CN103617777A - 阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置 - Google Patents

阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置，该阵列基板包括：交叉设置在第一衬底基板上的栅线和数据线，栅线和数据线限定出像素单元，像素单元内设置有第二电极和开关单元，至少部分像素单元内设置有第一电极；开关单元用于控制第一电极和第二电极加载电压信号；第一电极用于当栅线进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当栅线进行逆序扫描时加载第二电压信号；第二电极用于当栅线进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当栅线进行逆序扫描时加载第四电压信号。本发明通过改变栅线的扫描顺序，实现了显示装置的透明显示与非透明显示之间的切换，不但省去了遮光设备，节约了成本，而且操作过程简单，切换效率较高。

Description

阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置
技术领域
本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置。
背景技术
近来，随着显示技术的发展，厂商相继推出了一系列透明显示装置，该透明显示装置的显示模式包括透明显示和非透明显示。其中，所谓的透明显示是指，用户在使用显示装置时，可以透过显示面板看到显示器后方的物体；非透明显示是指，用户在使用显示装置时，只能看见显示器上的图像，而不可以看到显示面板后方的物体。
在现有技术中，为实现透明显示器的透明显示与非透明显示的切换，一般采用如下方式:
其一，可以在显示器的后方设置一可拆卸的阻挡装置。当用户选择透明显示时，则拆除上述的阻挡装置；当用户选择非透明显示时，则安装上述阻挡装置。
其二，在显示面板中增加一变色层。当用户选择透明显示时，则驱动上述变色层使之呈现透明态；当用户选择非透明显示时，则驱动上述变色层使之呈现非透明态。
现有技术存在如下缺点：
在现有技术中，为实现透明显示与非透明显示的切换，需要在透明显示器中增加如阻挡装置或变色层一类的隔光部件，使得现有技术的透明显示器的成本上升，同时，现有技术在进行透明显示与非透明显示切换时，其操作过程复杂，切换效率较低。
发明内容
本发明提供一种阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置，只需改变对栅线的扫描顺序，便可实现显示装置的透明显示和非透明显示的切换，其操作过程简单，切换效率较高。
为实现上述目的，本发明提供一种阵列基板，包括：交叉设置在第一衬底基板上的栅线和数据线，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述像素单元内设置有第二电极和开关单元，至少部分所述像素单元内设置有第一电极；
所述开关单元，用于控制所述第一电极和第二电极加载电压信号；
所述第一电极，用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第二电压信号；
所述第二电极，用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第四电压信号。
可选地，所述第一电压信号、第三电压信号、第四电压信号为像素电压信号，所述第二电压信号为公共电压信号。
可选地，所述开关单元包括：第一开关单元和第二开关单元；
所述第一开关单元，用于控制所述第一电极加载公共电压信号；
所述第二开关单元，用于控制所述第一电极和第二电极加载像素电压信号。
可选地，还包括：公共电极线，所述第一开关单元包括：第一开关管；
所述第一开关管的栅极与对应的所述栅线的上一条栅线连接，所述第一开关管的第一极与所述公共电极线连接，所述第一开关管的第二极与对应的所述第一电极连接；
所述第二开关单元包括：第二开关管和第三开关管；
所述第二开关管的栅极与对应的所述栅线连接，所述第二开关管的第一极与对应的所述数据线连接，所述第二开关管的第二极与对应的所述第一电极连接；
所述第三开关管的栅极与对应的所述栅线连接，所述第三开关管的第一极与对应的所述数据线连接，所述第三开关管的第二极与对应的所述第二电极连接。
可选地，所述第一电极的面积小于或等于所述第二电极的面积。
可选地，间隔的所述像素单元内设置有开关单元和第一电极。
为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板，设置在第二衬底基板上的遮光条，所述遮光条限定出像素区域，所述像素区域内形成有彩色矩阵图形，至少部分所述像素区域内形成有透明图形。
