CN103963371A - 一种可异地弯钢双银low-e玻璃及制备方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 64
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 28
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 5
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title abstract description 16
- 239000004332 silver Substances 0.000 title abstract description 16
- 238000005452 bending Methods 0.000 title abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 claims description 31
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 19
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 11
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 238000005496 tempering Methods 0.000 abstract description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 6
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 6
- 230000006378 damage Effects 0.000 abstract description 5
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 163
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000003026 anti-oxygenic effect Effects 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 4
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N adamantane Chemical compound C1C(C2)CC3CC1CC2C3 ORILYTVJVMAKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001573 adamantine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 229910052755 nonmetal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010561 standard procedure Methods 0.000 description 1
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明公开了一种可异地弯钢双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有九个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层，第二层为AZO层，第三层为Ag层，第四层为NiCrNy层，第五层为ZnSn层，第六层为AZO层，第七层为Ag层，第八层为NiCrOy层，最外层为Si3N4层。本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种膜层的高温抗氧化能力强，在弯曲钢化时膜层不易烧损的可异地弯钢双银LOW-E玻璃。本发明还提供一种制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种新型LOW-E玻璃，本发明还涉及一种LOW-E玻璃的制备方法。
【背景技术】
随着节能要求越来越高，单银LOW-E玻璃将被双银LOW-E玻璃所替代，为了有效的提高镀膜玻璃生产的效率和节约能源，可钢化镀膜玻璃将是未来镀膜玻璃市场的主要发展趋势，然而随着建筑外形的多样化发展要求，曲面玻璃在建筑幕墙上应用将越来越多，对可弯钢双银LOW-E的需求日益增大，现有的双银LOW-E玻璃在进行弯钢时，由于加热时间几乎是平钢的2倍，导致膜层大量被烧损坏。
【发明内容】
本发明目的是克服了现有技术的不足，提供一种膜层的高温抗氧化能力强，在弯曲钢化时膜层不易烧损的可异地弯钢双银LOW-E玻璃。本发明还提供一种制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法。
本发明是通过以下技术方案实现的：
一种可异地弯钢双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有九个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层21，第二层为AZO层22，第三层为Ag层23，第四层为NiCrNy层24，第五层为ZnSn层25，第六层为AZO层26，第七层为Ag层27，第八层为NiCrOy层28，最外层为Si3N4层29。
如上所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层的Si3N4层21的厚度为25～45nm，所述第二层AZO层22的厚度为5～15nm，所述第六层AZO层26的厚度为5～15nm。
如上所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Ag层23的厚度为5～15nm，所述第七层Ag层27的厚度为5～15nm。
如上所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层NiCrNy层24的厚度为1.5～3nm，所述第八层NiCrOy层28的厚度为1.5～3nm。
如上所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层ZnSn层25的厚度为70～100nm，所述最外层Si3N4层29的厚度为30～55nm。
一种制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：
(1)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比Si:Al＝90:10，密度96％；
(2)磁控溅射AZO层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；
(3)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；
