CN104035621A - 触控显示装置及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
触控显示装置包括阵列基板、彩色滤光基板、黑矩阵层以及触控感测层。彩色滤光基板位于阵列基板上，黑矩阵层位于彩色滤光基板面对阵列基板的表面，黑矩阵层包括多个第一遮光部以及与多个第一遮光部相交的多个第二遮光部。触控感测层位于彩色滤光基板上。触控感测层的边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。触控显示装置可有效地消除菱形纹现象，提高显示品质。本发明还涉及触控显示装置的制作方法。
Description
技术领域
本发明涉及触控显示技术领域，且特别是涉及一种触控显示装置及其制作方法。
背景技术
随着信息技术、无线移动通讯和信息家电的快速发展与应用，为了达到更便利、更轻巧以及更人性化的目的，许多信息产品已由传统的键盘或鼠标等装置输入转为使用触控式面板(Touch Panel)作为输入装置，其中，触控显示装置已成为主流产品。
现有的触控显示装置的触控技术主要有外挂式、单玻璃触控式(OneGlass Solution，OGS)、内嵌式(In cell)和外嵌式(On cell)等技术。外挂式的触控显示装置由于触摸屏与显示面板是相互独立设置，产品厚度较大，不能满足一些掌上设备和便携式设备的超薄要求，已经被逐渐淘汰。OGS的触控显示装置是将触控感测层与保护玻璃整合在一起再通过光学胶贴合在显示面板上，具有触控灵敏度高等优点，是目前的主流触控技术之一，主要的缺点是强度不好易碎。In Cell的触控显示装置是将触控感测层集成到显示面板内部，但In Cell的触控显示装置因结构、制程均比较复杂而导致其生产良率较低。On Cell的触控显示装置是将触控感测层设置在显示面板的彩色滤光基板上，也是目前的主流触控技术之一。
图1是现有的一种On Cell的触控显示装置的触控感测层的俯视结构示意图。图2是现有的一种On Cell的触控显示装置的局部俯视结构示意图。请参阅图1和图2，图2所主要绘示的是On Cell技术的触控显示装置中触控感测层10与彩色滤光基板表面的黑矩阵层20，以体现触控感测层10与彩色滤光基板表面的黑矩阵层20在阵列基板30的投影关系，为了图示简洁，并未绘示出彩色滤光基板，其根据On Cell的触控显示装置的熟知结构易于知晓。如图2所示，黑矩阵层20位于阵列基板30上方，并包括多条相互平行的第一遮光部21和多条相互平行的第二遮光部22，第一遮光部21和第二遮光部22相互交叉从而形成多个镂空区域23，阵列基板30的多个像素单元32与镂空区域23的位置及大小相对应。触控感测层10是用ITO(Indium Tin Oxides氧化铟锡)等透明材料制作并图案化。由于触控感测层10的触控电极12、13的电容设计需求，触控电极12、13通常设计成菱形结构且对应覆盖部分像素单元32设置，图2绘示了四个相邻触控电极12、13的一部分，触控电极12、13的边缘12a、13a往往位于像素单元32的上方。当光线从像素单元32透过时，由于像素单元32的上方触控电极12、13的边缘12a、13a的存在，像素单元32被分为被触控电极12、13覆盖的区域32a和未被触控电极12、13覆盖的区域32b，而被触控电极12、13覆盖的区域32a和未被触控电极12、13覆盖的区域32b的折射率不一致，从而会导致触控电极12、13的边缘12a、13a在一些角度被人眼看到而出现菱形纹现象，影响触控显示装置的显示品质。
发明内容
本发明的目的在于，提供了一种触控显示装置，其可有效地消除菱形纹现象，具有较好的显示品质。
本发明的目的在于，提供了一种触控显示装置的制作方法，其所制作的触控显示装置可有效地消除菱形纹现象，有利于提高触控显示装置的显示品质。
本发明解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。
一种触控显示装置，其包括阵列基板、彩色滤光基板、黑矩阵层以及触控感测层。彩色滤光基板位于阵列基板上，黑矩阵层位于彩色滤光基板面对阵列基板的表面，黑矩阵层包括多个第一遮光部以及与该多个第一遮光部相交的多个第二遮光部。触控感测层位于彩色滤光基板上。触控感测层的边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。
在本发明较佳实施例中，上述阵列基板具有显示区域，显示区域包括从黑矩阵层露出的多个像素单元。触控感测层包括彼此间隔的第一触控电极和第二触控电极。第一触控电极和第二触控电极分别覆盖部分的多个像素单元，从而将多个像素单元分为被第一触控电极和第二触控电极覆盖的多个第一像素单元和未被第一触控电极和第二触控电极覆盖的多个第二像素单元，且第一触控电极的第一边缘和第二触控电极的第二边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。
