CN103789770A - 大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术及抛光液 - Google Patents
大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术及抛光液 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103789770A CN103789770A CN201410052193.5A CN201410052193A CN103789770A CN 103789770 A CN103789770 A CN 103789770A CN 201410052193 A CN201410052193 A CN 201410052193A CN 103789770 A CN103789770 A CN 103789770A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- chemical
- chemical polishing
- polishing
- alloy surface
- large block
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 78
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 22
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims abstract description 16
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 13
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000009996 mechanical pre-treatment Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 26
- 238000005282 brightening Methods 0.000 claims description 21
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 18
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 12
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 11
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 11
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 9
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 9
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 claims description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 6
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 claims description 6
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 claims description 4
- 239000003925 fat Substances 0.000 claims description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 4
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 claims description 4
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 102000004160 Phosphoric Monoester Hydrolases Human genes 0.000 claims description 3
- 108090000608 Phosphoric Monoester Hydrolases Proteins 0.000 claims description 3
- 229910001069 Ti alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000013543 active substance Substances 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims description 3
- 230000000937 inactivator Effects 0.000 claims description 3
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 claims description 3
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 claims description 3
- 229940051841 polyoxyethylene ether Drugs 0.000 claims description 3
- 229920000056 polyoxyethylene ether Polymers 0.000 claims description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 abstract description 5
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 abstract 1