(4)磁控溅射NiCrNy层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体；
(5)磁控溅射ZnSn层，用交流电源溅射，用氧气做反应气体；
(6)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，为Ag层作铺垫；
(7)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；
(8)磁控溅射NiCrOy层，用直流电源溅射，用氧气做反应气体，渗少量氧气；
(9)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比Si:Al＝90:10，密度96％。
如上所述的制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法，其特征在于所述第一膜层的Si3N4层21的厚度为25～45nm，所述第二层AZO层22的厚度为5～15nm，所述第六层AZO层26的厚度为5～15nm。
如上所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Ag层23的厚度为5～15nm，所述第七层Ag层27的厚度为5～15nm。
如上所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层NiCrNy层24的厚度为1.5～3nm，所述第八层NiCrOy层28的厚度为1.5～3nm，所述第五层ZnSn层25的厚度为70～100nm，所述最外层Si3N4层29的厚度为30～55nm。
与现有技术相比，本发明有如下优点：
1、本发明采用直流电源溅射，用氧气做反应气体，渗少量氧气，使得NiCr与NiCrOy共存的状态，对氧原子有较好的吸收率。能提高膜层钢化时抗高温氧化性、耐磨性、透光率。保护双银LOW-E玻璃在进行弯曲钢化后膜层外观几乎无变化。
2、本发明采用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料Si和Al，提高膜层的物理性能和抗氧化性能。
3、本发明用交流中频电源溅射陶瓷钛靶。阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏。平复银层，钢化过程中防止银层塌方，提高玻璃的折射率。
【附图说明】
图1是本发明结构示意图。
【具体实施方式】
下面结合附图对本发明进行详细阐述。
一种可异地弯钢双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有九个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层21，第二层为AZO层22，第三层为Ag层23，第四层为NiCrNy层24，第五层为ZnSn层25，第六层为AZO层26，第七层为Ag层27，第八层为NiCrOy层28，最外层为Si3N4层29。
所述第一膜层的Si3N4层21，即氮化硅层；Si3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层的物理性能和抗氧化性能，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性，设置在最内层作为保护玻璃的最后一道屏障。Si3N4层的厚度为25～45nm，nm是纳米，1m＝109nm。
所述第二层AZO层22，即铝掺杂的氧化锌层，AZO为介质层，阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏。平复银层，钢化过程中防止银层塌方，提高玻璃的折射率。AZO层的厚度为5～15nm。
所述第三层Ag层23，即金属银层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。Ag层的厚度为5～15nm。
所述第四层NiCrNy层24，即氮化镍铬层，NiCrNy为阻挡层，提高膜层的耐磨性。NiCrNy层的厚度为1.5～3nm。
所述第五层ZnSn层25，即锌锡层，ZnSn为中间干涉层，提高玻璃的折射率。ZnSn层的厚度为70～100nm。
所述第六层AZO层26，即铝掺杂的氧化锌层，AZO为介质层，阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏。平复银层，钢化过程中防止银层塌方，提高玻璃的折射率。AZO层的厚度为5～15nm。
所述第七层Ag层27，即金属银层，金属银层提供了较低的辐射率，起环保节能的作用。Ag层的厚度为5～15nm。
所述第八层NiCrOy层28，即氧化镍铬层，NiCrOy为阻挡层，还能提高膜层耐磨性、透光率、以及钢化时抗高温氧化性。NiCrOy层的厚度为1.5～3nm。
所述最外层Si3N4层29，即氮化硅层；Si3N4是一种非常坚硬的材料，提高膜层的物理性能和抗氧化性能，它确保了整个镀层具有良好的机械耐久性，设置在最外层作为保护整个膜层的第一道壁垒。Si3N4层的厚度为30～55nm。
一种制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：
(10)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体
(11)磁控溅射AZO层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶，阻挡玻璃表面的Na+对功能层的破坏。平复银层，钢化过程中防止银层塌方，提高玻璃的折射率；
(12)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射，降低辐射率；
(13)磁控溅射NiCrNy层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体，提高耐磨性；
(14)磁控溅射ZnSn层，用交流电源溅射，用氧气做反应气体，提高玻璃的折射率；
(15)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，为Ag层作铺垫，降低辐射率；
(16)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射，降低辐射率；
(17)磁控溅射NiCrOy层，用直流电源溅射，用氧气做反应气体，渗少量氧气，使得NiCr与NiCrOy共存的状态，对氧原子有较好的吸收率。能提高膜层钢化时抗高温氧化性、耐磨性、透光率；
(18)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比Si:Al＝90:10，密度96％；提高膜层的物理性能和抗氧化性能。
磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料重量比Si:Al＝85～98:2～15”；此处得到的是Si3N4，而金属Al是用于增加原材料在磁控溅射过程中的导电性能，金属Al并不参与反应，由于非金属半导体Si的导电性能极差，如不采用金属Al混合增加导电性能将无法顺利进行磁控溅射Si3N4层。