可选地，所述透明图形的面积小于或等于所述彩色矩阵图形的面积。
可选地，间隔的所述像素区域内设置有透明图形。
为实现上述目的，本发明提供一种显示面板，包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板采用上述的阵列基板，所述彩膜基板采用上述的彩膜基板，所述像素单元与所述像素区对应设置，所述第一电极与所述透明图形对应设置，所述第二电极与所述彩色矩阵图形对应设置。
为实现上述目的，本发明提供一种显示装置，包括：显示面板，所述显示面板采用上述的显示面板。
为实现上述目的，本发明提供一种阵列基板的制造方法，该制造方法包括：
在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述开关单元位于所述像素单元内；
在第一衬底基板上形成第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极位于像素单元内，所述第一电极用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第二电压信号，所述第二电极用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第四电压信号。
可选地，所述开关单元包括：第一开关管、第二开关管和第三开关管，所述第一开关管、所述第二开关管和所述第三开关管均包括：栅极、第一极和第二极，所述在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述开关单元位于所述像素单元内包括：
在第一衬底基板上形成栅线和栅极；
在所述栅线和所述栅极的上方形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层上方形成有源层；
在所述有源层的一侧形成所述第一极，在所述有源层的另一侧形成所述第二极；
在所述第一绝缘层上方形成数据线。
可选地，所述阵列基板还包括：公共电极，所述在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述开关单元位于所述像素单元内之前还包括:
在所述第一衬底基板上形成所述公共电极。
为实现上述目的，本发明提供一种彩膜基板的制造方法，包括：
在第二衬底基板上形成遮光条，所述遮光条限定出像素区域；
在第二衬底基板上形成彩色矩阵图形，所述彩色矩阵图形位于所述像素区域内；
在第二衬底基板上形成透明图形，所述透明图形位于像素区域内。
本发明具有以下有益效果：
本发明提供一种阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置，通过对像素单元内开关单元以及电极结构的改变，以及对栅线进行顺序扫描或逆序扫描的方式，实现了显示装置的透明显示或非透明显示，本发明没有新增外部设备，可有效节约成本，同时在透明显示与非透明显示之间切换时，操作过程简单，切换效率较高。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的阵列基板的结构示意图；
图2为图1中A结构的局部放大图；
图3为包括本实施例一提供的阵列基板的显示装置的透明显示的效果图；
图4为包括本实施例一提供的阵列基板的显示装置的非透明显示的效果图；
图5为本发明实施例二提供的彩膜基板的局部结构示意图；
图6为本发明实施例五提供的阵列基板的制造方法的流程图；
图7为本发明实施例七提供的彩膜基板的制造方法的流程图。
具体实施方式
为使本领域的技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图对本发明提供的阵列基板、彩膜基板及制造方法、显示面板和显示装置进行详细描述。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的阵列基板的结构示意图，图2为图1中A结构的局部放大图，如图1和图2所示，该阵列基板包括：栅线4和数据线3，栅线4和数据线3限定出像素单元，像素单元内设置有第二电极2和开关单元，部分或者全部像素单元内设置有第一电极1，其中开关单元用于控制第一电极1和第二电极2加载电压信号，第一电极1用于当栅线4进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当栅线4进行逆序扫描时加载第二电压信号，第二电极2用于当栅线4进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当栅线4进行逆序扫描时加载第四电压信号。