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 abstract 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 abstract 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 abstract 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N hexamethylenetetramine Chemical compound C1N(C2)CN3CN1CN2C3 VKYKSIONXSXAKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000004312 hexamethylene tetramine Substances 0.000 description 3
- 235000010299 hexamethylene tetramine Nutrition 0.000 description 3
- 239000002707 nanocrystalline material Substances 0.000 description 3
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 101100317041 Caenorhabditis elegans vit-1 gene Proteins 0.000 description 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 238000004512 die casting Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000005389 magnetism Effects 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 150000003016 phosphoric acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 210000004243 sweat Anatomy 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
本发明提供了一种大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，包括化学抛光处理的常规工艺：机械前处理→碱洗除油→热水洗→稀硝酸→水洗→烘干，以及常规工艺烘干工序后的工艺为：化学抛光→水洗→钝化→中和→热水洗→烘干。本发明还提供了所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术使用的由抛光剂主体、辅助剂、表面活性剂、稳定剂及光亮剂组成的化学抛光液及其材料成份为，针对于用金属模铸法或者粉末冶金法得到有较大边缘毛刺以及表面流纹、凹坑等缺陷大块非晶及纳米晶的产品。采用本发明所进行的化学抛光处理，处理的效果明显优于机械抛光，可与电化学抛光相媲美，本发明化学抛光处理的投资小，加工成本低，工艺流程短，控制要素合理且简单。
Description
技术领域
本发明属于材料处理技术领域，涉及一种表面化学抛光技术，具体涉及一种针对大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术及抛光液。
背景技术
目前大块非晶及纳米晶合金的制备技术日趋完善，大块非晶及纳米晶合金表现出比晶态合金更优异的力学性能，更好的耐腐蚀性能和耐摩擦性能，以及优异的软磁和硬磁性能，因此使得大块非晶及纳米晶材料逐渐成为一种应用广泛的工程材料。在机械结构件、光学精密构件、表面装饰用品、体育用品、软磁材料、军事工业等领域，大块非晶及纳米晶合金已经获得了广泛的应用。
大块非晶及纳米晶合金主要采用定向凝固，粉末冶金以及金属模铸等方法获得，由于非晶态合金比晶态合金结构及成分更加均匀，类似于玻璃的质地，所以通过抛光后表面质量比晶态合金更好，可以制作对表面质量要求非常高的外观件产品。
为了获得更好表面质量，通常需要对产品进行抛光处理，当前应用比较广泛的抛光技术有机械抛光、化学抛光和电化学抛光三种。三种技术各有优劣：电化学抛光和通常的机械方法不同，抛光效果与金属材料表面的组织有很大关系。因为抛光过程伴有表面溶解，故不宜抛时间太长，电化学抛光速度较快，对节省劳动力很有效，所以这种方法更适合于做最后的精饰而不是粗抛或初步处理，与初步的机械加工配合应用效果不错。化学抛光可以省去电抛光所需要的电源和电流分配设备，省去完成抛光所需要的电用度，所以投资比较节省，但化学抛光消耗的化学药物量比较大，而动力逊于电抛光，所以不管是抛光的效率或抛光后的表面光洁度都不如电抛光。化学抛光受金属材料表面组织结构的影响更大，因而不是每种材料采用化学抛光都能得到很好的效果，尤其是对于应用金属模铸法或者粉末冶金法得到的大块非晶及纳米晶的特殊性质的产品，由于有较大边缘毛刺以及表面流纹、凹坑等缺陷，化学抛光技术还不能完全替代机械抛光和电化学抛光来进行处理。
发明内容
基于大块非晶及纳米晶材料特殊性的原因，本发明的目的是提供一种针对大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术及抛光液，通过本发明的化学抛光技术和抛光液，针对于用金属模铸法或者粉末冶金法得到的有较大边缘毛刺以及表面流纹、凹坑等缺陷大块非晶及纳米晶的产品，进行化学抛光处理，使其化学抛光效果明显优于机械抛光，可与电化学抛光相媲美，化学抛光处理的投资及加工成本低，工艺流程短，控制要素简单，解决了现有大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术存在的上述问题
本发明提供了一种大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，包括化学抛光处理的常规工艺：机械前处理→碱洗除油→热水洗→稀硝酸→水洗→烘干，所述化学抛光处理常规工艺烘干工序后的详细工艺过程为：化学抛光→水洗→钝化→中和→热水洗→烘干。
本发明还提供了所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术使用的的化学抛光液，所述化学抛光液的材料成份为：
