CN103911589A - 一种镀膜机真空冷却装置 - Google Patents

Abstract

本发明的目的是提供一种镀膜机真空冷却装置，包括真空泵、油扩散泵和冷水槽，真空泵与油扩散泵连接在一起，真空泵与镀膜室连接在一起，油扩散泵与镀膜室连接在一起；几根气管上分别设置有前级阀门、预抽气阀门、放气阀门、高真空阀门和冷井；在冷井连接有第一水管和第二水管，其中第一水管连接循环水箱，第二水管连接着冷水槽，循环水箱和冷水槽通过第三水管也连接在一起构成一个循环冷却***；本装置可以有效地保持镀膜室的真空度，使冷井温度可以有效地降低，使镀膜室的油蒸汽回返率下降，排除了环境温度对镀膜的影响，提高了镀膜室的真空洁净度，镀膜质量提高，适用于生产中。

Description

一种镀膜机真空冷却装置

技术领域

本发明涉及真空镀膜机领域，尤其涉及一种镀膜机真空冷却装置。

背景技术

真空镀膜机顾名思义必须要在真空的环境下进行镀膜，而除了抽真空，在抽真空中还需进行冷却，传统的采用冷井冷却，但是传统的冷却方式易受到外界环境温度的影响，况且生产中许多冷却装置采用同一循环冷却水池进行冷却，其必然对真空的冷却达不到效果，这样就会引起油蒸汽反流油分子滞阻捕捉性能下降，会导致油分子反渗到镀膜室的几率增加，对镀膜元件造成污染，因此解决这一问题就显得十分必要了。

发明内容

本发明提供一种镀膜机真空冷却装置，采用真空泵和油扩散泵进行抽真空，并设置一些阀门配合使用，采用单独的冷却循环装置进行冷却，解决了背景技术中出现的问题。

本发明的目的是提供一种镀膜机真空冷却装置，包括有真空泵和油扩散泵进行抽真空，冷水槽进行冷却，真空泵通过第三气管与油扩散泵连接在一起，真空泵通过第一气管、第四气管和第五中间与镀膜室连接在一起，油扩散泵通过第五气管与镀膜室连接在一起，在第一气管右侧连接有带有泄气阀门的第二气管进行泄气；在第三气管上设置有前级阀门，第四气管上设置有预抽气阀门；第五气管上设置有冷井和高真空阀门，在第五气管还连接带有放气阀门的第六气管进行放气；在冷井连接有第一水管和第二水管，其中第一水管连接循环水箱，第二水管连接着冷水槽，循环水箱和冷水槽通过第三水管也连接在一起。

进一步改进在于：冷水槽是半导体低温冰箱。

进一步改进在于：在第二水管与冷水槽之间还设置有设置有热交换器进行热交换。

进一步改进在于：在第三水管上的位于循环水箱内的开头部分设置有水阀门控制水的循环，第三水管上设置水泵。

本发明的有益效果：本装置通过采用真空泵和油扩散泵进行抽真空，并设置一些阀门配合使用，可以有效地保持镀膜室的真空度，在冷井上通过水管连接循环水箱和冷水槽构成一个循环冷却***，使冷井温度可以有效地降低，使镀膜室的油蒸汽回返率下降，排除了环境温度对镀膜的影响，提高了镀膜室的真空洁净度，镀膜质量提高，适用于生产中。

附图说明

图1是本发明的示意图。

其中：1-真空泵，2-冷水槽，3-第一气管，4-第二气管，5-泄气阀门，6-第三气管，7-油扩散泵，8-前级阀门，9-第四气管，10-预抽气阀门，11-第五气管，12-镀膜室，13-冷井，14-高真空阀门，15-第六气管，16-放气阀门，17-第一水管，18-第二水管，19-循环水箱，20-第三水管，21-热交换器，22-水阀门，23-水泵。

具体实施方式

为了加深对本发明的理解，下面将结合实施例对本发明作进一步详述，该实施例仅用于解释本发明，并不构成对本发明保护范围的限定。

如图1所示，本实施例提供一种镀膜机真空冷却装置，包括有真空泵1和油扩散泵7进行抽真空，冷水槽2进行冷却，真空泵1通过第三气管6与油扩散泵7连接在一起，真空泵1通过第一气管3、第四气管9和第五中间11与镀膜室12连接在一起，油扩散泵7通过第五气管11与镀膜室12连接在一起，在第一气管3右侧连接有带有泄气阀门5的第二气管4进行泄气；在第三气管6上设置有前级阀门8，第四气管9上设置有预抽气阀门10；第五气管11上设置有冷井13和高真空阀门14，在第五气管11上还连接带有放气阀门16的第六气管15进行放气；在冷井13连接有第一水管17和第二水管18，其中第一水管17连接循环水箱19，第二水管18连接着冷水槽2，冷水槽2是半导体低温冰箱；循环水箱19和冷水槽2通过第三水管20也连接在一起；在第二水管18与冷水槽2之间还设置有设置有热交换器21进行热交换；在第三水管20上的位于循环水箱19内的开头部分设置有水阀门22控制水的循环，在第三水管20上设置水泵23。本装置通过采用真空泵1和油扩散泵7进行抽真空，并设置一些阀门配合使用，可以有效地保持镀膜室12的真空度，在冷井13上通过水管连接循环水箱19和冷水槽2构成一个循环冷却***，使冷井13温度可以有效地降低，使镀膜室12的油蒸汽回返率下降，排除了环境温度对镀膜的影响，提高了镀膜室12的真空洁净度，镀膜质量提高，适用于生产中。

Claims (4)

1.一种镀膜机真空冷却装置，包括有真空泵（1）和冷水槽（2），其特征在于：所述真空泵（1）上方连接有第一气管（3），第一气管（3）中间右侧连接有第二气管（4），第二气管（4）上设置有泄气阀门（5）；第一气管（3）中间偏上左侧设置有第三气管（6），第三气管（6）的末端连接有油扩散泵（7），第三气管（6）上设置有前级阀门（8）；第一气管（3）的末端向左连接有第四气管（9），第四气管（9）上设置有预抽气阀门（10）；油扩散泵（7）上方连接有第五气管（11），第五气管（11）的末端连接有镀膜室（12），第五气管（11）上中间偏下部分从下到上依次设置有冷井（13）和高真空阀门（14），第五气管（11）中间偏上右侧连接着第四气管（9），第五气管（11）的上部向左连接有第六气管（15），第六气管（15）上设置有放气阀门（16）；所述冷井（13）左侧从上到下依次设置有第一水管（17）和第二水管（18），第一水管（17）的末端连接有循环水箱（19），第二水管（18）的末端连接着冷水槽（2），循环水箱（19）和冷水槽（2）之间设置有第三水管（20）连接起来。

2.如权利要求1所述一种镀膜机真空冷却装置，其特征在于：所述冷水槽（2）为半导体低温冰箱。

3.如权利要求1所述一种镀膜机真空冷却装置，其特征在于：所述第二水管（18）与冷水槽（2）之间设置有热交换器（21）。

4.如权利要求1所述一种镀膜机真空冷却装置，其特征在于：所述第三水管（20）上位于循环水箱（19）内设置有水阀门（22），第三水管（20）上中间还设置水泵（23）。