CN103903818B - 一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法 - Google Patents

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本发明公开了一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法,属于石墨烯制备及其应用技术领域。本发明采用多种非刻蚀的物理方法对金属基底上的石墨烯进行剥离,通过超声形成分散液,并加入高电导率的导电高分子进行稳定化处理,得到稳定的分散液。将所得到的分散液用线棒涂膜、喷涂或刮涂等成方式在透明基底上成膜,即可得到厚度可控的石墨烯透明导电膜。该方法可以实现化学气相沉积过程中金属基底的循环利用,无需后续转移步骤,经济、简便,并且将化学气相沉积法制备的高质量石墨烯与连续化液相制膜的工艺结合起来,能够大量制备高质量的石墨烯基透明导电膜。

Description

一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法
技术领域
本发明涉及石墨烯制备以及基于石墨烯材料的大面积成膜技术,具体涉及一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法,属于材料应用(光电器件)领域。
背景技术
透明导电膜是许多常用光电器件的重要组成部分,在太阳能电池、触摸屏、有机发光二极管、液晶显示器等器件中广泛应用,从而成为人们广泛关注和研究的对象(Nano Letters2008,8(1),323-327;Advanced Materials2012,24(21),2874-2878;Acs Nano2010,4(1),43-48.)。然而现有商用透明导电材料ITO具有很大的局限性,如成本高、脆性大,不适用于现在光电器件柔性化的发展趋势。因而,研究成本低廉、性能优异且能够大量制备的透明导电膜材料作为ITO的替代品对于光电领域具有重要的意义(Advanced Materials2011,23(13),1482-1513.)。
石墨烯具有独特的二维结构,自2004年发现以来,其优异的导电性和透光性以及卓越的机械强度已经成为现代材料领域研究的热点,因此,石墨烯基的透明导电材料也被认为是用于柔性透明导电薄膜的理想材料(Nature Materials2007,6(3),183-191.)。其中,化学气相沉积法制备的石墨烯具有接近理论值的电导率和透光性,从而在透明导电膜研究领域受到广泛关注,并成功应用于大面积触摸屏器件(Nature Nanotechnology2010,5(8),574-578.),因此是一种较理想的柔性透明导电材料。
然而,化学气相沉积法制备的石墨烯通常需要后续的刻蚀金属基底、转移到适合的透明基底的步骤,这些步骤不仅是对于金属的浪费,转移的操作也较 为困难(Advanced Materials2013,25(32),4521-4526.),得到的石墨烯膜容易产生缺陷和引入杂质,不利于制备大面积的石墨烯膜。液相成膜方法如线棒涂膜、喷涂等方法能够连续化制备大面积均匀的薄膜材料,且操作简便、实用性强(Advanced Materials2012,24(21),2874-2878.),目前为止,还没有人报道将其应用于化学气相沉积石墨烯透明导电膜中。
发明内容
针对已有技术的不足,本发明的目的在于提供一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法,所述方法通过将化学气相沉积(CVD)法制备的石墨烯材料通过液相成膜法制膜,并应用于透明导电膜材料领域。
为了达到上述目的,本发明采用了如下技术方案:
一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法,所述方法包括如下步骤:
将化学气相沉积石墨烯在液相中采用物理剥离方法将石墨烯从金属基底中剥离下来,并超声得到石墨烯分散液,然后向石墨烯分散液中加入导电高分子得到稳定分散液,再通过涂膜方法将稳定分散液涂敷于透明基底,干燥,得到大面积石墨烯透明导电膜。
本发明采用不同金属基底上生长的单层或少层的化学气相沉积石墨烯为原料制备分散液,并利用多种可用于连续化液相成膜的方法在不同目标衬底上获得石墨烯透明导电膜。
本发明采用多种非刻蚀的物理方法对金属基底上的石墨烯进行剥离,超声形成分散液,并加入高电导率的导电高分子进行稳定化处理,得到稳定的分散液。将所得到的稳定分散液用线棒涂膜、喷涂或刮涂等成膜方法在透明基底上成膜,即可得到厚度可控的石墨烯透明导电膜。
本发明通过复合导电高分子等导电材料对石墨烯透明导电膜的成膜性和导 电性进行辅助增强,克服了化学气相沉积的石墨烯在非刻蚀的物理剥离过程中由于会打碎大片石墨烯,而对其性能造成影响的缺点,得到了高的透光导电性能的石墨烯透明导电膜。
本发明所述“大面积石墨烯透明导电膜”是指单边长度大于10厘米且涂膜面积大于100平方厘米的石墨烯透明导电膜。
所述化学气相沉积石墨烯即采用CVD法制备得到的石墨烯,示例性的CVD法制备石墨烯的方法如下所示:
采用铜箔、通网、铜箔或镍网等作为金属催化剂,其同时作为生长基底,在高温(800~1000℃)下反应,得到化学气相沉积石墨烯。
所述液相为极性溶剂,优选乙醇或/和去离子水。
采用化学气相沉积法制备得到的石墨烯由于沉积在基底上,因此需要将其从金属基底中剥离。本发明所述物理剥离方法选自超声、离心、摩擦、振荡或表面张力中的任意一种或者至少两种的组合。
示例性的超声方法指:将化学气相沉积石墨烯在液相中,在超声的条件下将石墨烯从金属基底中剥离。
示例性的离心方法指:将化学气相沉积石墨烯放置在离心管中,在离心力的作用下,使在液相中的石墨烯从金属基底中剥离。
示例性的摩擦方法指:采用球磨等方法将在液相中的石墨烯从金属基底中剥离。