抛光剂主体：磷酸100～160ml/L，硝酸30～50ml/L，盐酸120～150ml/L；
辅助剂：高氯酸5～10ml/L或选用高氯酸钠5～10ml/L，冰醋酸12～18ml/L，氢氟酸12～18ml/L；
表面活性剂：脂肪醇聚氧乙烯醚2～5g/L；
稳定剂：六次甲基四氨0.5～1g/L；
光亮剂：20～35ml/L。
本发明所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术的化学抛光液，其特征还在于，
所述光亮剂为丙烯酸-丙烯酸磷羟丙脂、聚丙烯酸，及乙二醇，比例为1：3：6。
所述化学抛光工艺过程中其中化学抛光工序为：产品装夹→浸入抛光液→取出→清洗；化学抛光参数为：时间15～30秒，温度60～80℃，化学抛光后产品取出立即进行清洗，在空气中暴露的时间低于5秒钟；
所述化学钝化剂硝酸体积分数为20%～50%。
所述化学抛光工艺过程中和工序使用的中和剂为20%～30%体积分数的氢氧化钠溶液。
所述化学抛光工序使用的夹具采用防腐蚀金属钛合金制作。
本发明针对大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，针对于用金属模铸法或者粉末冶金法得到的有较大边缘毛刺以及表面流纹、凹坑等缺陷大块非晶及纳米晶的产品，所进行的化学抛光处理，通过本发明的化学抛光技术和抛光液，处理的效果明显优于机械抛光，可与电化学抛光相媲美，化学抛光处理的投资及加工成本低，工艺流程短，控制要素简单，
本发明化学抛光液中所使用的磷酸能够抑制酸性溶剂对产品表面的过度溶解，生成附着的磷酸盐会防止过抛出现，可有效保证产品尺寸的精度；化学抛光液中所使用的光亮剂为丙烯酸-丙烯酸磷羟丙脂、聚丙烯酸、乙二醇，按照1：3：6复合而成的光亮剂能有效附着在需要抛光的产品表面，并及时分散化学抛光后的垢泥，使产品均匀腐蚀，呈现光泽；由于采用20%～50%体积分数的硝酸化学钝化剂，能有效的抑制产品表面出现点蚀或过钝化现象，防止了出现厚重白膜遮盖抛光光泽现象的发生。
本发明通过中和剂对抛光钝化后产品进行中和，有效地将产品表面附着的硝酸清洗干净，防止了产品表面发生点蚀和腐蚀钝化膜的现象，抛光效果非常显著。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本发明进行详细说明。
一种大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，包括化学抛光处理的常规工艺：机械前处理→碱洗除油→热水洗→稀硝酸→水洗→烘干，其特征在于，所述化学抛光处理常规工艺烘干工序后的详细工艺过程为：化学抛光→水洗→钝化→中和→热水洗→烘干。
本发明大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术使用的的化学抛光液，其特征在于，所述化学抛光液的材料成份为：
抛光剂主体：磷酸100～160ml/L，硝酸30～50ml/L，盐酸120～150ml/L；
辅助剂：高氯酸5～10ml/L，高氯酸钠5～10ml/L，冰醋酸12～18ml/L，氢氟酸12～18ml/L；
表面活性剂：脂肪醇聚氧乙烯醚2～5g/L；
稳定剂：六次甲基四氨0.5～1g/L；
光亮剂：20～35ml/L。
本发明所述光亮剂为丙烯酸-丙烯酸磷羟丙脂、聚丙烯酸，及乙二醇，比例为1：3：6。
本发明所述化学抛光工艺过程中其中化学抛光工序为：产品装夹→浸入抛光液→取出→清洗；化学抛光参数为：时间15～30秒，温度60～80℃，化学抛光后产品取出立即进行清洗，在空气中暴露的时间低于5秒钟；
本发明所述化学钝化剂硝酸体积分数为20%～50%；所述化学抛光工艺过程中和工序使用的中和剂为20%～30%体积分数的氢氧化钠溶液。
本发明大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，在化学抛光工序中使用的夹具采用钛合金制作，能够有效地防止酸性抛光剂腐蚀金属夹具。
实施例
实施例1
抛光用的物件素材为采用vit1大块非晶制作的具有一个一级面（高光要求），其余面为二级面（要求无毛刺）的产品，总表面积为400mm2。产品一级面经过圆盘砂带机打磨处理，Ra=2～4μm，二级面为原始状态，然后通过了活化，清洗，烘干处理。
本实施例使用如下的抛光剂配方配制1L的抛光剂：
120ml/L磷酸+30ml/L硝酸+120ml/L盐酸+3g/L平平加+3g/L高氯酸钠+15ml/L冰醋酸+4ml/L氢氟酸+1g/L六次甲基四胺+20ml/L复合光亮剂，余量为去离子水。
操作条件：抛光液加热至60℃，用钛丝挂着产品浸入抛光液抛光，可以见到明显的腐蚀反应，15秒钟后取出，迅速进入水洗，钝化15秒钟，中和15秒钟，热水洗10秒钟，热水温度80℃，烘干温度110℃。
结果：产品一级面Ra=1.0μm，20°角入射光光泽度=12，二级面Ra=6～8μm，二级面上无明显毛刺，产品失重8.6g/m2，产品直角无钝角化现象。
实施例2
物件素材同实施例1。
本实施例使用如下的抛光剂配方配制1L的抛光剂：
120ml/L磷酸+30ml/L硝酸+120ml/L盐酸+3g/L平平加+10ml/L高氯酸+15ml/L冰醋酸+6ml/L氢氟酸+1g/L六次甲基四胺+20ml/L复合光亮剂，余量为去离子水。
操作条件：抛光液加热至80℃，用钛丝挂着产品浸入抛光液抛光，可以见到明显的腐蚀反应，20秒钟后取出，迅速进入水洗，钝化15秒钟，中和15秒钟，热水洗10秒钟，热水温度80℃，烘干温度110℃。
结果：产品一级面Ra=0.68μm，20°角入射光光泽度=17，二级面Ra=6～8μm，二级面上无明显毛刺，产品失重10g/m2，产品直角无钝角化现象。
实施例3
物件素材材料为Zr55大块非晶材料，其他同实施例1。
本实施例使用如下的抛光剂配方配制1L的抛光剂：
120ml/L磷酸+30ml/L硝酸+120ml/L盐酸+3g/L平平加+6ml/L高氯酸+15ml/L冰醋酸+4ml/L氢氟酸+1g/L六次甲基四胺+20ml/L复合光亮剂，余量为去离子水。
操作条件：抛光液加热至80℃，用钛丝挂着产品浸入抛光液抛光，可以见到明显的腐蚀反应，25秒钟后取出，迅速进入水洗，钝化15秒钟，中和15秒钟，热水洗10秒钟，热水温度80℃，烘干温度110℃。
