CN103692748B - 一种光学聚酯薄膜 - Google Patents
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Abstract
一种光学聚酯薄膜，包括基膜和底涂层，经双向拉伸工艺得到，所述基膜包括芯层和位于芯层表面的两个表层，芯层是PET层，表层是PEN层；底涂层的玻璃化转变温度Tg为40～110℃。本发明较好地解决了薄膜的阻隔性能差热稳定性能差、与其他功能性涂层之间附着性的不足的问题，同时又具有良好的光学性能，可以满足平板显示背光模组、柔性线路板、太阳能电池背膜等产品的需要。
Description
技术领域
本发明涉及一种光学聚酯薄膜。
背景技术
光学聚酯薄膜由于具有优异的光学性能、良好的表面附着性、良好的机械性能和耐热性能，在近年来得到广泛应用。双向拉伸光学聚酯薄膜由于相对于其他塑料薄膜具有良好的尺寸稳定性、耐化学性、高透明性及良好的加工性而被大量用于各种光学聚酯薄膜材料的深加工。
通常，光学聚酯薄膜一般由单层或三层聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)通过双向拉伸工艺制造，其透明性好、雾度低、光泽度、机械性能优良，但其普遍存在阻隔性能差、热稳定性差、与功能性涂层附着性不足的缺点，这些缺点严重制约了产品的应用范围。
因此，如何提供一款既能满足一般光学性能，又能满足阻隔性能、热稳定性、与功能性涂层附着性要求的光学聚酯薄膜是业界必须要解决的问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是针对现有技术存在的不足之处，提供一种光学聚酯薄膜。
为了解决以上问题，本发明采用的技术方案为：
一种光学聚酯薄膜，包括基膜和底涂层，经双向拉伸工艺得到，其特征在于，所述基膜包括芯层和位于芯层表面的两个表层，芯层是PET层，表层是PEN层；底涂层的玻璃化转变温度Tg为40～110℃。
上述光学聚酯薄膜，所述芯层与表层的厚度比为4～10：1。
上述光学聚酯薄膜，所述底涂层由含有水溶性聚酯树脂5～50重量份、交联剂0.5～5重量份、表面活性剂0.01～0.1重量份、纳米粒子0.1～1.5重量份的涂布液固化形成。
上述光学聚酯薄膜，所述水溶性聚酯树脂的羟值为10～80mgKOH/g。
上述光学聚酯薄膜，所述底涂层交联剂包括三聚氰胺甲醛树脂、封闭型异氰酸酯、碳二亚胺一种或几种,优选三聚氰胺甲醛树脂、封闭型异氰酸酯。
上述光学聚酯薄膜，所述纳米粒子选自二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛、氟化钠、二氧化锆一种或几种。
上述光学聚酯薄膜，所述底涂层的厚度为50nm～350nm。
与现有技术相比，本发明中的基膜通过PET芯层和PEN表层的配合，以及对它们之间的厚度控制，较好地解决了薄膜的阻隔性能和热稳定性能差的问题；并通过在PEN表层涂布底涂层，解决了薄膜与其他功能性涂层之间附着性的不足的问题，同时又具有良好的光学性能，可以满足平板显示背光模组、柔性线路板、太阳能电池背膜等产品的需要。
具体实施方式
本发明中的光学聚酯薄膜包括基膜和涂布在基膜表面的底涂层，基膜由芯层和设置在芯层表面的两个表层组成，芯层为聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET），表层为聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)。由于PEN的分子结构中含有刚性更大的萘环，萘环的结构更容易呈平面状，相对于PET来说，PEN具有更好的气体阻隔性，比如PEN对水气的阻隔性是PET的3～4倍；另外，萘环的引入提高了大分子的芳香度，使得PEN比PET表现出更为优良的耐热性能。因此，本发明通过PET芯层和PEN表面的组合，较好地解决了现有技术中存在的阻隔性能差、热稳定性差的问题。芯层和表层的厚度控制在4～10：1。另外，本发明采用的PET和PEN均为市售产品。
为了解决基膜与其他功能涂层之间的附着性不足的问题，本发明在PEN表层的表面涂布了底涂层，底涂层由含有水溶性聚酯树脂、交联剂、表面活性剂、纳米粒子的涂布液固化形成。
本发明中，底涂层中的水溶性聚酯树脂选自玻璃化转变温度Tg为40～110℃树脂，优选Tg为50～80℃树脂。如果底涂层的Tg过低可能会粘黏不利于产品收卷，底涂层太软容易被功能性树脂涂层溶解导致层间附着力不好。如果底涂层的Tg过高，则无法良好地成膜，底涂层过于呈玻璃态，导致无法被功能性树脂涂层渗透和溶胀，则层间附着力也不佳。
本发明中，底涂层中的水溶性聚酯树脂选自羟值为10～80mgKOH/g的树脂，适合本发明的水溶性聚酯树脂可以选自下述物质：Z-221、Z-880 (GOO Chemical)、W-0030(NIPPONGOHSEI)等水溶性聚酯树脂，通过底涂层在薄膜表面引入活性基团，可提高表面极性，同时也能提高表面能，使薄膜表面与功能性涂布层分子间形成化学键力，从而提供强粘结能力。
本发明中，底涂层中的交联剂选自三聚氰胺甲醛树脂、封闭型异氰酸酯、碳二亚胺一种或几种,优选三聚氰胺甲醛树脂、封闭型异氰酸酯。通过调节交联剂种类和添加量提高底涂层的粘结强度，交联剂常温下可与含活性基团（羟基、羧基、胺基、环氧基等）树脂长期稳定共存，溶剂挥发后，涂膜经过热处理后该交联剂释放活性基团并与树脂分子链上的羟基、羧基、氨基等基团反应形成交联，可显著改善聚酯、醇酸树脂和丙烯酸树脂等的附着力。
本发明中，底涂层中的纳米粒子选自二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛、氟化钠、二氧化锆一种或几种。