在本发明较佳实施例中，上述触控显示面板还包括冗余导电图形。冗余导电图形位于彩色滤光基板上，与触控感测层位于同一层，并分别与第一触控电极和第二触控电极彼此分离而电绝缘。冗余导电图形覆盖多个第二像素单元，且冗余导电图形的图形边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。
在本发明较佳实施例中，上述冗余导电图形覆盖所有多个第二像素单元。
在本发明较佳实施例中，上述冗余导电图形与第一触控电极和第二触控电极的材质是透明导电材料。
在本发明较佳实施例中，上述第一触控电极是感应电极，第二触控电极是驱动电极。
在本发明较佳实施例中，上述多个第一遮光部为相互平行的条状遮光部，多个第二遮光部为相互平行的条状遮光部，且多个第一遮光部与多个第二遮光部垂直相交。
一种触控显示装置的制作方法，其包括：制作阵列基板；制作彩色滤光基板；在彩色滤光基板面对阵列基板的表面形成黑矩阵层，黑矩阵层包括多个第一遮光部以及与多个第一遮光部相交的多个第二遮光部；以及在彩色滤光基板上形成触控感测层，并使触控感测层的边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。
在本发明较佳实施例中，上述阵列基板具有显示区域，显示区域包括从黑矩阵层露出的多个像素单元。在彩色滤光基板上形成触控感测层包括：形成彼此间隔的第一触控电极和第二触控电极，并使第一触控电极和第二触控电极分别覆盖部分的多个像素单元，以将多个像素单元分为被第一触控电极和第二触控电极覆盖的多个第一像素单元和未被第一触控电极和第二触控电极覆盖的多个第二像素单元，且使第一触控电极的第一边缘和第二触控电极的第二边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。
在本发明较佳实施例中，上述制作方法还包括在彩色滤光基板上形成冗余导电图形，并使冗余导电图形与触控感测层位于同一层，分别与第一触控电极和第二触控电极彼此分离而电绝缘，且使冗余导电图形覆盖多个第二像素单元，并且使冗余导电图形的图形边缘在阵列基板的投影全部位于多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内。
本发明的有益效果是，本发明的触控显示装置及其制作方法，触控感测层的边缘在阵列基板的投影全部位于黑矩阵层的多个第一遮光部和多个第二遮光部在阵列基板的投影范围之内，也就是说，在触控显示装置的未被黑矩阵层遮挡的透光区域(像素单元)不会有触控感测层的边缘存在，能有效地避免因触控感测层边缘存在于透光区域(像素单元)而出现的菱形纹现象，从而有利于提高触控显示装置的显示品质。
上述说明仅是本发明技术方案的概述，为了能够更清楚了解本发明的技术手段，而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本发明的上述触控显示装置及制作方法的其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下特举较佳实施例，并配合附图，详细说明。
附图说明
图1是现有的一种On Cell的触控显示装置的触控感测层的俯视结构示意图。
图2是现有的一种On Cell的触控显示装置的局部俯视结构示意图。
图3是本发明一实施例的触控显示装置的局部俯视结构示意图。
图4是沿图3的Ⅲ-Ⅲ线的剖视图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本发明提出的触控显示装置及其制作方法的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如下：
有关本发明的前述及其它技术内容、特点及功效，在以下配合参考图式的较佳实施例的详细说明中将可清楚呈现。通过具体实施方式的说明，当可对本发明为达成预定目的所采取的技术手段及功效得以更加深入且具体的了解，然而所附图式仅是提供参考与说明之用，并非用来对本发明加以限制。
图3是本发明一实施例的触控显示装置的局部俯视结构示意图。图4是沿图3的III-III线的剖视图。请参阅图3和图4，本实施例的触控显示装置100是On-Cell型的电容式触摸屏，触控显示装置100包括阵列基板110、黑矩阵层120、彩色滤光基板130以及触控感测层140。
