CN103676378A - 阵列基板、液晶面板及阵列基板的制作方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、液晶面板及阵列基板的制作方法，本发明通过在阵列基板上设置第一放电元件和第二放电元件，且所述第一放电元件与公用电极线电连接，所述第二放电元件与数据线电连接，在形成所述扫描线和数据线的同时形成或者形成所述扫描线和数据线之后形成所述第一放电元件和所述第二放电元件，实现在阵列基板制作完扫描线和数据线后，在阵列基板后续制程中对制作的元器件起到静电防护的作用，有效避免静电导致阵列基板的某些元器件烧坏而导致良品率降低的问题，提高良品率，进而降低生产成本。

Description

阵列基板、液晶面板及阵列基板的制作方法
技术领域
本发明涉及到液晶显示领域，特别涉及到阵列基板、液晶面板及阵列基板的制作方法。
背景技术
显示器在人们日常生活中已经无法或缺，显示器的类型包括CRT（CathodeRay Tube，阴极射线管）、LED（Light Emitting Diode，发光二极管）、TFT-LCD（Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，薄膜晶体管液晶显示器）、PDP（Plasma Display Panel，等离子）等，目前市面上显示器绝大多数为TFT-LCD类型。
TFT-LCD显示器包括阵列基板、彩膜基板及夹于该阵列基板和该彩膜基板之间的液晶层，通过控制加载在液晶层的电压来控制显示器的显示。TFT-LCD显示器在制作过程（例如，阵列基板的制作过程）中容易产生静电，进而容易导致显示器制作过程中的某些元器件（例如，导电线路或开关元件）烧坏而导致良品率降低。
参考图1，图1为阵列基板中常见的ESD（Electro-Static discharge，静电释放）保护装置20，ESD保护装置20的形成过程为：制作GE（Gate，扫描）电极101，然后制作半导体层102和SE层103，然后进行绝缘层制作并开孔104，最后通过透明电极105（Indium Tin Oxide，ITO）将GE电极101和SE层103短路，以形成阵列基板的同时形成了两组背靠背TFT10（薄膜晶体管），即静电防护装置20，参考图2，在阵列基板中，静电防护装置20将阵列基板产生的电流导向Com（Common，公用）电极30，进而达到对完成所有制程后的阵列基板静电防护的效果。
然而，上述图1和图2中的防护电路20需要阵列基板的所有制程完成后才发挥作用，无法在阵列基板制程中对显示器的元器件起到静电防护的作用，因此，无法解决因为静电而导致显示器中的某些元器件烧坏而导致良品率降低的问题。
发明内容
本发明的主要目的为提供一种阵列基板、液晶面板及阵列基板的制作方法，实现在阵列基板制作完扫描线和数据线后，在阵列基板后续制程中对制作的元器件起到静电防护的作用，有效避免静电导致阵列基板的某些元器件烧坏而导致良品率降低的问题，提高良品率，进而降低生产成本。。
本发明提出一种阵列基板，包括显示区域，在所述显示区域内设置成矩阵状态的多个扫描线和信号线，及设置在所述显示区域边缘且环绕所述显示区域的公用电极线，第一放电元件及与所述第一放电元件对应设置的第二放电元件，所述第一放电元件与所述公用电极线电连接，所述第二放电元件与所述数据线电连接。
优选地，所述第一放电元件靠近所述第二放电元件的一端为尖端，所述第二放电元件靠近所述第一放电元件的一端为尖端。
优选地，所述第一放电元件与所述第二放电元件之间具有放电间隙。
优选地，所述放电间隙为10um。
优选地，还包括环绕所述显示区域的非显示区域，所述第一放电元件与所述第二放电元件均设置在所述非显示区域上。
优选地，所述数据线在所述非显示区域设置有数据线引出线，所述第二放电元件与所述数据线引出线电连接。
本发明还提出一种液晶面板，包括阵列基板、彩膜基板及夹于该阵列基板和该彩膜基板之间的液晶层，该阵列基板如上所述的阵列基板。
本发明还提出一种阵列基板的制作方法，该方法包括步骤：
提供一基板，所述基板包括显示区域，在所述显示区域内设置成矩阵状态的多个扫描线和信号线，及设置在所述显示区域边缘且环绕所述显示区域设置的公用电极线；
在所述基板上设置第一放电元件及与所述第一放电元件对应设置的第二放电元件，所述第一放电元件与所述公用电极线电连接，所述第二放电元件与所述数据线电连接。
优选地，所述第一放电元件与所述扫描线同步形成，所述第二放电元件与所述数据线同步形成。
优选地，所述第一放电元件靠近所述第二放电元件的一端设置为尖端，所述第二放电元件靠近所述第一放电元件的一端设置为尖端。
相对现有技术，本发明通过在阵列基板上设置第一放电元件和第二放电元件，且所述第一放电元件与公用电极线电连接，所述第二放电元件与数据线电连接，在形成所述扫描线和数据线的同时形成或者形成所述扫描线和数据线之后形成所述第一放电元件和所述第二放电元件，实现在阵列基板制作完扫描线和数据线后，在阵列基板后续制程中对制作的元器件起到静电防护的作用，有效避免静电导致阵列基板的某些元器件烧坏而导致良品率降低的问题，提高良品率，进而降低生产成本。