示例性的振荡方法指:将化学气相沉积石墨烯放置在振荡器中,使在液相中的石墨烯从金属基底中剥离。
示例性的表面张力方法指:将化学气相沉积石墨烯的金属基底表面切成2mm×2mm的小方格,然后将其以45度角缓慢***液相中,使石墨烯从基底中 剥离。
所述石墨烯分散液的浓度为20~2000cm2/ml,即每ml的石墨烯分散液中含有20~2000cm2的石墨烯,例如100cm2、150cm2、200cm2、250cm2、300cm2、400cm2、500cm2、600cm2、700cm2、800cm2、900cm2、1000cm2、1100cm2、1200cm2、1300cm2、1400cm2、1500cm2、1600cm2、1700cm2、1800cm2或1900cm2。此浓度范围是根据不同成膜方法所需要的溶液量以及成膜面积来选择的,以保证成膜后在该面积上有所需的石墨烯覆盖量。
为进一步提高石墨烯分散液的稳定性、提高电导率,在此石墨烯分散液中加入一定量导电高分子进一步制备稳定分散液。所述导电高分子为可溶于极性溶剂的透明导电高分子,优选PEDOT:PSS。
所述导电高分子的用量为0.001~1mg/cm2石墨烯,即每平方厘米的石墨烯需要添加的导电高分子的量为0.001~1mg,例如0.005mg、0.01mg、0.05mg、0.1mg、0.2mg、0.3mg、0.4mg、0.5mg、0.6mg、0.7mg、0.8mg、0.9mg或1mg,该石墨烯的面积即指CVD法中在金属基底上沉积的石墨烯的面积。选择此范围的导电高分子的含量,是根据能够稳定分散石墨烯所用的最少导电高分子量以及能够起到增强导电作用而不影响石墨烯膜完整性的最大用量来确定的。
本发明向石墨烯分散液中加入导电高分子后,超声,得到稳定分散液,所述超声时间为10~120分钟,例如15分钟、20分钟、25分钟、30分钟、35分钟、40分钟、45分钟、50分钟、55分钟、60分钟、65分钟、70分钟、75分钟、80分钟、85分钟、90分钟、95分钟、100分钟、105分钟、110分钟或115分钟。
所述涂膜方法为棒涂(线棒涂膜)、喷涂或刮涂。
所述透明基底为无机或有机透明基底,优选玻璃、石英、PET或PDMS等 透明基底。
与已有技术相比,本发明具有如下有益效果:
该方法可以实现化学气相沉积过程中金属基底的循环利用,无需后续刻蚀、转移步骤,经济、简便,并且将化学气相沉积法制备的高质量石墨烯与连续化液相制膜的工艺结合起来,能够大量制备高质量的石墨烯基透明导电薄膜。
用此方法得到的石墨烯基透明导电膜透光及导电性能良好,平均电阻可达到8~700Ω/□,在550nm波长处透光率可达到65-95%,可以进行大面积连续化制备,最大可实现0.03平米且连续化生产条件下30平米/小时的石墨烯透明导电膜的制备。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。但这些实施例仅限于说明本发明而不用于限制本发明的范围。下列实施例中未注明具体实验条件的实验方法,通常按照常规条件,或按照厂商所建议的条件。
实施例1
(1)石墨烯透明导电膜的制备:将金属基底铜箔放入管式炉,氢气气氛(500sccm)下升高温度至1020℃,通入碳源甲烷10sccm保持10分钟,关闭甲烷气源,降温至室温后取出样品,得到化学气相沉积石墨烯。将长有石墨烯的铜箔(5cm2)放入1ml乙醇溶液中,超声30分钟后取出铜箔,再放入一张5cm2的长有石墨烯的铜箔,进行上述操作,重复10次,得到一定浓度的石墨烯分散液。向该分散液中加入0.1gPEDOT:PSS溶液(Clevios PH1000,其中PEDOT:PSS质量分数为1.3%)继续超声10分钟,得到稳定分散液。将稳定分散液用线棒(Φ0.2mm)在透明基底上涂成有效面积为15cm×20cm的膜,于60℃干燥2小时得到石墨烯透明导电膜。
(2)测试所制备的石墨烯透明导电膜的透光、导电性:用四探针测试仪对所得的石墨烯透明导电膜的导电性进行测试,测得平均电阻为85Ω/□;用紫外/可见/近红外分光光度计对所得的石墨烯透明导电膜的透光性进行测试,在550nm波长处透光率为87%。
实施例2
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除超声铜箔过程重复20次外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为35Ω/□,在550nm波长处透光率为76%。
实施例3
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除超声铜箔过程重复5次外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为278Ω/□,在550nm波长处透光率为92%。
实施例4
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯分散液,除将稳定分散液用喷涂方法制膜,得到的膜有效面积为10cm×10cm,于60℃干燥2小时得到石墨烯透明导电膜外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为102Ω/□,在550nm波长处透光率为85%。
实施例5
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除化学气相沉积过程中所用的金属基底为镍箔外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为17Ω/□,在550nm波长处透光率为72%。
实施例6
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除化学气相沉积过程中所用的金属基底为镍箔,超声剥离时间为60分钟外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为11Ω/□,在550nm波长处透光率为70%。
实施例7
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除加入的PEDOT:PSS溶液为0.2g外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为20Ω/□,在550nm波长处透光率为85%。
实施例8
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除加入的PEDOT:PSS溶液为0.01g外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为230Ω/□,在550nm波长处透光率为88%。
实施例9
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除剥离方法为离心剪切力法,即将长有石墨烯的铜箔(5cm2)固定在离心管中,使离心管自转(10000转每分)30分钟后,放入新的长有石墨烯的铜箔,此过程重复10次外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为360Ω/□,在550nm波 长处透光率为88%。
实施例10
(1)按照实施例1中(1)的方法制备长有石墨烯的铜箔,除剥离方法为表面张力法,即将铜箔(5cm2)表面用刀片轻轻划满2mm×2mm的小方格,然后将其以45度角缓慢***乙醇溶液中,然后换用新的长有石墨烯的铜箔将此过程重复10次外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为410Ω/□,在550nm波长处透光率为89%。
实施例11
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除加入的PEDOT:PSS溶液为1g,超声铜箔过程重复5次外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为130Ω/□,在550nm波长处透光率为81%。
实施例12
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除化学气相沉积过程中所用的金属基底为镍箔,生长时间为20分钟,超声剥离时间为120分钟外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为8Ω/□,在550nm波长处透光率为65%。
实施例13
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除化学气相沉积过程生长时间为5分钟,超声剥离时间为10分钟外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为190Ω/□,在550nm波 长处透光率为88%。
实施例14
(1)按照实施例1中(1)的方法制备石墨烯透明导电膜,除超声铜箔过程重复2次外。
(2)按照实施例1中(2)的方法测得平均电阻为620Ω/□,在550nm波长处透光率为95%。
申请人声明,本发明通过上述实施例来说明本发明的详细方法,但本发明并不局限于上述详细方法,即不意味着本发明必须依赖上述详细方法才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了,对本发明的任何改进,对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等,均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (9)

1.一种大面积石墨烯透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:
将化学气相沉积石墨烯在液相中采用物理剥离方法将石墨烯从金属基底中剥离下来,并超声得到石墨烯分散液,然后向石墨烯分散液中加入导电高分子得到稳定分散液,再通过涂膜方法将稳定分散液涂敷于透明基底,干燥,得到大面积石墨烯透明导电膜;
所述导电高分子为PEDOT:PSS;所述导电高分子的用量为0.01~1mg/cm2石墨烯。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述液相为极性溶剂。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述液相为乙醇或/和去离子水。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述物理剥离方法选自超声、离心、摩擦、振荡或表面张力中的任意一种或者至少两种的组合。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述石墨烯分散液的浓度为20~2000cm2/ml。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,向石墨烯分散液中加入导电高分子后,超声,得到稳定分散液,所述超声时间为10~120分钟。
7.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述涂膜方法为棒涂、喷涂或刮涂。
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述透明基底为无机或有机透明基底。
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述透明基底为玻璃、石英、PET或PDMS。
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