阵列基板110例如是包括基板以及设置在基板的数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列和透明保护层等结构，在此不再赘述。值得一提的是，多条扫描线和多条数据线相互交叉以限定出多个像素单元111，即每相邻两条扫描线和每相邻两条数据线之间相互交叉从而限定出一个像素单元111。也就是说，阵列基板110具有显示区域(图未标出)，显示区域包括多个像素单元111。为了图示简洁，图3仅绘示了针对阵列基板110的局部显示区域的部分像素单元111的俯视结构示意图。
彩色滤光基板130位于阵列基板110上，彩色滤光基板130包括彩色滤光膜、透明保护层、绝缘层等结构，在此不再赘述。
黑矩阵层120位于彩色滤光基板130面对阵列基板110一侧的表面。此外，彩色滤光基板130与阵列基板110之间还设置有液晶层(未标注)。如图3所示，黑矩阵层120包括多个第一遮光部121以及与多个第一遮光部121相交的多个第二遮光部122。本实施例中，多个第一遮光部121为相互平行的条状遮光部，多个第二遮光部122也为相互平行的条状遮光部。多个第一遮光部121与多个第二遮光部122垂直相交，每两条相邻的第一遮光部121和每两条相邻的第二遮光部122之间相互交叉定义出透光区域123。多个第一遮光部121分别覆盖设置于阵列基板110上的多条扫描线，多个第二遮光部122分别覆盖设置于阵列基板110上的多条数据线，因此，多个像素单元111分别从黑矩阵层120对应的透光区域123露出。
触控感测层140位于彩色滤光基板130上，触控感测层140包括多个相对独立的触控单元，每个触控单元包括彼此间隔的第一触控电极141和第二触控电极142，第一触控电极141和第二触控电极142的形状在本发明中也不作特别限定，可根据实际需求制作成任意形状。而且，各个触控单元第一触控电极141的形状结构可以相同也可以不相同，各个触控单元第二触控电极142的形状结构可以相同也可以不相同，且多个触控单元可按周期排列或非周期排列，在此并不进行特别限定。为了图示简洁，图3中仅示意性的绘出在一个触控单元中同时包含有第一触控电极141、第二触控电极142和冗余导电图形143的一部分。触控显示装置100的触控感测层140中每个触控单元通过独立的引线连接到外部检测电路，当手指或与人体连接的导电材料触摸到触控区域时，触摸点附近的两个触控电极之间的电容发生变化，通过触摸点电容的变化得出触摸点的坐标位置，此为本发明领域具有通常知识者所熟知技艺，在此不予赘述。
第一触控电极141例如是由ITO(Indium Tin Oxides氧化铟锡)等透明导电材料制成的感应电极。本实施例中，第一触控电极141大致呈“L”形，、但并不以此为限，在其它实施例中，第一触控电极141的形状可根据实际需求制作。第一触控电极141覆盖多个像素单元111，第一触控电极141的第一边缘1411在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的多个第一遮光部121和多个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。具体地，第一触控电极141的第一边缘1411包括多条与第一遮光部121同长度方向的第一边1412和多条与第二遮光部122同长度方向的第二边1413，每一条第一边1412在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内，每一条第二边1413在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。
第二触控电极142例如也是由ITO(Indium Tin Oxides氧化铟锡)等透明导电材料制成的驱动电极，本实施例中，第二触控电极142也大致呈“L”形，但并不以此为限，在其它实施例中，第二触控电极142的形状可根据实际需求制作。第二触控电极142覆盖在多个像素单元111上，与第一触控电极141彼此间隔。第二触控电极142的第二边缘1421在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的多个第一遮光部121和多个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。具体地，第二触控电极142的第二边缘1421包括多条与第一遮光部121同长度方向的第三边1422和多条与第二遮光部122同长度方向的第四边1423，每一条第三边1422在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内，每一条第四边1423在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。