本发明的优选方案：
所述第一膜层的Si3N4层21的厚度为35nm，所述第二层AZO层22的厚度为10nm，所述第三层Ag层23的厚度为10nm，所述第四层NiCrNy层24的厚度为2nm，所述第五层ZnSn层25的厚度为80nm，所述第六层AZO层26的厚度为10nm，所述第七层Ag层27的厚度为10nm，所述第八层NiCrOy层28的厚度为2nm，所述最外层Si3N4层29的厚度为45nm。
Low-E玻璃也称为低辐射镀膜玻璃。
本发明采用磁控溅射法将镀膜层溅射在玻璃基材上，渗入少量气体，提高膜层的高温抗氧化性能。前后保护层较厚，大大提高了膜层的机械性能，方便玻璃的运输。镀膜层与玻璃基材的结合力强、镀膜层致密、均匀。本玻璃钢化前后透过率偏差小于1.5％，漂移小，ΔE<1.0，颜色偏差小，按国标法测耐磨ΔE<2.0。
本玻璃透光率T(透过透明或半透明体的光通量与其入射光通量的百分率)达84％；本玻璃辐射率≤0.08，辐射率是某物体的单位面积辐射的热量同单位面积黑体在相同温度、相同条件下辐射热量之比。辐射率定义是某物体吸收或反射热量的能力。玻璃的辐射率越接近于零，其绝热性能就越好。
Claims (9)
1.一种可异地弯钢双银LOW-E玻璃，包括有玻璃基片(1)，其特征在于：在玻璃基片的复合面上由内到外依次相邻地复合有九个膜层，其中第一膜层即最内层为Si3N4层(21)，第二层为AZO层(22)，第三层为Ag层(23)，第四层为NiCrNy层(24)，第五层为ZnSn层(25)，第六层为AZO层(26)，第七层为Ag层(27)，第八层为NiCrOy层(28)，最外层为Si3N4层(29)。
2.根据权利要求1所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第一膜层的Si3N4层(21)的厚度为25～45nm，所述第二层AZO层(22)的厚度为5～15nm，所述第六层AZO层(26)的厚度为5～15nm。
3.根据权利要求1所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Ag层(23)的厚度为5～15nm，所述第七层Ag层(27)的厚度为5～15nm。
4.根据权利要求1所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层NiCrNy层(24)的厚度为1.5～3nm，所述第八层NiCrOy层(28)的厚度为1.5～3nm。
5.根据权利要求1所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第五层ZnSn层(25)的厚度为70～100nm，所述最外层Si3N4层(29)的厚度为30～55nm。
6.一种制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法，其特征在于包括如下步骤：
(1)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比Si:Al＝90:10，密度96％；
(2)磁控溅射AZO层，用交流中频电源溅射陶瓷钛靶；
(3)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；
(4)磁控溅射NiCrNy层，用直流电源溅射，用氮气做反应气体；
(5)磁控溅射ZnSn层，用交流电源溅射，用氧气做反应气体；
(6)磁控溅射AZO层，用中频交流电源溅射陶瓷Zn靶，为Ag层作铺垫；
(7)磁控溅射Ag层，用交流电源溅射；
(8)磁控溅射NiCrOy层，用直流电源溅射，用氧气做反应气体，渗少量氧气；
(9)磁控溅射Si3N4层，用交流中频电源、氮气作反应气体溅射半导体材料SiAl重量比Si:Al＝90:10，密度96％。
7.根据权利要求1所述的制备可异地弯钢双银LOW-E玻璃的方法，其特征在于所述第一膜层的Si3N4层(21)的厚度为25～45nm，所述第二层AZO层(22)的厚度为5～15nm，所述第六层AZO层(26)的厚度为5～15nm。
8.根据权利要求1所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第三层Ag层(23)的厚度为5～15nm，所述第七层Ag层(27)的厚度为5～15nm。
9.根据权利要求1所述的可异地弯钢双银LOW-E玻璃，其特征在于所述第四层NiCrNy层(24)的厚度为1.5～3nm，所述第八层NiCrOy层(28)的厚度为1.5～3nm，所述第五层ZnSn层(25)的厚度为70～100nm，所述最外层Si3N4层(29)的厚度为30～55nm。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201410182461.5A CN103963371B (zh) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 一种可异地弯钢双银low-e玻璃及制备方法 |
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|---|---|
| CN103963371A true CN103963371A (zh) | 2014-08-06 |
| CN103963371B CN103963371B (zh) | 2016-06-22 |
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ID=51233591
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410182461.5A Active CN103963371B (zh) | 2014-04-30 | 2014-04-30 | 一种可异地弯钢双银low-e玻璃及制备方法 |
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|---|---|
| CN (1) | CN103963371B (zh) |
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| CN105936590A (zh) * | 2016-07-06 | 2016-09-14 | 中山市格兰特实业有限公司 | 一种低透低反双银low-e玻璃及其制备方法 |
| CN109809712A (zh) * | 2019-03-27 | 2019-05-28 | 揭阳市宏光镀膜玻璃有限公司 | 磷掺杂自洁净非对称类双银low-e玻璃及其制备方法 |
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|---|---|
| CN103963371B (zh) | 2016-06-22 |
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| GR01 | Patent grant | ||
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