本发明中，底涂层中各组分的含量为：水溶性聚酯树脂5～50重量份，交联剂0.5～5重量份，表面活性剂0.01～0.1重量份，纳米粒子0.1～1.5重量份。
本发明中，通过涂布液中各组分之间的相互作用、以及底涂层中的活性基团与基膜之间的相互作用，一方面提高了底涂层与基膜之间的附着性，另一方面提高了基膜的表面极性和表面能，使薄膜表面与其他功能性涂布层的分子间形成化学键力，从而提供强粘结能力。
本发明中，在聚酯基膜的表面上涂布底涂层的过程是在薄膜双向拉伸过程完成，涂布方式可以采用凹版辊涂、条缝涂、气动刮涂、浸涂等方式，通过对涂布湿涂量精确控制，达到底涂层在厚度控制在50nm～350nm范围内。
本发明所述光学聚酯薄膜的制造方法优选以下步骤：
1．将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 切片进入辅挤出机进行加热熔融塑化，送入相应的挤出***熔融挤出，熔融挤出温度为260～290℃；
2．将基膜熔体经模头在转动的冷却辊上得到未取向的基膜厚片，铸片辊内通25℃～30℃左右的冷却水，以保证铸片冷至60℃以下；
3．将冷却后的基膜厚片加热到80～120℃，纵向拉伸3.0～3.8倍，得到单轴取向聚酯基膜；
4．通过凹版辊涂、条缝涂、气动刮涂、浸涂等方式中的一种，将配制的底涂层溶液涂布在经纵向拉伸后膜片的一个面或两个面上；
5．将涂好底涂层的膜片经90～180℃加热干燥后，横向拉伸3.0～4.0倍；
6．将拉伸后的薄膜经200～250℃热定型，冷却后收卷，得到光学用粘接改性基材膜。
以下结合具体实施例对本发明所述光学聚酯薄膜进行进一步说明，但本发明的保护范围不限于本发明提到的这些实施例。
实施例1
1.底涂层涂布液的制备
取水溶性聚酯树脂A W-0030(NIPPON GOHSEI) 5份，水84份，表面活性剂Tomadol25-7（Tomah Chemical）0.01份，交联剂BL3175 (BAYER)0.5份，添加纳米二氧化硅分散体乳液0.1份，用高剪切乳化机分散均匀，得到底涂层涂布液，备用。
2.光学聚酯薄膜的制备
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 切片进入辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成三层结构聚酯基膜厚片，芯层与表层厚度比为4：1；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为50nm，测其性能（见表1）。
实施例2
1.底涂层涂布液的制备
取水溶性聚酯树脂A W-0030(NIPPON GOHSEI)10份，去离子水72份，表面活性剂Tomadol 25-7（Tomah Chemical）0.04份；交联剂BL3175 (BAYER)1.0份；添加纳米二氧化锆分散体乳液0.5份，用高剪切乳化机分散均匀，得到底涂层涂布液，备用。
2.光学聚酯薄膜的制备
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 切片进入辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成三层结构聚酯基膜厚片，芯层与表层厚度比为6：1；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为90nm，测其性能（见表1）。
实施例3
1.底涂层涂布液的制备
取水溶性聚酯树脂B Z-880(GOO Chemical)20份，去离子水78份，表面活性剂Tomadol 25-12（Tomah Chemical）0.05份；交联剂CYMEL 327(Cytec)1.5份；添加纳米二氧化钛分散体乳液0.75份，高剪切乳化机分散均匀，得到底涂层涂布液，备用。
2.光学聚酯薄膜的制备
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 切片进入辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成三层结构聚酯基膜厚片，芯层与表层厚度比为7：1；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为120nm，测其性能（见表1）。
实施例4
1.底涂层涂布液的制备
取水溶性聚酯树脂B Z-880(GOO Chemical)35份，去离子水61份，表面活性剂Merpoxen NO-200（Kompen）0.08份；交联剂CYMEL 327(Cytec)2.5份；添加纳米氟化钠分散体乳液1.0份，用高剪切乳化机分散均匀，得到底涂层涂布液，备用。
2.光学聚酯薄膜的制备
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 切片进入辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成三层结构聚酯基膜厚片，芯层与表层厚度比为8：1；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为200nm，测其性能（见表1）。
实施例5
1.底涂层涂布液的制备
取水溶性聚酯树脂C Z-221(GOO Chemical)50份，去离子水43份，表面活性剂Merpoxen NO-200（Kompen）0.1份；交联剂MW-12LF(三和化学)5.0份；添加纳米三氧化二铝分散体乳液1.5份，用高剪切乳化机分散均匀，得到底涂层涂布液，备用。
2.光学聚酯薄膜的制备
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化，聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN) 切片进入辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成三层结构聚酯基膜厚片，芯层与表层厚度比为10：1；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为125nm，测其性能（见表1）。
比较例1
取高分子量饱和聚酯D W-961(NIPPON GOHSEI) 17份，去离子水82份，表面活性剂Merpoxen NO-200（Kompen）0.05份；添加纳米粒子分散体乳液0.6份，上述材料利用高剪切乳化机分散均匀。
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片分别进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化和辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成聚酯基膜厚片；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为80nm，测其性能（见表1）。
比较例2
取高分子量饱和聚酯E Z-3310(GOO Chemical)45份，去离子水53份，表面活性剂Merpoxen NO-200（Kompen）0.05份；交联剂XL-723(STAHL)1.5份；添加纳米粒子分散体乳液0.8份，上述材料利用高剪切乳化机分散均匀。
将经过结晶和干燥处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）切片分别进入双螺杆主挤出机进行加热熔融塑化和辅挤出机进行加热熔融塑化，熔体在铸片辊上冷却成聚酯基膜厚片；
将聚酯基膜厚片纵向拉伸3.5倍，通过凹版辊将底涂层溶液涂布在经过纵向拉伸的薄膜两面，横向拉伸3.8倍，再热定型，收卷，得到厚度为125um的光学聚酯薄膜，底涂层的厚度为220nm，测其性能（见表1）。
表1中各项性能的测试方法如下：
1、涂层厚度：F40-NSR光学膜厚测量仪，涂层厚度测量范围10nm-35µm。
2、Tg：PerkinElmer DSC4000/6000差示扫描量热仪。
3、羟值：1g样品中的羟基所相当的氢氧化钾(KOH)的毫克数，以mgKOH/g表示。
4、雾度：Denshoku NDH-4000 按ASTM D1003规定方法进行测试。
5、附着性：薄膜表面涂布UV固化丙烯酸树脂涂层，厚度20～35μm，百格测试法，3M610胶带进行交叉排线粘贴试验，对粘附于薄膜上面的残余树脂的量进行测定。
6、UV阻隔率：LH-1013透光率测试量仪器，测试紫外线波长范围200nm～380nm。
7、耐热性能:环境条件130℃×50%RH×500h后，MD方向伸长率。
表1：性能数据表
Claims (6)
1.一种光学聚酯薄膜，包括基膜和底涂层，经双向拉伸工艺得到，其特征在于，所述基膜包括芯层和位于芯层表面的两个表层，芯层是PET层，表层是PEN层；底涂层的玻璃化转变温度Tg为40～110℃；
所述底涂层由含有水溶性聚酯树脂5～50重量份、交联剂0.5～5重量份、表面活性剂0.01～0.1重量份、纳米粒子0.1～1.5重量份的涂布液固化形成；
所述水溶性聚酯树脂的羟值为10～80mgKOH/g。
2.根据权利要求1所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述芯层与表层的厚度比为4～10：1。
3.根据权利要求2所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述交联剂为三聚氰胺甲醛树脂、封闭型异氰酸酯、碳二亚胺一种或几种。
4.根据权利要求3所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述交联剂为三聚氰胺甲醛树脂、封闭型异氰酸酯。
5.根据权利要求4所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述纳米粒子选自二氧化硅、三氧化二铝、二氧化钛、氟化钠、二氧化锆一种或几种。
6.根据权利要求5所述的光学聚酯薄膜，其特征在于，所述底涂层的厚度为50nm～350nm。
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Address after: A New District Industrial Park Industrial Park Station lucky District of Hefei City, Anhui province 230041 Co-patentee after: LUCKY HEALTHCARE Co.,Ltd. Patentee after: HEFEI LUCKY SCIENCE & TECHNOLOGY INDUSTRY Co.,Ltd. Address before: A New District Industrial Park Industrial Park Station lucky District of Hefei City, Anhui province 230041 Co-patentee before: BAODING LUCKY FLIM Co.,Ltd. Patentee before: HEFEI LUCKY SCIENCE & TECHNOLOGY INDUSTRY Co.,Ltd. |
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