承上述，触控感测层140的边缘在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的多个第一遮光部121和多个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。当光线透过触控感测层140时，触控感测层140的边缘(第一边缘1411和第二边缘1421)都没有位于透光区域123(像素单元111)的上方，未被黑矩阵层120遮挡的透光区域123(像素单元111)不会有触控感测层140的边缘存在，因此，能有效地避免出现菱形纹现象，提高触控显示装置100的显示品质。由于第一触控电极141覆盖多个像素单元111和第二触控电极142也覆盖多个像素单元111，且第一触控电极141和第二触控电极142彼此间隔，多个像素单元111分为被第一触控电极141和第二触控电极142覆盖的多个第一像素单元111a和未被第一触控电极141和第二触控电极142覆盖的多个第二像素单元111b。
本实施例中，触控显示装置100还包括冗余导电图形143，冗余导电图形143位于多个像素单元111的未被第一触控电极141和第二触控电极142覆盖的多个第二像素单元111b。冗余导电图形143位于彩色滤光基板130上，与触控感测层140位于同一层，并分别与第一触控电极141和第二触控电极142彼此分离而电绝缘，优选地，冗余导电图形143覆盖所有多个第二像素单元111b，也即是说，冗余导电图形143与触控感测层140覆盖整个显示区域的所有多个像素单元111。冗余导电图形143例如是由ITO(Indium TinOxides氧化铟锡)等透明导电材料制成。由于冗余导电图形143是填充在被第一触控电极141和第二触控电极142覆盖的多个第一像素单元111a以外的区域，冗余导电图形143形状实际是由第一触控电极141和第二触控电极142的形状决定的。冗余导电图形143的图形边缘1431在阵列基板110的投影全部位于多个第一遮光部121和多个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。具体地，冗余导电图形143的图形边缘1431包括多条与第一遮光部121同长度方向的第五边1432和多条与第二遮光部122同长度方向的第六边1433。冗余导电图形143的每一条第五边1432在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内。本实施例中，相邻的第一触控电极141的第一边1412和冗余导电图形143的第五边1432在阵列基板110的投影全部落在同一条第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内，相邻的第二触控电极142的第三边1422和冗余导电图形143的第五边1432在阵列基板110的投影也全部落在同一条第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内。冗余导电图形143的每一条第六边1433在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。本实施例中，相邻的第一触控电极141的第二边1413和冗余导电图形143的第六边1433在阵列基板110的投影全部落在同一条第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内，相邻的第二触控电极142的第四边1423和冗余导电图形143的第六边1433在阵列基板110的投影全部落在同一条第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。当光线透过冗余导电图形143时，冗余导电图形143的图形边缘1431都没有位于透光区域123(像素单元111)的上方，未被黑矩阵层120遮挡的透光区域123(像素单元111)同样不会有冗余导电图形143的边缘存在，因此，不会出现菱形纹现象，有利于提高触控显示装置100的显示品质。
值得一提的是，冗余导电图形143与触控感测层140可在同一制程使用相同材料制成，以使触控显示装置100的整个触控区域平坦度和灵敏度保持一致。由于多个第一像素单元111a覆盖有第一触控电极141和第二触控电极142，多个第二像素单元111b覆盖有冗余导电图形143，当光线透过多个像素单元111时，多个第一像素单元111a和多个第二像素单元111b材料是一致的，因此可以减小触控显示装置100的多个第一像素单元111a和多个第二像素单元111b的反射率差异，从而使触控显示装置100在多个第一像素单元111a和多个第二像素单元111b保持一致的光透过率。
