板可以各种方式使用于要求导电性的用途。举例而言，根据本发明的导电基板可用为电磁遮蔽膜、触控面板、发光组件的辅助电极、太阳能电池的辅助电极等。具体而言，该发光组件的辅助电极可为用于有机发光二极管(organiclight emitting diode，OLED)照明的辅助电极。
根据本发明的一实施例，提供了一种电子装置，其包括本发明的前述导电基板。该电子装置可进一步包括设置于该导电基板的至少一侧上的显示器像素基板，且该显示器像素基板的每个像素可包括两个以上的亚像素。在此情况下，该显示器像素基板的每个像素可包括三个或四个以上的亚像素。
该电子装置可为触控面板、有机发光二极管照明、或有机太阳能电池。
此外，根据本发明的一实施例，提供了一种显示装置，其包括本发明的前述导电基板。根据本发明的触控面板可包括：下基板；上基板；以及设置于该下基板的接触该上基板的表面与该上基板的接触该下基板的表面中的任一表面或两个表面上。该电极层可执行功能以分别检测X轴位置及Y轴位置。
在此情况下，设置于该下基板的接触该上基板的表面的电极层，以及设置于该上基板的接触该下基板的表面的电极层中的一个或两个电极层可为根据本发明的前述导电基板。在仅其中任一电极层为根据本发明的导电基板的情况下，另一电极层可具有本领域公知的图案。
在该电极层设置于该上基板及下基板的侧面以形成一双层电极的情况下，可在该下基板及该上基板之间设置绝缘层或分隔物，从而该各电极层保持均匀的距离并且该电极层彼此不互相连接。该绝缘层可包含一粘结剂或一UV或热固性树脂。该触控面板可进一步包括接地部(ground part)，其连接前述导电图案。举例而言，该接地部可形成于该透明基板的导电图案的表面边缘。
此外，可在该导电基板的至少一侧上设置抗反射膜、偏光膜、及抗***中的至少一个。根据设计规格，除了前述功能性膜外，可进一步包括不同种的功能性膜。该触控面板可应用于显示装置，如OLED显示面板(PDP)、液晶显示器(LCD)、阴极射线管(CRT)、及PDP。
根据本发明的触控面板并不限于上述结构，还包括第一电极及第二电极均形成于一个基板上的结构，或者该下基板的电极层层压于该上基板的未设置电极层的表面上的结构。
根据本发明一实施例，提供了包含本发明前述导电基板的OLED照明的辅助电极以及包含其的OLED照明。作为一个例子，根据本发明的OLED照明包括第一电极、设置于该第一电极上的辅助电极、设置于该辅助电极上的绝缘层、至少一个有机材料层、以及第二电极，且该辅助电极可为根据本发明的导电图案。该辅助电极可直接形成于该第一电极上，且该包含透明基板及导电图案的导电基板可位于该第一电极上。
此外，本发明另一实施例提供了一种有机太阳能电池的辅助电极以及包含其的有机太阳能电池，该有机太阳能电池采用的结构相同或类似于用于OLED照明的辅助电极。
以下，将描述用于了解本发明的优选实施例。然而，下述实施例仅例示本发明，本发明的范畴并不限于下述实施例。
<实施例1>
在聚对苯二甲酸乙二酯(PET)基底上沉积铝金属后，通过印刷工艺形成具有2.7μm线宽的长条状图案，且通过蚀刻及释放(releasing)工艺形成该导电图案。
<比较例1>
在PET基底上沉积铝金属后，通过印刷工艺形成具有10μm线宽的长条状图案，接着通过蚀刻及释放(releasing)工艺形成样品。
根据实施例1的导电图案显示于图8，根据比较例1的导电图案显示于图9。由图8及图9的结果，可看到具有线宽大于显示器像素间距3%的导电图案具有较差的可视度特性。
<实施例2至10及比较例2至10>
如下表1所示，在评估显示器有效屏幕部分的对角线长度(英寸)后，根据该评估结果评估显示器的像素间距、金属网格图案的线宽及间距、应用一致性与否。
[表1]
<实施例11及12，及比较例11及12>
如下表2所示，评估该导电图案的亮室反射率及可视线宽。
[表2]