本实施例中，栅线4的扫描顺序包括：顺序扫描和逆序扫描。当栅线4进行顺序扫描时，第一电极1加载第一电压信号，第二电极2加载第三电压信号；当栅线4进行逆序扫描时，第一电极1加载第二电压信号，第二电极2加载第四电压信号。
由于扫描顺序的改变，可使得第一电极1和/或第二电极2上加载电压信号的改变，进而使得包括本实施例提供的阵列基板的显示装置的显示模式的改变。需要说明的是，本实施例中的显示装置为常黑模式。
在本实施例中，栅线4的扫描顺序的不同对应显示装置的显示模式的不同。具体地，栅线4进行顺序扫描时对应显示装置的透明显示，栅线4进行逆序扫描时对应显示装置的非透明显示，或者栅线4进行顺序扫描对应显示装置的非透明显示，栅线4进行逆序扫描对应显示装置的透明显示。
下面以栅线4进行顺序扫描对应显示装置的透明显示，栅线4进行逆序扫描对应显示装置的非透明显示为例进行详细描述。
可选地，第一电压信号、第三电压信号、第四电压信号为像素电压信号，第二电压信号为公共电压信号，开关单元包括：第一开关单元和第二开关单元；第一开关单元用于控制第一电极1加载公共电压信号；第二开关单元用于控制第一电极1和第二电极2加载像素电压信号。
通过不同的开关单元的控制，可使得第一电极1上加载像素电压信号或者公共电压信号。当第一电极1上加载像素电压信号时，在显示装置中第一电极1所对应的区域可实现显示；当第一电极1上加载公共电压信号时，在显示装置中第一电极对应区域不能实现显示像素。其中，当第一电极1所对应的区域进行显示时，第一电极对应区域透出白光，该区域呈现透明态，对应的像素单元的透光率上升，色域下降。当第一电极1所对应的区域没有进行显示时，第一电极1所对应的区域不透光，该区域呈现非透明态，对应的像素单元的透光率下降，色域上升。
图3为包括本实施例一提供的阵列基板的显示装置的透明显示的效果图，如图3所示，第一电极对应区域12呈现透明态，第二电极对应区域13正常显示，则显示装置的显示模式为透明显示。图4为包括本实施例一提供的阵列基板的显示装置的非透明显示的效果图，如图4所示，第一电极对应区域12呈现非透明态时，第二电极对应区域13正常显示，显示装置的显示模式为非透明显示。
参见图1和图2，可选地，该阵列基板还包括：公共电极线5，第一开关单元包括：第一开关管6，第一开关管6的栅极与对应的栅线4的上一条栅线连接，第一开关管6的第一极与公共电极线5连接，第一开关管6的第二极与对应的第一电极1连接。
第二开关单元包括：第二开关管7和第三开关管8；
第二开关管7的栅极与对应的栅线4连接，第二开关管7的第一极与对应的数据线3连接，第二开关管7的第二极与对应的第一电极1连接；
第三开关管8的栅极与对应的栅线4连接，第三开关管8的第一极与对应的数据线3连接，第三开关管8的第二极与对应的第二电极2连接；
可选的，上述第一开关管6、第二开关管7和第三开关管8均为薄膜场效应晶体管（Thin Film Transistor，简称TFT），第一极为源极，第二极为漏极。
需要说明的是，开关单元的结构可以根据不同的设计需要而进行改变，本发明提供的三开关管的结构并不对本发明产生限制。下面根据图1中的结构，详细说明本发明的原理。
在栅线4进行顺序扫描过程中：
当第K条栅线完成扫描时，第K行的像素单元中第一开关管6截止，第K行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均导通，第K+1行的像素单元中第一开关管6导通，第K+1行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均截止。
此时，在第K-1行的像素单元中，第一电极1维持像素电压信号，第二电极2维持像素电压信号；在第K行的像素单元中，由于第二开关管7和第三开关管8均导通，则第一电极1加载的电压信号由公共电压信号变为像素电压信号，第二电极2开始加载像素电压信号；在第K+1行的像素单元中，由于第一开关管6导通，则第一电极1加载公共电压信号，同时，由于第二开关管7和第三开关管8均截止，则第二电极2没有加载电压信号。
当第K+1条栅线完成扫描时，第K+1行的像素单元中第一开关管6截止，第K+1行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均导通，第K+2行的像素单元中第一开关管6导通，第K+2行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均截止。
此时，在第K-1行的像素单元中，第一电极1维持像素电压信号，第二电极2维持像素电压信号；在第K行的像素单元中，第一电极1维持像素电压信号，第二电极2维持像素电压信号；在第K+1行的像素单元中，由于第二开关管7和第三开关管8均导通，则第一电极1加载的电压信号由公共电压信号变为像素电压信号，第二电极2开始加载像素电压信号；在第K+2行的像素单元中，由于第一开关管6导通，则第一电极1加载公共电压信号，同时，由于第二开关管7和第三开关管8均截止，则第二电极2没有加载电压信号。