以下将对触控显示装置100的制作方法作进一步说明。
首先，制作阵列基板110。阵列基板110例如是薄膜晶体管阵列基板，制作步骤包括在基板上制作数据线、扫描线、薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，TFT)阵列和透明保护层等结构的步骤，在此不再赘述。值得一提的是，多条扫描线和多条数据线相互交叉以限定出多个像素单元111，即每相邻两条扫描线和每相邻两条数据线之间相互交叉从而限定出一个像素单元111。也就是说，阵列基板110具有包括多个像素单元111的显示区域(图未标出)。
其次，制作彩色滤光基板130。
之后，在彩色滤光基板130表面形成黑矩阵层120，并使黑矩阵层120位于彩色滤光基板130和阵列基板110之间，也即，黑矩阵层120位于彩色滤光基板130面对阵列基板110一侧的表面。黑矩阵层120包括多个第一遮光部121以及与多个第一遮光部121相交的多个第二遮光部122，所形成的多个第一遮光部121为相互平行的条状遮光部并分别覆盖设置于阵列基板110上的多条扫描线，所形成的多个第二遮光部122也为相互平行的条状遮光部并分别覆盖设置于阵列基板110上的多条数据线，每两条相邻的第一遮光部121和每两条相邻的第二遮光部122之间相互交叉定义出透光区域123，阵列基板110的多个像素单元111从黑矩阵层120的透光区域123露出。
接着，在彩色滤光基板130上用ITO(Indium Tin Oxides氧化铟锡)等透明导电材料形成彼此分离而电绝缘的触控感测层140和冗余导电图形143。触控感测层140和冗余导电图形143位于彩色滤光基板130上，且位于同一层，因此，较佳地，触控感测层140和冗余导电图形143可在同一制程例如同一沉积微影蚀刻过程中制作完成。当然，触控感测层140和冗余导电图形143也可在不同的制程中分别完成，在此并不限定。
承上述，所形成的触控感测层140包括彼此间隔的第一触控电极141和第二触控电极142。第一触控电极141、第二触控电极142和冗余导电图形143覆盖所有的多个像素单元111。其中，多个第一像素单元111a被第一触控电极141和第二触控电极142覆盖，多个第二像素单元111b被冗余导电图形143覆盖。所形成的第一触控电极141的第一边缘1411以及第二触控电极142的第二边缘1421在阵列基板110的投影全部位于多个第一遮光部121和多个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内，冗余导电图形143的图形边缘1431在阵列基板110的投影也全部位于多个第一遮光部121和多个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。具体地，本实施例形成“L”型的第一触控电极141和第二触控电极142。第一触控电极141的第一边缘1411包括多条与第一遮光部121同长度方向的第一边1412和多条与第二遮光部122同长度方向的第二边1413。第二触控电极142的第二边缘1421包括多条与第一遮光部121同长度方向的第三边1422和多条与第二遮光部122同长度方向的第四边1423。冗余导电图形143的图形边缘1431包括多条与第一遮光部121同长度方向的第五边1432和多条与第二遮光部122同长度方向的第六边1433。每一条第一边1412在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内，每一条第二边1413在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。每一条第三边1422在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内，每一条第四边1423在阵列基板110的投影全部位于黑矩阵层120的一个第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。相邻的第一触控电极141的第一边1412和冗余导电图形143的第五边1432在阵列基板110的投影全部落在同一条第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内。相邻的第二触控电极142的第三边1422和冗余导电图形143的第五边1432在阵列基板110的投影全部落在同一条第一遮光部121在阵列基板110的投影范围之内。相邻的第一触控电极141的第二边1413和冗余导电图形143的第六边1433在阵列基板110的投影全部落在同一条第一遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。相邻的第二触控电极142的第四边1422和冗余导电图形143的第六边1433在阵列基板110的投影全部落在同一条第二遮光部122在阵列基板110的投影范围之内。