Claims (22)

1.一种用于制备导电基板的方法，所述导电基板包括：
透明基板；以及
导电图案，其包括设置于所述透明基板上的导电线，
其中，所述导电图案包括由所述导电线封闭的栅格，
所述方法包括：
用所述栅格的面积的0.5次方的值来定义所述栅格的特征长度(Lc)，并且
当通过设定所述栅格的平均特征长度(Lcav)为X轴及设定所述导电线的线宽(W)为Y轴以图示出表示下式1的曲线1及表示下式2的曲线2时，使得所述导电线的线宽(W)及所述栅格的平均特征长度(Lcav)包括在所述曲线1的较低区域及所述曲线2的较低区域的交叉区域中，
使得所述栅格的特征长度(Lc)满足下式3，
使得所述导电线的线宽(W)满足下式6，
[式1]
W＝[(1/AR0.5)-1]Lcav
[式2]
W＝13exp(-0.0052Lcav)+α
在式1及式2中，W为所述导电线的线宽，Lcav为由所述导电线封闭的栅格的平均特征长度，AR为所述导电图案的开口率，以及α等于2，
[式3]
Y1/n≤Lc≤2Y2
在式3中，n是使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，并且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1＝(2.9Q+68.1)x 1μm/l英寸
Y2＝(13.3Q+98.1)x 1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)，
[式6]
0.03Y3≥W
在式6中，W为所述导电线的线宽，Y3为在Y1≤Y3≤Y2的范围内的实数，且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1＝(2.9Q+68.1)x 1μm/l英寸
Y2＝(13.3Q+98.1)x 1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
2.如权利要求1所述的方法，其中，当通过设定所述栅格的特征长度(Lc)为X轴及设定所述导电线的线宽(W)为Y轴以图示出表示式1的曲线1及表示式2的曲线2时，使所述导电线的线宽(W)及所述栅格的特征长度(Lc)包括在所述曲线1的较低区域及所述曲线2的较低区域的交叉区域中。
3.如权利要求1所述的方法，其中，所述栅格的特征长度(Lc)满足下式4：
[式4]
Lp/n≤Lc≤2Lp
在式4中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度。
4.如权利要求1所述的方法，其中，所述栅格的特征长度(Lc)满足下式5：
[式5]
Ppixel 1/n≤LC≤2Ppixel 2
在式5中，n为使用所述导电基板的显示器的每个像素中沿一个方向排列的亚像素的数量，Ppixel 1为使用所述导电基板的显示器的每个像素的短宽度的间距，且Ppixel 2为使用所述导电基板的显示器的每个像素的长宽度的间距。
5.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电线的线宽(W)满足下式7：
[式7]
0.03Lp≥W
在式7中，W为所述导电线的线宽，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度。
6.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电线的线宽(W)满足下式8：
[式8]
0.03Ppixel≥W
在式8中，W为所述导电线的线宽，Ppixel为使用所述导电基板的显示器的每个像素的间距。
7.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电线的线宽(W)满足下式9：
[式9]
3Y3/(100×101/2)≥W
在式9中，W为所述导电线的线宽，Y3为在Y1≤Y3≤Y2的范围内的实数(μm)，且Y1和Y2分别由下式表示：
Y1＝(2.9Q+68.1)x 1μm/l英寸
Y2＝(13.3Q+98.1)x 1μm/1英寸
其中，Q为使用所述导电基板的显示器的有效屏幕部分的对角线长度(英寸)。
8.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电线的线宽(W)满足下式10：
[式10]
3Lp/(100×101/2)≥W
在式10中，W为所述导电线的线宽，Lp为用使用所述导电基板的显示器的每个像素的面积的0.5次方的值来定义的像素的特征长度(μm)。
9.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电线的线宽(W)满足下式11：
[式11]
3Ppixel/(100×101/2)≥W
在式11中，W为所述导电线的线宽，Ppixel为使用所述导电基板的显示器的每个像素的间距。
10.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电线的可视线宽(Wv)满足下式12，且大于0至3.6μm或以下：
[式12]
Wv＝W×Rm
在式12中，W为所述导电线的线宽，Rm为构造所述导电图案的导电线材料的反射率。
11.如权利要求10所述的方法，其中，在使用所述导电图案的显示器的关闭模式下，显示面板的亮室反射率为0.11或以下。
12.如权利要求10所述的方法，其中，在肉眼无法区分的情况下，具有所述导电图案的显示面板在所述显示器的关闭模式下的亮室反射率为b1，仅显示面板而未设有所述导电图案的亮室反射率为b0，且[b1/b0-1]的绝对值是0.03或以下。
13.如权利要求10所述的方法，其中，在肉眼无法区分的情况下，具有所述导电图案的显示面板在所述显示器的关闭模式下的亮室反射率为b1，仅显示面板而未设有所述导电图案的亮室反射率为b0，且[b1/b0-1]的绝对值是0.115或以下。
14.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包括规则图案。
15.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包括不规则图案。
16.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包括具有三个角以上的多边形图案。
17.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包括线宽为20微米或以下的导电线。
18.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包括线宽为0.5微米至10微米的导电线。
19.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案的开口率为90％或以上。
20.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案的开口率为95％或以上。
21.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案由金属制成。
22.如权利要求1所述的方法，其中，所述导电图案包括金属层及设置于所述金属层的至少一侧上的变暗层。
CN201280037884.7A 2011-12-23 2012-12-24 导电基板及包含其的电子装置 Active CN104094198B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20110141747 2011-12-23
KR10-2011-0141747 2011-12-23
PCT/KR2012/011398 WO2013095078A1 (ko) 2011-12-23 2012-12-24 전도성 기판 및 이를 포함하는 전자소자