结果：产品一级面Ra=0.8μm，20°角入射光光泽度=14，二级面Ra=6～8μm，二级面上无明显毛刺，产品失重11.3g/m2，产品直角出现钝角化现象。
实施例4
物件素材同实施例1；
本实施例使用如下的抛光剂配方配制1L的抛光剂：
120ml/L磷酸+30ml/L硝酸+120ml/L盐酸，余量为去离子水。
操作条件：抛光液加热至80℃，用钛丝挂着产品浸入抛光液抛光，可以见到明显的腐蚀反应，25秒钟后取出，迅速进入水洗，钝化15秒钟，中和15秒钟，热水洗10秒钟，热水温度80℃，烘干温度110℃。
结果：产品一级面Ra=4μm，20°角入射光光泽度=6，二级面Ra=10μm，二级面上无明显毛刺，产品失重2.2g/m2，产品直角无钝角化现象。
将实施例4与实施例1～3所得的结果进行比较，发现通过本发明得到的改性抛光液对大块非晶及纳米晶材料有显著地抛光效果。
本发明针对大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，针对于用金属模铸法或者粉末冶金法得到的有较大边缘毛刺以及表面流纹、凹坑等缺陷大块非晶及纳米晶的产品所进行的化学抛光处理，通过本发明的化学抛光技术和抛光液，处理的效果明显优于机械抛光，可与电化学抛光相媲美，化学抛光处理的投资小，加工成本低，工艺流程短，控制要素合理且简单。
Claims (7)
1.一种大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，包括化学抛光处理的常规工艺：机械前处理→碱洗除油→热水洗→稀硝酸→水洗→烘干，其特征在于，所述化学抛光处理常规工艺烘干工序后的详细工艺过程为：化学抛光→水洗→钝化→中和→热水洗→烘干。
2.根据权利要求1所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术使用的的化学抛光液，其特征在于，所述化学抛光液的材料成份为：
抛光剂主体：磷酸100～160ml/L，硝酸30～50ml/L，盐酸120～150ml/L；
辅助剂：高氯酸5～10ml/L，高氯酸钠5～10ml/L，冰醋酸12～18ml/L，氢氟酸12～18ml/L；
表面活性剂：脂肪醇聚氧乙烯醚2～5g/L；
稳定剂：六次甲基四氨0.5～1g/L；
光亮剂：20～35ml/L。
3.根据权利要求2所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术的化学抛光液，其特征在于，所述光亮剂为丙烯酸-丙烯酸磷羟丙脂、聚丙烯酸，及乙二醇，比例为1：3：6。
4.根据权利要求1所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术其特征在于，所述化学抛光工艺过程中其中化学抛光工序为：产品装夹→浸入抛光液→取出→清洗；化学抛光参数为：时间15～30秒，温度60～80℃，化学抛光后产品取出立即进行清洗，在空气中暴露的时间低于5秒钟。
5.根据权利要求1所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术其特征在于，所述化学钝化剂硝酸体积分数为20%～50%。
6.根据权利要求1所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术， 其特征在于，所述化学抛光工艺过程中和工序使用的中和剂为20%～30%体积分数的氢氧化钠溶液。
7.根据权利要求1所述大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术，其特征在于，所述化学抛光工序使用的夹具采用防腐蚀金属钛合金制作。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410052193.5A CN103789770B (zh) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201410052193.5A CN103789770B (zh) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光工艺 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103789770A true CN103789770A (zh) | 2014-05-14 |
| CN103789770B CN103789770B (zh) | 2016-08-31 |
Family
ID=50665813
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201410052193.5A Active CN103789770B (zh) | 2014-02-14 | 2014-02-14 | 大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光工艺 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103789770B (zh) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101302403A (zh) * | 2008-07-03 | 2008-11-12 | 大连理工大学 | 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法 |
| US20090137122A1 (en) * | 2002-12-10 | 2009-05-28 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method of passivating chemical mechanical polishing compositions for copper film planarization processes |
-
2014