此外，在制作完成触控感测层140和冗余导电图形143还包括其他结构例如保护层的制作等，其为本领域技术人员较为熟知，在此不再赘述。
以上对本发明所提供的触控显示装置及其制作方法进行了详细介绍，本文中应用了具体个例对本发明的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想；同时，对于本领域的一般技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，综上所述，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (10)
1.一种触控显示装置，其特征在于，其包括：
阵列基板；
彩色滤光基板，位于该阵列基板上；
黑矩阵层，位于该彩色滤光基板面对该阵列基板的表面，该黑矩阵层包括多个第一遮光部以及与该多个第一遮光部相交的多个第二遮光部；以及
触控感测层，位于该彩色滤光基板上，该触控感测层的边缘在该阵列基板的投影全部位于该多个第一遮光部和该多个第二遮光部在该阵列基板的投影范围之内。
2.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该阵列基板具有显示区域，该显示区域包括从该黑矩阵层露出的多个像素单元，该触控感测层包括彼此间隔的第一触控电极和第二触控电极，该第一触控电极和该第二触控电极分别覆盖部分的该多个像素单元，从而将该多个像素单元分为被该第一触控电极和该第二触控电极覆盖的多个第一像素单元和未被该第一触控电极和该第二触控电极覆盖的多个第二像素单元，且该第一触控电极的第一边缘和该第二触控电极的第二边缘在该阵列基板的投影全部位于该多个第一遮光部和该多个第二遮光部在该阵列基板的投影范围之内。
3.如权利要求2所述的触控显示装置，其特征在于，该触控显示面板还包括冗余导电图形，该冗余导电图形位于该彩色滤光基板上，与该触控感测层位于同一层，并分别与该第一触控电极和该第二触控电极彼此分离而电绝缘，该冗余导电图形覆盖该多个第二像素单元，且该冗余导电图形的图形边缘在该阵列基板的投影全部位于该多个第一遮光部和该多个第二遮光部在该阵列基板的该投影范围之内。
4.如权利要求3所述的触控显示装置，其特征在于，该冗余导电图形覆盖所有该多个第二像素单元。
5.如权利要求3所述的触控显示装置，其特征在于，该冗余导电图形与该第一触控电极和该第二触控电极的材质是透明导电材料。
6.如权利要求2所述的触控显示装置，其特征在于，该第一触控电极是感应电极，该第二触控电极是驱动电极。
7.如权利要求1所述的触控显示装置，其特征在于，该多个第一遮光部为相互平行的条状遮光部，该多个第二遮光部为相互平行的条状遮光部，且该多个第一遮光部与该多个第二遮光部垂直相交。
8.一种触控显示装置的制作方法，其特征在于，其包括：
制作阵列基板；
制作彩色滤光基板；
在该彩色滤光基板面对该阵列基板的表面形成黑矩阵层，该黑矩阵层包括多个第一遮光部以及与该多个第一遮光部相交的多个第二遮光部；以及
在该彩色滤光基板上形成触控感测层，并使该触控感测层的边缘在该阵列基板的投影全部位于该多个第一遮光部和该多个第二遮光部在该阵列基板的投影范围之内。
9.如权利要求1所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，该阵列基板具有显示区域，该显示区域包括从该黑矩阵层露出的多个像素单元，在该彩色滤光基板上形成该触控感测层包括：形成彼此间隔的第一触控电极和第二触控电极，并使该第一触控电极和该第二触控电极分别覆盖部分的该多个像素单元，以将该多个像素单元分为被该第一触控电极和该第二触控电极覆盖的多个第一像素单元和未被该第一触控电极和该第二触控电极覆盖的多个第二像素单元，且使该第一触控电极的第一边缘和该第二触控电极的第二边缘在该阵列基板的投影全部位于该多个第一遮光部和该多个第二遮光部在该阵列基板的投影范围之内。
10.如权利要求9所述的触控显示装置的制作方法，其特征在于，该制作方法还包括在该彩色滤光基板上形成冗余导电图形，并使该冗余导电图形与该触控感测层位于同一层，分别与该第一触控电极和该第二触控电极彼此分离而电绝缘，且使该冗余导电图形覆盖该多个第二像素单元，并且使该冗余导电图形的图形边缘在该阵列基板的投影全部位于该多个第一遮光部和该多个第二遮光部在该阵列基板的该投影范围之内。
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