附图说明
如图1和图2所示，为现有技术阵列基板中静电防护装置和静电防护电路的结构示意图；
图3为本发明阵列基板的较佳实施例的架构示意图；
图4为本发明阵列基板的制作方法的较佳实施例的流程示意图。
本发明目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。
具体实施方式
应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
如图2所示，本发明提供的阵列基板1，包括显示区域11，在所述显示区域11内设置成矩阵状态的多个扫描线12和信号线，及设置在所述显示区域11边缘且环绕所述显示区域11的公用电极线14，还包括第一放电元件16及与所述第一放电元件16对应设置的第二放电元件15，所述第一放电元件16与所述公用电极线14电连接，所述第二放电元件15与所述数据线13电连接。
在本实施例中，该阵列基板1包括设置成矩阵状态的多个扫描线12和信号线，对应的设置多个第一放电元件16及与所述第一放电元件16对应设置的第二放电元件15，各个第一放电元件16与所述公用电极线14电连接，各个第二放电元件15与对应的数据线13电连接。为了减少制作阵列基板1的流程，所述第一放电元件16与所述扫描线12同步形成，所述第二放电元件15与所述数据线13同步形成。所述扫描线12和数据线13之后形成，实现在阵列基板1制作完扫描线12和数据线13后。
为了对阵列基板1制程中的静电起到防护作用，保护阵列基板1中的元器件，所述第一放电元件16靠近所述第二放电元件15的一端17的横截面积小于另一端20的横截面积，且所述第二放电元件15靠近所述第一放电元件16的一端18的横截面积小于另一端21的横截面积。
本实施例通过在阵列基板1上设置第一放电元件16和第二放电元件15，且所述第一放电元件16与公用电极线14电连接，所述第二放电元件15与数据线13电连接，在形成所述扫描线12和数据线13的同时形成或者形成所述扫描线12和数据线13之后形成所述第一放电元件16和所述第二放电元件15，实现在阵列基板1制作完扫描线12和数据线13后，在阵列基板1后续制程中对制作的元器件起到静电防护的作用，有效避免静电导致阵列基板1的某些元器件烧坏而导致良品率降低的问题，提高良品率，进而降低生产成本。
进一步地，为了能更好的对阵列基板1制程中产生的静电起到防护作用，避免静电将阵列基板1的元器件烧坏，所述第一放电元件16靠近所述第二放电元件15的一端17为尖端，所述第二放电元件15靠近所述第一放电元件16的一端18为尖端。
进一步地，为了能更好的将阵列基板1制程中产生的静电释放，所述第一放电元件16与所述第二放电元件15之间具有放电间隙，且所述放电间隙为10um。在本发明其他实施例中，所述放电间隙也还可以是20um等其他任意适用的能更好的将阵列基板1制程中产生的静电释放的间隙。
进一步地，为了保证包括该阵列基板1的显示器能有更加的显示效果，所述阵列基板1还包括环绕所述显示区域11的非显示区域11，所述第一放电元件16与所述第二放电元件15均设置在所述非显示区域11上。且所述数据线13在所述非显示区域11设置有数据线13引出线19，所述第二放电元件15与所述数据线13引出线19电连接。
本发明还提出一种液晶面板，包括如上述实施例所述的阵列基板、彩膜基板及夹于该阵列基板和该彩膜基板之间的液晶层。所述阵列基板的具体结构如上述实施例所述，在此不再一一详细描述。
如图4所示，本发明还提出一种阵列基板的制作方法，该方法包括步骤：
步骤S11，提供一基板，所述基板包括显示区域，在所述显示区域内设置成矩阵状态的多个扫描线和信号线，及设置在所述显示区域边缘且环绕所述显示区域设置的公用电极线；
步骤S12，在所述基板上设置第一放电元件及与所述第一放电元件对应设置的第二放电元件，所述第一放电元件与所述公用电极线电连接，所述第二放电元件与所述数据线电连接。
具体的，该阵列基板包括设置成矩阵状态的多个扫描线和信号线，对应的设置多个第一放电元件及与所述第一放电元件对应设置的第二放电元件，各个第一放电元件与所述公用电极线电连接，各个第二放电元件与对应的数据线电连接。为了减少制作阵列基板的流程，所述第一放电元件与所述扫描线同步形成，所述第二放电元件与所述数据线同步形成。所述扫描线和数据线之后形成，实现在阵列基板制作完扫描线和数据线后。
以所述第一放电元件与所述扫描线同步形成，所述第二放电元件与所述数据线同步形成为例，在阵列基板上制作扫描线的实现过程为：在所述阵列基板上涂布导电材质和光阻，通过采用特定的光罩对依次涂布导电材质和光阻后的基板的特定区域照射紫外线，即对依次叠加涂布导电材质和光阻后的基板进行曝光过程，将曝光后的基板进行显影，在所述阵列基板上形成矩阵状态的多个扫描线和信号线，与所述公用电极线电连接的第一放电元件，及与所述数据线电连接的第二放电元件。所述特定的光罩为根据光阻的特性在光罩的特定位置进行开口，若光阻为负性光阻，即特定开口区域内的被紫外光照射的光阻将不会被显影洗掉；若光阻为正性光阻，即特定开口区域内的被紫外线照射的光阻将会被显影洗掉。
在本实施例中，制作扫描线和第一放电元件的过程为：若光阻为负性光阻，所述特定的光罩在扫描线和所述第一放电元件的位置设置开口；若光阻为正性光阻，所述特定的光罩在扫描线和所述第一放电元件之外的位置设置开口，按照上述方式制作扫描线和第一放电元件；制作数据线和第二放电元件的过程为：若光阻为负性光阻，所述特定的光罩在数据线和所述第二放电元件的位置设置开口；若光阻为正性光阻，所述特定的光罩在数据线和所述第二放电元件之外的位置设置开口，按照上述方式制作数据线和第二放电元件。
本实施例通过在阵列基板上设置第一放电元件和第二放电元件，且所述第一放电元件与公用电极线电连接，所述第二放电元件与数据线电连接，在形成所述扫描线和数据线的同时形成或者形成所述扫描线和数据线之后形成所述第一放电元件和所述第二放电元件，实现在阵列基板制作完扫描线和数据线后，在阵列基板后续制程中对制作的元器件起到静电防护的作用，有效避免静电导致阵列基板的某些元器件烧坏而导致良品率降低的问题，提高良品率，进而降低生产成本。
进一步地，为了能更好的对阵列基板制程中产生的静电起到防护作用，避免静电将阵列基板的元器件烧坏，所述第一放电元件靠近所述第二放电元件的一端为尖端，所述第二放电元件靠近所述第一放电元件的一端为尖端。
进一步地，为了能更好的将阵列基板制程中产生的静电释放，所述第一放电元件与所述第二放电元件之间具有放电间隙，且所述放电间隙为10um。在本发明其他实施例中，所述放电间隙也还可以是20um等其他任意适用的能更好的将阵列基板制程中产生的静电释放的间隙。
进一步地，为了保证包括该阵列基板的显示器能有更加的显示效果，所述阵列基板还包括环绕所述显示区域的非显示区域，所述第一放电元件与所述第二放电元件均设置在所述非显示区域上。且所述数据线在所述非显示区域设置有数据线引出线，所述第二放电元件与所述数据线引出线电连接。
以上所述仅为本发明的优选实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种阵列基板，包括显示区域，在所述显示区域内设置成矩阵状态的多个扫描线和信号线，及设置在所述显示区域边缘且环绕所述显示区域的公用电极线，其特征在于，还包括第一放电元件及与所述第一放电元件对应设置的第二放电元件，所述第一放电元件与所述公用电极线电连接，所述第二放电元件与所述数据线电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一放电元件靠近所述第二放电元件的一端为尖端，所述第二放电元件靠近所述第一放电元件的一端为尖端。
3.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述第一放电元件与所述第二放电元件之间具有放电间隙。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述放电间隙为10um。
5.根据权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，还包括环绕所述显示区域的非显示区域，所述第一放电元件与所述第二放电元件均设置在所述非显示区域上。
6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在于，所述数据线在所述非显示区域设置有数据线引出线，所述第二放电元件与所述数据线引出线电连接。
7.一种液晶面板，其特征在于，包括阵列基板、彩膜基板及夹于该阵列基板和该彩膜基板之间的液晶层，该阵列基板为权利要求1至6任一项所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，该方法包括步骤：
提供一基板，所述基板包括显示区域，在所述显示区域内设置成矩阵状态的多个扫描线和信号线，及设置在所述显示区域边缘且环绕所述显示区域设置的公用电极线；
在所述基板上设置第一放电元件及与所述第一放电元件对应设置的第二放电元件，所述第一放电元件与所述公用电极线电连接，所述第二放电元件与所述数据线电连接。
9.根据权利要求8所述的制作方法，其特征在于，所述第一放电元件与所述扫描线同步形成，所述第二放电元件与所述数据线同步形成。
10.根据权利要求8或9所述的制作方法，其特征在于，所述第一放电元件靠近所述第二放电元件的一端设置为尖端，所述第二放电元件靠近所述第一放电元件的一端设置为尖端。
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