当最后一条栅线扫描完成后，阵列基板上的第一电极1上均加载了像素电压信号，第二电极2上也加载了像素电压信号。在显示装置上，第一电极对应区域12透出白光，第二电极对应区域13透出彩光，此时显示装置的显示模式为透明显示。
在栅线4进行逆序扫描过程中：
当第K+1条栅线完成扫描时，第K+2行的像素单元中第一开关管6导通，第K+2行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均截止；第K+1行的像素单元中第一开关管6截止，第K+1行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均导通；第K行的像素单元中，第一开关管6、第二开关管7和第三开关管8均截止。
在第K+2行的像素单元中，由于第一开关管6导通，则第一电极1加载的电压信号由像素电压信号变为了公共电压信号，由于第二开关管7和第三开关管8均截止，则第二电极2维持像素电压信号；在第K+1行的像素单元中，由于第二开关管7和第三开关管8均导通，则第一电极1加载像素电压信号，第二电极2加载像素电压信号。在第K行的像素单元中，由于第一开关管6、第二开关管7和第三开关管8均截止，则第一电极1没有加载电压信号，第二电极2没有加载电压信号。
当第K条栅线完成扫描时，第K+1行的像素单元中第一开关管6导通，第K+1行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均截止；第K行的像素单元中第一开关管6截止，第K行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均导通；第K-1行的像素单元中，第一开关管6、第二开关管7和第三开关管8均截止。
在第K+1行的像素单元中，由于第一开关管6导通，则第一电极1加载的电压信号由像素电压信号变为了公共电压信号，同时，由于第K+1行的像素单元中第二开关管7和第三开关管8均截止，则第二电极2维持像素电压信号；在第K行的像素单元中，由于第二开关管7和第三开关管8均导通，则第一电极1开始加载像素电压信号，第二电极2开始加载像素电压信号。在第K-1行的像素单元中，由于第一开关管6、第二开关管7和第三开关管8均截止，则第一电极1没有加载电压信号，第二电极2没有加载电压信号。
当第一条栅线扫描完成后，阵列基板上的第一电极1上均加载了公共电压信号，第二电极2上加载了像素电压信号。在显示装置上，第一电极对应区域12不透光，第二电极对应区域13透出彩光，此时显示装置的显示模式为非透明显示。
具有上述结构的阵列基板，当栅线4进行顺序扫描时，包括该阵列基板的显示装置的显示模式为透明显示，当栅线4进行逆序扫描时，包括该阵列基板的显示装置的显示模式为非透明显示。由于只用改变栅线4的扫描顺序便能实现显示装置的透明显示与非透明显示的切换，使得切换过程简单，切换效率较高。
需要说明的是，当上述的第一开关管6的栅极与对应的栅线4的下一条栅线连接时，便可实现栅线4进行顺序扫描时对应显示装置的非透明显示，栅线4进行逆序扫描时对应显示装置的透明显示的情况，该情况的实现过程不再进行基体描述。
可选地，第一电极1的面积小于或等于第二电极2的面积。本实施例中，第一电极1用于控制显示装置的透明显示与非透明显示的切换，第二电极2用于显示彩色图像，为保证显示装置的显示效果良好，可使得第一电极1的面积小于或等于第二电极2的面积。
可选地，间隔的像素单元内设置有开关单元和第一电极1。在间隔的像素单元内设置有开关单元和第一电极1，可使得在透明显示时整体画面的亮度更为均匀。需要说明的是，在图1中每个像素单元内设置有开关单元和第一电极1，而间隔的像素单元内设置有开关单元和第一电极1的情况没有给出相应的附图。
本发明实施例一提供了一种阵列基板，通过对像素单元内开关单元以及电极结构的改变，以及对栅线进行顺序扫描或逆序扫描的方式，实现了包括本实施例一提供的阵列基板的显示装置的透明显示或非透明显示，本发明实施例一没有新增外部设备，可有效节约成本，同时在透明显示与非透明显示之间切换时，操作过程简单，切换效率较高。
实施例二
图5为本发明实施例二提供的彩膜基板的局部结构示意图，如图5所示，该彩膜基板包括：设置在第二衬底基板上的遮光条10，遮光条10限定出像素区域，像素区域内形成有彩色矩阵图形9，至少部分像素区域内形成有透明图形11。
其中，彩色矩阵图形9可包括：红色矩阵图形R、绿色矩阵图形G和蓝色矩阵图形B，当然彩色矩阵图形9还可为其他颜色矩阵图形；同时，遮光条可以为黑矩阵或由遮光材料所构成的其他单元。