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN104094198A CN104094198A (zh) 2014-10-08
CN104094198B true CN104094198B (zh) 2018-09-25

Family

ID=48668869

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280037884.7A Active CN104094198B (zh) 2011-12-23 2012-12-24 导电基板及包含其的电子装置

Country Status (7)

Country Link
US (2) US20150220107A1 (zh)
EP (1) EP2720121B1 (zh)
JP (1) JP5683035B2 (zh)
KR (1) KR101302284B1 (zh)
CN (1) CN104094198B (zh)
TW (1) TWI479386B (zh)
WO (1) WO2013095078A1 (zh)

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101482401B1 (ko) * 2013-04-30 2015-01-13 삼성전기주식회사 터치패널을 포함하는 디스플레이장치 및 그 터치패널의 전극패턴 시인성 평가방법
CN104036701B (zh) * 2014-06-26 2016-03-02 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示方法、显示装置
CN104123904B (zh) 2014-07-04 2017-03-15 京东方科技集团股份有限公司 像素阵列及其驱动方法和显示面板
JP6494287B2 (ja) * 2015-01-08 2019-04-03 三菱電機株式会社 タッチスクリーン、タッチパネル、表示装置、および電子機器
CN105094424B (zh) * 2015-07-07 2018-10-09 业成光电（深圳）有限公司 触控显示面板结构与触控显示面板
JP6563497B2 (ja) 2015-07-24 2019-08-21 富士フイルム株式会社 タッチパネル用導電フィルム、タッチパネル、および、タッチパネル付き表示装置
JP6511382B2 (ja) * 2015-10-16 2019-05-15 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、及びこれを備える表示装置
CN106226342A (zh) * 2016-07-13 2016-12-14 博罗县精汇电子科技有限公司 一种用于pi高温胶带的掉胶检验方法
WO2018047493A1 (ja) * 2016-09-12 2018-03-15 富士フイルム株式会社 導電性フィルム、タッチパネルセンサー、および、タッチパネル
JP7120890B2 (ja) * 2018-11-16 2022-08-17 田中貴金属工業株式会社 金属配線を備える導電基板及び該導電基板の製造方法、並びに金属配線形成用の金属インク

