CN103774161A - 金属零件清洗液及制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明的金属零件清洗液包括如下组分：磷酸三钠、焦磷酸钠、氢氧化钾、非离子表面活性剂、去离子水，所述的各组分的质量配比为：磷酸三钠∶焦磷酸钠∶氢氧化钾∶非离子表面活性剂∶去离子水=0.5∶0.5∶0.1∶20∶50。本发明的金属零件清洗液的制备方法如下：按上述质量配比先将磷酸三钠、焦磷酸钠、去离子水混合并加温至90oC，使磷酸三钠、焦磷酸钠全部溶解，然后再加入其它成分并搅拌均匀。本发明的金属零件清洗液对大气臭氧层无破坏作用、绿色环保，制备方法简单，清洗效果好。
Description
技术领域
本发明涉及一种清洗液及制备方法，特别是一种金属零件清洗液及制备方法。
背景技术
金属零件特别是高精零件在组装前都需要清洗，目前清洗这些零件大多利用三氯乙烷，三氯乙烷的大量使用会大量的消耗臭氧层物质，严重危害人类生存环境。臭氧层离地面约20到30公里处，它在地球上空形成一把"保护伞"，它将太阳光中99％的紫外线过滤掉，这对于地球上生命的生存十分重要。
过量的紫外线会使人和动物免疫力下降，最明显的表现是皮肤癌的发病率增高，甚至于使动物和人眼睛失明。
植物的和微生物会因为承受不了紫外线的强烈照射而死亡。在海洋中直接受到侵害的是浮游生物，海洋中的浮游生物可以大量吸收温室气体。如此，会形成恶性循环。浮游生物的死亡又会产生连锁反应，使海洋中的其它生物相继死亡，并最终将影响的人类的活动。
发明内容
本发明的目的是提供一种环保、对大气臭氧层无破坏作用的金属零件清洗液及制备方法，克服现有技术的不足。
本发明的金属零件清洗液包括如下组分：磷酸三钠、焦磷酸钠、氢氧化钾、非离子表面活性剂、去离子水，所述的各组分的质量配比为：磷酸三钠∶焦磷酸钠∶氢氧化钾∶非离子表面活性剂∶去离子水=0.5∶0.5∶0.1∶20∶50。
本发明的金属零件清洗液的制备方法如下：按上述质量配比先将磷酸三钠、焦磷酸钠、去离子水混合并加温至90oC，使磷酸三钠、焦磷酸钠全部溶解，然后再加入其它成分并搅拌均匀。
本发明的金属零件清洗液对大气臭氧层无破坏作用、绿色环保，制备方法简单，清洗效果好。
具体实施方式
本发明的金属零件清洗液组分如下：磷酸三钠、焦磷酸钠、氢氧化钾、非离子表面活性剂、去离子水，所述的各组分的质量配比为：磷酸三钠∶焦磷酸钠∶氢氧化钾∶非离子表面活性剂∶去离子水=0.5∶0.5∶0.1∶20∶50。
本发明的金属零件清洗液的制备方法如下：按上述质量配比先将磷酸三钠、焦磷酸钠、去离子水混合并加温至90oC，使磷酸三钠、焦磷酸钠全部溶解，然后再加入其它成分并搅拌均匀。本发明的金属零件清洗液对大气臭氧层无破坏作用、绿色环保，制备方法简单，清洗效果好。
Claims (2)
1.一种金属零件清洗液，其特征在于：包括如下组分：磷酸三钠、焦磷酸钠、氢氧化钾、非离子表面活性剂、去离子水，所述的各组分的质量配比为：磷酸三钠∶焦磷酸钠∶氢氧化钾∶非离子表面活性剂∶去离子水=0.5∶0.5∶0.1∶20∶50。
2.根据权利要求1所述的金属零件清洗液的制备方法，其特征在于：先将磷酸三钠、焦磷酸钠、去离子水混合并加温至90oC，使磷酸三钠、焦磷酸钠全部溶解，然后再加入其它成分并搅拌均匀。
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| CN201210400374.3A CN103774161A (zh) | 2012-10-21 | 2012-10-21 | 金属零件清洗液及制备方法 |
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Publications (1)
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| CN103774161A true CN103774161A (zh) | 2014-05-07 |
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Country Status (1)
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| CN (1) | CN103774161A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106868519A (zh) * | 2017-03-07 | 2017-06-20 | 马鞍山拓锐金属表面技术有限公司 | 水基型金属清洗剂及其制备方法 |
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2012
- 2012-10-21 CN CN201210400374.3A patent/CN103774161A/zh active Pending
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| CN106868519A (zh) * | 2017-03-07 | 2017-06-20 | 马鞍山拓锐金属表面技术有限公司 | 水基型金属清洗剂及其制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140507 |