本实施例中，在包括本实施例提供的彩膜基板的显示装置中，通过控制透明图形11的对应区域透出白光或者不透光，可实现显示装置的透明显示或非透明显示。
需要说明的是，透明图形11可以为透明膜或者为镂空结构。
可选地，透明图形11的面积小于或等于彩色矩阵图形9的面积。由于透明图形11的所对应的区域只能透出白光或者不透光，而彩色矩阵图形9的所对应的区域用于显示彩色图像，为保证显示装置的显示效果，可使得透明图形11的面积小于或等于彩色矩阵图形9的面积。
可选地，间隔的像素区域内设置有透明图形11。在间隔的像素单元内设置有透明图形11，可使得在透明显示时整体画面的亮度更为均匀。
本发明实施二提供了一种彩膜基板，通过在像素区域内增加透明图形，实现了包括本实施例二提供的彩膜基板的显示装置的透明显示或非透明显示。
实施例三
本发明实施例三提供了一种显示面板，该显示面板包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，阵列基板采用上述实施例一提供的阵列基板，彩膜基板采用上述实施例二采用的彩膜基板，像素单元与像素区对应设置，第一电极与透明图形对应设置，第二电极与彩色矩阵图形对应设置。具体可参见上述实施例一和实施二中的描述，此处不再赘述。
需要说明的是，本实施例三中的显示面板包括：扭曲向列型（Twisted Nematic，简称TN）面板、垂直配向型（VerticalAlignment，简称VA）面板、平面转换型（In-Plane Switching，简称IPS）面板或边缘场开关型（Fringe Field Switching，简称FFS）面板中的任一种。
本发明实施例三提供了一种显示面板，该显示面板包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，在阵列基板上设置有第一电极以及相应的开关单元，在彩膜基板上设置有透明图形，第一电极与透明图形对应设置，通过对栅线进行顺序扫描或逆序扫描的方式，实现了包括本实施例三提供的显示面板的显示装置的透明显示或非透明显示，本发明实施例三提供的显示面板中没有新增外部设备，可有效节约成本，同时在透明显示与非透明显示之间切换时，操作过程简单，切换效率较高。
实施例四
本发明实施例四提供一种显示装置，该显示装置包括：显示面板，该显示面板采用上述实施例三提供的显示面板，具体可参见上述实施例三，此处不再描述。
本发明实施例四提供一种显示装置，该显示装置包括显示面板，该显示面板包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，其中，在阵列基板上设置有第一电极以及相应的开关单元，在彩膜基板上设置有透明图形，第一电极与透明图形对应设置，通过对栅线进行顺序扫描或逆序扫描的方式，实现了显示装置的透明显示或非透明显示，本发明实施例四提供的显示装置没有新增外部设备，可有效节约成本，同时在透明显示与非透明显示之间切换时，操作过程简单，切换效率较高。
实施例五
图6为本发明实施例五提供的阵列基板的制造方法的流程图，如图6所示，该制造方法包括：
步骤101：在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元。
其中，开关单元包括：第一开关管、第二开关管和第三开关管，第一开关管、第二开关管和第三开关管均包括：栅极、第一极和第二极，栅线和数据线限定出像素单元。可选地，步骤101包括：
步骤1011：在第一衬底基板上形成栅线和栅极。
在第一衬底基板上形成一层导电膜，再通过构图工艺形成栅线和栅极。
步骤1012：在栅线和栅极的上方形成第一绝缘层。
步骤1013：在第一绝缘层上方形成有源层。
在绝缘层上形成有源材料层，通过构图工艺形成所述有源层图形。
步骤1014：在有源层的一侧形成第一极，在有源层的另一侧形成第二极。
在第一绝缘层上沉积金属材料层，通过构图工艺形成第一极和第二极，第一极和第二极分别位于有源层的两侧，第一极和第二极分别与有源层两侧边相连。
步骤1015：在绝缘层上方形成数据线。
在绝缘层上形成一层导电膜，再通过构图工艺形成数据线，数据线与第一极连接。需要说明的是，步骤1014与步骤1015可同时执行。
在上述的步骤中，形成栅线与数据线的同时，也形成开关单元。
需要说明的是，虽然通过上述执行顺序形成的第一开关管、第二开关管和第三开关管为底栅型开关管，但是本实施例可以通过改变上述步骤的执行顺序，从而实现第一开关管、第二开关管和第三开关管为顶栅型开关管。
步骤102：在第一衬底基板上形成第一电极和第二电极。
具体地，步骤102包括：
步骤1021：在数据线上形成第二绝缘层。
步骤1022：在第二绝缘层上形成第一电极和第二电极。
