CN103940459A - 一种刀片齿形检具 - Google Patents

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李长清
王军伟
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Abstract

本发明涉及一种刀片齿形检具，包括检具本体，检具本体上设有放置刀片的V形槽，V形槽由第一定位面和第二定位面组成，第一定位面上侧设有第一凸块，第二定位面上侧设有第二凸块，第二定位面下侧设有第三凸块，第一凸块、第二凸块和第三凸块均具有一个与V形槽的槽面相平行的贴靠面，刀片由刀片底面和两个刀片工作面组成，刀片底面贴靠在第二凸块的贴靠面和第三凸块的贴靠面上，其中一个刀片工作面的上端贴靠在第一凸块的贴靠面上。检具本体的V形槽上设有的第一凸块、第二凸块和第三凸块使得切削刃不会与V形槽的槽面接触，使刀片的切削刃不会产生损伤，保证刀片的精度，也方便了检测设备对刀片的检测，保证了检测设备对刀片的检测精准度。

Description

一种刀片齿形检具
技术领域
 本发明涉及一种用于刀片检测的刀片齿形检具。
背景技术
刀片加工完毕后，需要对刀片进行检测，获得刀片的各种性能参数，以保证刀片的加工精度。在用检测设备对刀片进行检测时，需要将刀片放置到检具上，以备检测。目前所用的检具结构较复杂，且容易损伤刀片的切削刃，影响刀片的精度，而且对于检测设备对刀片的检测精准度有影响。
发明内容
本发明的目的在于提供一种结构简单、不会损伤刀片切削刃、不会影响检测精准度的刀片齿形检具。
为实现上述技术目的，达到上述技术效果，本发明通过以下技术方案实现：一种刀片齿形检具，包括检具本体，所述检具本体上设有放置刀片的V形槽，所述V形槽由第一定位面和第二定位面组成，所述第一定位面上侧设有第一凸块，所述第二定位面上侧设有第二凸块，第二定位面下侧设有第三凸块，所述第一凸块、第二凸块和第三凸块均具有一个与所述V形槽的槽面相平行的贴靠面，所述刀片由刀片底面和两个刀片工作面组成，所述刀片底面贴靠在所述第二凸块的贴靠面和第三凸块的贴靠面上，其中一个刀片工作面的上端贴靠在第一凸块的贴靠面上。
进一步的，所述V形槽的底部为圆弧结构。
本发明的有益效果是：本发明刀片齿形检具的检具本体上设有V形槽，V形槽的第一定位面上设有第一凸块，第二定位面上侧设有第二凸块，第二定位面下侧设有第三凸块，刀片底面贴靠在第二凸块的贴靠面和第三凸块的贴靠面上，其中一个刀片工作面的上端贴靠在第一凸块的贴靠面上。这样的设计使得夹在检具本体上的刀片，其工作面上的切削刃不会与V形槽的槽面接触，不会产生损伤，保证刀片的精度。而且，刀片的工作面不与V形槽的槽面接触，更方便了检测设备对刀片的检测，保证了检测设备对刀片的检测精准度。
附图说明
图1是本发明（装入刀片）的结构示意图。
图中标号说明：1：检具本体；2：V形槽；3：第一定位面；4：第二定位面；5：第一凸块； 6：刀片底面；7：刀片工作面；8：第二凸块；9：第三凸块；10：贴靠面。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
如图1所示，一种刀片齿形检具，包括检具本体1，所述检具本体1上设有放置刀片的V形槽2，所述V形槽2由第一定位面3和第二定位面4组成，所述V形槽2的底部为圆弧结构。所述第一定位面3上侧设有第一凸块5，所述第二定位面4上侧设有第二凸块8，第二定位面4下侧设有第三凸块9，所述第一凸块5、第二凸块8和第三凸块9均具有一个与所述V形槽2的槽面相平行的贴靠面10，所述刀片由刀片底面6和两个刀片工作面7组成，放置刀片时，将所述刀片底面6贴靠在所述第二凸块8的贴靠面10和第三凸块9的贴靠面10上，将其中一个刀片工作面7的上端贴靠在第一凸块5的贴靠面10上。
检具本体1的V形槽2上设有的第一凸块5、第二凸块8和第三凸块9使得刀片的切削刃不会与V形槽2的槽面接触，使刀片的切削刃不会产生损伤，保证刀片的精度，也方便了检测设备对刀片的检测，保证了检测设备对刀片的检测精准度
需要强调的是：以上仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制，凡是依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本发明技术方案的范围内。

Claims (2)

1.一种刀片齿形检具，其特征在于：包括检具本体，所述检具本体上设有放置刀片的V形槽，所述V形槽由第一定位面和第二定位面组成，所述第一定位面上侧设有第一凸块，所述第二定位面上侧设有第二凸块，第二定位面下侧设有第三凸块，所述第一凸块、第二凸块和第三凸块均具有一个与所述V形槽的槽面相平行的贴靠面，所述刀片由刀片底面和两个刀片工作面组成，所述刀片底面贴靠在所述第二凸块的贴靠面和第三凸块的贴靠面上，其中一个刀片工作面的上端贴靠在第一凸块的贴靠面上。
2. 根据权利要求1所述的刀片齿形检具，其特征在于：所述V形槽的底部为圆弧结构。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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