- 2014-02-14 CN CN201410052193.5A patent/CN103789770B/zh active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20090137122A1 (en) * | 2002-12-10 | 2009-05-28 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method of passivating chemical mechanical polishing compositions for copper film planarization processes |
| CN101302403A (zh) * | 2008-07-03 | 2008-11-12 | 大连理工大学 | 用于大尺寸金刚石晶圆超精密低损伤抛光的抛光液及制备方法 |
Non-Patent Citations (2)
| Title |
|---|
| 仇启贤 等: ""不锈钢化学抛光工艺的研究"", 《电镀与环保》, vol. 30, no. 6, 30 November 2010 (2010-11-30), pages 38 - 39 * |
| 何敖东 等: ""Ge2Sb2Te5 的化学机械抛光研究进展"", 《化学学报》, vol. 71, 6 May 2013 (2013-05-06), pages 1111 - 1117 * |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN103789770B (zh) | 2016-08-31 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN101709476B (zh) | 铝或铝工件连续碱洗去除毛刺及表面钝化保护的生产方法及设备 | |
| CN104674263A (zh) | 一种金属表面清洗方法 | |
| CN102677058A (zh) | 含铜离子和氯离子的盐溶液刻蚀制备超疏水铝表面的方法 | |
| CN106086853A (zh) | 一种面粉机齿辊表面等离子体处理工艺 | |
| CN103668226A (zh) | 镁合金高耐蚀性表面处理方法及其产品 | |
| CN103160843A (zh) | Tc4钛合金超塑成形中止焊剂去除工艺方法 | |
| CN104593764A (zh) | 一种钢材表面磷化工艺 | |
| CN104028430A (zh) | 金属粉末清洁喷涂工艺 | |
| CN104047005A (zh) | 一种铜及其铜合金除油的方法 | |
| CN102776540A (zh) | 一种镁合金表面处理工艺 | |
| CN104014467A (zh) | 基于烤漆工艺的金属表面改性方法 | |
| CN105986300A (zh) | 自行车车架涂装方法 | |
| CN103789770A (zh) | 大块非晶及纳米晶合金表面化学抛光技术及抛光液 | |
| CN106694345A (zh) | 一种金属件喷漆工艺 | |
| CN101760714A (zh) | 一种对钛合金零件进行浸镀的方法 | |
| CN106544664A (zh) | 钕铁硼磁体钝化剂及其应用 | |
| CN108043694A (zh) | 一种轮毂的涂装方法 | |
| CN107471037B (zh) | 一种铜锌合金冷冲压件表面处理方法 | |
| CN110977779A (zh) | 一种钛板表面喷砂工艺 | |
| CN104018195A (zh) | 基于电镀工艺的金属表面处理方法 | |
| CN103240660A (zh) | 一种去除高镍合金钢热轧时表面涂层的工艺 | |
| CN103898493A (zh) | 一种刷镀镉钝化溶液及其配制和钝化方法 | |
| CN104451722A (zh) | 一种合金结构钢表面氧化皮的去除方法 | |
| MX2014007943A (es) | Metodo para revestir un dado de forja en la implementacion de partes obtenidas mediante dos operaciones sucesivas de colado de fundicion seguida por forjado. | |
| WO2018000235A1 (zh) | 除蜡粉及其应用 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20140514 Assignee: Guangdong Rongtong Financial Leasing Co.,Ltd. Assignor: DONGGUAN EONTEC Co.,Ltd. Contract record no.: X2023980042709 Denomination of invention: Chemical polishing process for surface of bulk amorphous and nanocrystalline alloys Granted publication date: 20160831 License type: Exclusive License Record date: 20230927 |
|
| EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract | ||
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |
Denomination of invention: Chemical polishing process for surface of bulk amorphous and nanocrystalline alloys Effective date of registration: 20231007 Granted publication date: 20160831 Pledgee: Guangdong Rongtong Financial Leasing Co.,Ltd. Pledgor: DONGGUAN EONTEC Co.,Ltd. Registration number: Y2023980060036 |
|
| PE01 | Entry into force of the registration of the contract for pledge of patent right |