在第二绝缘层上设置一层电极基材，通过磁控溅射原理对电极基材进行处理形成第一电极和第二电极。第一电极和第二电极位于像素单元内，第一电极用于当栅线进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当栅线进行逆序扫描时加载第二电压信号，第二电极用于当栅线进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当栅线进行逆序扫描时加载第四电压信号。
其中，第一电极与第二电极绝缘。可选地，第一电极与第二电极的材料均为氧化铟锡（ITO）。
需要说明的是，上述构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、光刻胶剥离等工艺。
本发明实施例五提供一种阵列基板的制造方法，在第一衬底基板上设置第一电极，通过对栅线进行顺序扫描或逆序扫描的方式，使得第一电极上加载的电压信号产生变化，从而使得第一电极的对应区域的显示模式发生变化，从而实现显示面板的透明显示或非透明显示。利用本实施例五提供的制造方法制造出的阵列基板，没有新增外部设备，可有效节约成本，同时在透明显示与非透明显示之间切换时，操作过程简单，切换效率较高。
实施例六
实施例六提供了一种阵列基板的制造方法，该阵列基板包括：公共电极，该制造方法包括：
步骤201：在第一衬底基板上形成公共电极。
在第一衬底基板形成一层电极基材，通过磁控溅射原理形成公共电极。需要说明的是，为使得公共电极与栅线、数据线或开关单元之间绝缘，可以在公共电极上方形成第三绝缘层。
步骤202：在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元。
步骤203：在第一衬底基板上形成第一电极和第二电极。
步骤202与步骤203的具体过程可参见上述实施例一中的步骤101与步骤102的描述，此处不在赘述。
本实施例六中，先执行步骤201，再执行步骤202，最后执行步骤203，使得公共电极与第一电极和第二电极不再同一平面，通过上述顺序制造出的阵列基板为FFS型面板中的阵列基板。
可选地，先执行步骤202，再同时执行步骤201与步骤203，使得公共电极、第一电极和第二电极位于同一平面，通过上述执行顺序制造出的阵列基板为IPS型面板中的阵列基板。
需要说明的是，上述实施例一中的阵列基板可通过本实施例五或实施例六中提供的制造方法得以实现。
本发明实施例六提供一种阵列基板的制造方法，在第一衬底基板上设置第一电极，通过对栅线进行顺序扫描或逆序扫描的方式，使得第一电极上加载的电压信号产生变化，从而使得第一电极的对应区域的显示模式发生变化，从而实现显示面板的透明显示或非透明显示。利用本实施例五提供的制造方法制造出的阵列基板，没有新增外部设备，可有效节约成本，同时在透明显示与非透明显示之间切换时，操作过程简单，切换效率较高。
实施例七
图7为本发明实施例七提供的彩膜基板的制造方法的流程图，如图7所示，该制造方法包括：
步骤301：在第二衬底基板上形成遮光条。
在第二衬底基板上设置一层遮光条基材，通过构图工艺对遮光条基材进行处理形成遮光条，其中遮光条限定出像素区域；
步骤302：在第二衬底基板上形成彩色矩阵图形。
在第二衬底基板上设置彩色矩阵图形基材，通过构图工艺对彩色矩阵图形基材进行处理形成彩色矩阵图像，彩色矩阵图形位于像素区域内；
步骤303：在第二衬底基板上形成透明图形。
对彩色矩阵图像再次进行构图工艺，形成透明图形，则此时形成透明图形为镂空结构，当然，也可在此镂空结构的基础上设置一层透明膜，此时透明图形为透明膜。
需要说明的是，步骤302与步骤303可同时进行，即对彩色矩阵图形基材采用构图工艺时，使得彩色矩阵图形与透明图形同时形成。
此外，上述实施例二中的彩膜基板可通过本实施例七提供的制造方法得以实现。
本发明实施七提供了一种彩膜基板的制造方法，通过本发明实施例七提供的制造方法制造出的彩膜基板，该彩膜基板的像素区域内形成有透明图形，通过该透明图形可实现显示装置的透明显示或非透明显示。
可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (14)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：交叉设置在第一衬底基板上的栅线和数据线，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述像素单元内设置有第二电极和开关单元，至少部分所述像素单元内设置有第一电极；
所述开关单元，用于控制所述第一电极和第二电极加载电压信号；
所述第一电极，用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第二电压信号；
所述第二电极，用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第四电压信号。
2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电压信号、第三电压信号和第四电压信号为像素电压信号，所述第二电压信号为公共电压信号。
3.根据权利要求2所述阵列基板，其特征在于，所述开关单元包括：第一开关单元和第二开关单元；
所述第一开关单元，用于控制所述第一电极加载所述公共电压信号；
所述第二开关单元，用于控制所述第一电极和第二电极加载像素电压信号。
4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，还包括公共电极线，所述第一开关单元包括：第一开关管；
所述第一开关管的栅极与对应的所述栅线的上一条栅线连接，所述第一开关管的第一极与所述公共电极线连接，所述第一开关管的第二极与对应的所述第一电极连接，
所述第二开关单元包括：第二开关管和第三开关管；
所述第二开关管的栅极与对应的所述栅线连接，所述第二开关管的第一极与对应的所述数据线连接，所述第二开关管的第二极与对应的所述第一电极连接；
所述第三开关管的栅极与对应的所述栅线连接，所述第三开关管的第一极与对应的所述数据线连接，所述第三开关管的第二极与对应的所述第二电极连接。
5.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一电极的面积小于或等于所述第二电极的面积。
6.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，间隔的所述像素单元内设置有开关单元和第一电极。
7.一种彩膜基板，其特征在于，包括：设置在第二衬底基板上的遮光条，所述遮光条限定出像素区域，所述像素区域内形成有彩色矩阵图形，至少部分所述像素区域内形成有透明图形。
8.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，所述透明图形的面积小于或等于所述彩色矩阵图形的面积。
9.根据权利要求7所述的彩膜基板，其特征在于，间隔的所述像素区域内设置有透明图形。
10.一种显示面板，其特征在于，包括：相对设置的阵列基板和彩膜基板，所述阵列基板采用权利要求1至6中任一所述的阵列基板，所述彩膜基板采用权利要求7至9中任一所述的彩膜基板，所述像素单元与所述像素区对应设置，所述第一电极与所述透明图形对应设置，所述第二电极与所述彩色矩阵图形对应设置。
11.一种阵列基板的制造方法，其特征在于，包括：
在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述开关单元位于所述像素单元内；
在第一衬底基板上形成第一电极和第二电极，所述第一电极和所述第二电极位于像素单元内，所述第一电极用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第一电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第二电压信号，所述第二电极用于当所述栅线进行顺序扫描时加载第三电压信号以及当所述栅线进行逆序扫描时加载第四电压信号。
12.根据权利要求11所述的一种阵列基板的制造方法，其特征在于，所述开关单元包括：第一开关管、第二开关管和第三开关管，所述第一开关管、所述第二开关管和所述第三开关管均包括：栅极、第一极和第二极，所述在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述开关单元位于所述像素单元内包括：
在第一衬底基板上形成栅线和栅极；
在所述栅线和所述栅极的上方形成第一绝缘层；
在所述第一绝缘层上方形成有源层；
在所述有源层的一侧形成所述第一极，在所述有源层的另一侧形成所述第二极；
在所述第一绝缘层上方形成数据线。
13.根据权利要求11所述的一种阵列基板的制造方法，所述阵列基板还包括：公共电极，所述在第一衬底基板上形成栅线、数据线和开关单元，所述栅线和所述数据线限定出像素单元，所述开关单元位于所述像素单元内之前还包括:
在所述第一衬底基板上形成所述公共电极。
14.一种彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：
在第二衬底基板上形成遮光条，所述遮光条限定出像素区域；
在第二衬底基板上形成彩色矩阵图形，所述彩色矩阵图形位于所述像素区域内；
在第二衬底基板上形成透明图形，所述透明图形位于像素区域内。
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