Family Cites Families (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4223840B2 (ja) * 2003-03-12 2009-02-12 住友化学株式会社 フォトマスク及び拡散反射板
TWI258721B (en) * 2004-08-10 2006-07-21 Ind Tech Res Inst Full-color organic electroluminescence device
TW200818981A (en) * 2006-08-30 2008-04-16 Sumitomo Chemical Co Organic electroluminescence device
WO2008029776A1 (fr) * 2006-09-04 2008-03-13 Toray Industries, Inc. Élément de protection contre les ondes électromagnétiques, transparent à la lumière et procédé de fabrication de celui-ci
TWI329221B (en) * 2007-09-04 2010-08-21 Au Optronics Corp Touch panel
TWI369796B (en) * 2007-12-25 2012-08-01 Wintek Corp Touch panel and driving method thereof
KR101397200B1 (ko) * 2008-02-28 2014-05-20 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 저 가시성 도체를 구비한 터치 스크린 센서
JP2011513846A (ja) * 2008-02-28 2011-04-28 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー タッチスクリーンセンサ
EP2260366B1 (en) * 2008-02-28 2018-09-19 3M Innovative Properties Company Touch screen sensor having varying sheet resistance
JP5332510B2 (ja) * 2008-10-29 2013-11-06 コニカミノルタ株式会社 透明導電性基板、及び電気化学表示素子
KR101156275B1 (ko) * 2009-02-06 2012-06-13 주식회사 엘지화학 터치스크린 및 이의 제조방법
KR101144537B1 (ko) * 2009-07-16 2012-05-11 주식회사 엘지화학 전도체 및 이의 제조방법
TWI419036B (zh) * 2009-10-23 2013-12-11 Au Optronics Corp 觸控顯示面板及其觸控感測單元
US20120206395A1 (en) * 2009-10-30 2012-08-16 Sharp Kabushiki Kaisha Touch panel-equipped display device
CA2686174A1 (en) * 2009-12-01 2011-06-01 Ignis Innovation Inc High reslution pixel architecture
WO2011125281A1 (ja) * 2010-04-01 2011-10-13 シャープ株式会社 タッチパネル付き表示装置
CN101887324B (zh) * 2010-06-28 2012-10-03 友达光电股份有限公司 感测式显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20150220107A1 (en) 2015-08-06
TWI479386B (zh) 2015-04-01
KR20130073860A (ko) 2013-07-03
EP2720121B1 (en) 2017-09-06
EP2720121A1 (en) 2014-04-16
US8780567B2 (en) 2014-07-15
EP2720121A4 (en) 2015-04-15
TW201342154A (zh) 2013-10-16
JP2014523599A (ja) 2014-09-11
US20130343010A1 (en) 2013-12-26
WO2013095078A1 (ko) 2013-06-27
KR101302284B1 (ko) 2013-09-03
CN104094198A (zh) 2014-10-08
JP5683035B2 (ja) 2015-03-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104094198B (zh) 导电基板及包含其的电子装置
US9686859B2 (en) Patterned conductive substrate and method for manufacturing same
CN103547984B (zh) 导电基板和包括该导电基板的触摸式面板
US9049788B2 (en) Electrical conductor and a production method therefor
CN104090673B (zh) 具有低可见度导体的触屏传感器
CN104636016B (zh) 触屏传感器
US9345130B2 (en) Conductive substrate comprising conductive pattern and touch panel comprising same
CN107428127A (zh) 导电结构体、其制造方法以及包括导电结构体的电极
US20130342504A1 (en) Touch panel and display device including the same
KR20160069823A (ko) 전도성 구조체 및 이의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant