CN103846408A - 一种改进的压铸熔炉 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种改进的压铸熔炉，其特征在于：包括第一熔炉和置于第一熔炉下端的第二熔炉，第一熔炉的底部为上大下小的锥形，第一熔炉的锥形底部上设有多组引流道，第一熔炉的底部通过流通管与第二熔炉连接，流通管的中间设有初滤层，初滤层的上下两侧均设有阀门，第一熔炉的中部围有一圈搅拌轴，搅拌轴上设有搅拌叶，第一熔炉上设有进料盖，第二熔炉的中部设有精滤层，精滤层上端设有横轴，横轴上设有刮板，第二熔炉的侧壁中部设有出渣口。本发明的优点是：第一熔炉中的搅拌轴和搅拌叶可对金属熔液进行搅拌，使得金属锭熔化的更彻底，而初滤层和精滤层能彻底清除金属熔液中的浮渣，第一熔炉底部的引流道金属熔液起到引流的作用。

Description

一种改进的压铸熔炉
技术领域
本发明涉及压铸机领域，尤其涉及一种改进的压铸熔炉。
背景技术
在传统的压铸机中，都只是采用一个熔炉，在将金属锭熔化的过程中，不能被彻底的熔化，造成原材料的浪费，而且在熔化的过程中，会在金属熔液的上方漂浮有一层浮渣，必须适时的清除，方可避免浮渣重新混入到金属熔液中，而在一个熔炉中，对浮渣的清除必须将清除工具从上方的进口深入到熔炉内，在操作的过程中，会发生金属熔液喷溅的情况，给操作人员带来危险。因此，需要一种新的技术来解决这一问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种改进的压铸熔炉。
本发明采用的技术方案是：
一种改进的压铸熔炉，包括第一熔炉和置于第一熔炉下端的第二熔炉，所述第一熔炉的底部为上大下小的锥形，所述第一熔炉的锥形底部上设有多组引流道，所述第一熔炉的底部通过流通管与第二熔炉连接，所述流通管的中间设有初滤层，所述初滤层的上下两侧均设有阀门，所述第一熔炉的中部围有一圈搅拌轴，所述搅拌轴上设有搅拌叶，所述第一熔炉上设有进料盖，所述第二熔炉的中部设有精滤层，所述精滤层上端设有横轴，所述横轴上设有刮板，所述第二熔炉的侧壁中部设有出渣口，所述出渣口上设有挡门，所述第二熔炉的底部设有出料口，所述第一熔炉和第二熔炉的外部设有燃烧室，所述燃烧室的外设有耐火材料层。
所述搅拌叶为螺旋状。
所述引流道为8-10道。
所述进料盖上设有透视窗。
本发明的优点是：第一熔炉中的搅拌轴和搅拌叶可对金属熔液进行搅拌，使得金属锭熔化的更彻底，而初滤层和精滤层能彻底清除金属熔液中的浮渣，第一熔炉底部的引流道金属熔液起到引流的作用。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
图1为本发明的结构示意图。
其中：1、第一熔炉，2、第二熔炉，3、引流道，4、流通管，5、初滤层，6、阀门，7、搅拌轴，8、搅拌叶，9、进料盖，10、精滤层，11、横轴，12、刮板，13、出渣口，14、挡门，15、出料口，16、燃烧室，17、耐火材料层，18、透视窗。
具体实施方式
如图1所示，本发明的一种改进的压铸熔炉，包括第一熔炉1和置于第一熔炉1下端的第二熔炉2，第一熔炉1的底部为上大下小的锥形，第一熔炉1的锥形底部上设有九道引流道3，第一熔炉1的底部通过流通管4与第二熔炉2连接，流通管4的中间设有初滤层5，初滤层5的上下两侧均设有阀门6，第一熔炉1的中部围有一圈搅拌轴7，搅拌轴7上设有呈螺旋状的搅拌叶8，第一熔炉1上设有进料盖9，第二熔炉2的中部设有精滤层10，精滤层10上端设有横轴11，横轴11上设有刮板12，第二熔炉2的侧壁中部设有出渣口13，出渣口13上设有挡门14，第二熔炉2的底部设有出料口15，第一熔炉1和第二熔炉2的外部设有燃烧室16，燃烧室16的外设有耐火材料层17，进料盖9上设有透视窗18。第一熔炉1中的搅拌轴7和搅拌叶8可对金属熔液进行搅拌，使得金属锭熔化的更彻底，而初滤层5和精滤层10能彻底清除金属熔液中的浮渣，第一熔炉1底部的引流道3金属熔液起到引流的作用。

Claims (4)

1.一种改进的压铸熔炉，其特征在于：包括第一熔炉和置于第一熔炉下端的第二熔炉，所述第一熔炉的底部为上大下小的锥形，所述第一熔炉的锥形底部上设有多组引流道，所述第一熔炉的底部通过流通管与第二熔炉连接，所述流通管的中间设有初滤层，所述初滤层的上下两侧均设有阀门，所述第一熔炉的中部围有一圈搅拌轴，所述搅拌轴上设有搅拌叶，所述第一熔炉上设有进料盖，所述第二熔炉的中部设有精滤层，所述精滤层上端设有横轴，所述横轴上设有刮板，所述第二熔炉的侧壁中部设有出渣口，所述出渣口上设有挡门，所述第二熔炉的底部设有出料口，所述第一熔炉和第二熔炉的外部设有燃烧室，所述燃烧室的外设有耐火材料层。
2.根据权利要求1所述的一种改进的压铸熔炉，其特征在于：所述搅拌叶为螺旋状。
3.根据权利要求1所述的一种改进的压铸熔炉，其特征在于：所述引流道为8-10道。
4.根据权利要求1所述的一种改进的压铸熔炉，其特征在于：所述进料盖上设有透视窗。
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PB01 Publication
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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