CN103607836A - 一种新型等离子体处理装置 - Google Patents
一种新型等离子体处理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103607836A CN103607836A CN201310607628.3A CN201310607628A CN103607836A CN 103607836 A CN103607836 A CN 103607836A CN 201310607628 A CN201310607628 A CN 201310607628A CN 103607836 A CN103607836 A CN 103607836A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- shell
- processing device
- plasma processing
- electrode
- spiral electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Abstract
本发明涉及一种新型等离子体处理装置,包括外壳、电源和电极组件,所述外壳上方可拆卸设置有盖体,所述外壳壁体上设置有用于反应气体进入外壳内的气体入口和用于抽真空的抽气口,所述外壳内设置有反应腔室,所述电极组件为设置于同一平面的螺旋状电极,所述螺旋状电极两端分别与所述电源电连接。本发明中电极组件为同一平面的螺旋状电极,螺旋状电极通电并在附近形成高频电场,高频电场的空间相较于现有技术中的大并且在这高频电场的空间内无任何干扰,提高处理效率。
Description
技术领域
本发明涉及等离子体处理装置,尤其涉及一种新型等离子体处理装置。
背景技术
低温等离子体技术作为一种新的表面改性手段,能快速、高效、无污染地改善纺织材料的表面性能,赋予新的特征,同时又不改变材料的本体特点,已经越来越被世界各国的研究人员所重视,等离子体表面处理是利用气体放电产生的等离子体对材料表面进行物理和化学反应。参与反应的有激发态粒子、自由基和离子,也包括等离子体辐射紫外线的作用。通过表面反应有可能在表面引入特定官能团,产生表面活化和刻蚀,形成交联结构或生成表面自由基。这些作用一般不是单一的,往往某种作用为主,几种作用并存。正是这些作用决定了等离子体表面处理的有效性。
现有技术中,通常采用一对平板电极作为电极组件,材料在电极组件之间进行表面处理,由于平板电极结构的局限性,材料的反应空间小,效率低。
因此,亟需一种新型等离子体处理装置。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术存在的缺陷,提供一种新型等离子体处理装置。
实现本发明目的的技术方案是:一种新型等离子体处理装置,包括外壳、电源和电极组件,所述外壳上方可拆卸设置有盖体,所述外壳壁体上设置有用于反应气体进入外壳内的气体入口和用于抽真空的抽气口,所述外壳内设置有反应腔室,所述电极组件为设置于同一平面的螺旋状电极,所述螺旋状电极两端分别与所述电源电连接。
进一步的,所述盖体为玻璃盖体。
进一步的,还包括震动盘和与所述震动盘连接的震动机构,所述震动盘设置于所述反应腔室底部。
本发明具有积极的效果:本发明中电极组件为同一平面的螺旋状电极,螺旋状电极通电并在附近形成高频电场,高频电场的空间相较于现有技术中的大并且在这高频电场的空间内无任何干扰,提高处理效率。
附图说明
为了使本发明的内容更容易被清楚地理解,下面根据具体实施例并结合附图,对本发明作进一步详细的说明,其中:
图1为本发明第一实施例的结构示意图;
图2为本发明第二实施例的结构示意图。
其中:1、震动机构,2、震动盘,3、反应腔室,4、盖体,5、电极组件,6、电源,7、外壳。
具体实施方式
实施例1
如图1所示,本发明第一实施例提供一种新型等离子体处理装置,包括外壳7、电源6和电极组件5,外壳7上方可拆卸设置有盖体4,外壳7壁体上设置有用于反应气体进入外壳7内的气体入口和用于抽真空的抽气口,外壳7内设置有反应腔室3,电极组件5为设置于同一平面的螺旋状电极,螺旋状电极两端分别与电源6电连接。
本实施例中电极组件5为同一平面的螺旋状电极,螺旋状电极通电并在附近形成高频电场,高频电场的空间相较于现有技术中的大并且在这高频电场的空间内无任何干扰,提高处理效率。
实施例2
如图2所示,其余与实施例1相同,不同之处在于,本发明第二实施例还包括震动盘2和与震动盘2连接的震动机构1,震动盘2设置于反应腔室3底部,盖体4为玻璃盖体。
本实施例中增加震动盘2,可适用于颗粒状材料的表面处理,颗粒状材料在震动下翻转使得处理更加均匀,处理效果好;盖体4为玻璃盖体,可方便查看颗粒材料在处理过程中的工作情况。
以上所述的具体实施例,对本发明的目的、技术方案和有益效果进行了进一步详细说明,所应理解的是,以上所述仅为本发明的具体实施例而已,并不用于限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (3)
1. 一种新型等离子体处理装置,其特征在于,包括外壳、电源和电极组件,所述外壳上方可拆卸设置有盖体,所述外壳壁体上设置有气体入口和抽气口,所述外壳内设置有反应腔室,所述电极组件为设置于同一平面的螺旋状电极,所述螺旋状电极两端分别与所述电源电连接。
2. 根据权利要求1所述的新型等离子体处理装置,其特征在于,所述盖体为玻璃盖体。
3. 根据权利要求1或2所述的新型等离子体处理装置,其特征在于,还包括震动盘和与所述震动盘连接的震动机构,所述震动盘设置于所述反应腔室底部。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310607628.3A CN103607836A (zh) | 2013-11-27 | 2013-11-27 | 一种新型等离子体处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201310607628.3A CN103607836A (zh) | 2013-11-27 | 2013-11-27 | 一种新型等离子体处理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN103607836A true CN103607836A (zh) | 2014-02-26 |
Family
ID=50126020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201310607628.3A Pending CN103607836A (zh) | 2013-11-27 | 2013-11-27 | 一种新型等离子体处理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN103607836A (zh) |
Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1501763A (zh) * | 2002-11-14 | 2004-06-02 | 友达光电股份有限公司 | 等离子体处理装置 |
CN1533587A (zh) * | 2001-07-16 | 2004-09-29 | ����ͨѶ�ɷ�����˾ | 抬升及支撑装置 |
CN1728916A (zh) * | 2004-07-13 | 2006-02-01 | 诺信公司 | 超高速均匀等离子处理*** |
CN1812010A (zh) * | 2005-01-27 | 2006-08-02 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置 |
CN101359583A (zh) * | 2007-07-31 | 2009-02-04 | 东京毅力科创株式会社 | 批量式等离子体处理装置 |
US20100090539A1 (en) * | 2004-03-24 | 2010-04-15 | Richard Carl Auchterlonie | Method and apparatus for pulsed power generation |
CN102163530A (zh) * | 2007-08-31 | 2011-08-24 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
CN102280339A (zh) * | 2010-06-14 | 2011-12-14 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
CN102438391A (zh) * | 2006-09-22 | 2012-05-02 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 具有可调式电导体的装置及调整可调式电导体的方法 |
CN102487572A (zh) * | 2010-12-02 | 2012-06-06 | 理想能源设备有限公司 | 等离子加工装置 |
CN102568993A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-11 | 细美事有限公司 | 可调电容器、等离子体阻抗匹配装置、方法和基板处理设备 |
CN203618208U (zh) * | 2013-11-27 | 2014-05-28 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种新型等离子体处理装置 |
-
2013
- 2013-11-27 CN CN201310607628.3A patent/CN103607836A/zh active Pending
Patent Citations (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN1533587A (zh) * | 2001-07-16 | 2004-09-29 | ����ͨѶ�ɷ�����˾ | 抬升及支撑装置 |
CN1501763A (zh) * | 2002-11-14 | 2004-06-02 | 友达光电股份有限公司 | 等离子体处理装置 |
US20100090539A1 (en) * | 2004-03-24 | 2010-04-15 | Richard Carl Auchterlonie | Method and apparatus for pulsed power generation |
CN1728916A (zh) * | 2004-07-13 | 2006-02-01 | 诺信公司 | 超高速均匀等离子处理*** |
CN1812010A (zh) * | 2005-01-27 | 2006-08-02 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 电感耦合线圈及其电感耦合等离子体装置 |
CN102438391A (zh) * | 2006-09-22 | 2012-05-02 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 具有可调式电导体的装置及调整可调式电导体的方法 |
CN101359583A (zh) * | 2007-07-31 | 2009-02-04 | 东京毅力科创株式会社 | 批量式等离子体处理装置 |
CN102163530A (zh) * | 2007-08-31 | 2011-08-24 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
CN102280339A (zh) * | 2010-06-14 | 2011-12-14 | 东京毅力科创株式会社 | 基板处理方法和基板处理装置 |
CN102487572A (zh) * | 2010-12-02 | 2012-06-06 | 理想能源设备有限公司 | 等离子加工装置 |
CN102568993A (zh) * | 2010-12-30 | 2012-07-11 | 细美事有限公司 | 可调电容器、等离子体阻抗匹配装置、方法和基板处理设备 |
CN203618208U (zh) * | 2013-11-27 | 2014-05-28 | 苏州市奥普斯等离子体科技有限公司 | 一种新型等离子体处理装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105979691A (zh) | 一种利用低温等离子技术改性材料表面性能的装置 | |
CN203618208U (zh) | 一种新型等离子体处理装置 | |
CN102560426B (zh) | 自动循环等离子气相沉积*** | |
CN103695867B (zh) | 一种微波等离子体化学气相沉积装置 | |
CN104284505A (zh) | 常压低温等离子体流水式粉体材料改性*** | |
CN105080922A (zh) | 等离子体清洗设备 | |
CN103606508A (zh) | 一种颗粒材料表面等离子体处理装置 | |
CN103607836A (zh) | 一种新型等离子体处理装置 | |
CN203588970U (zh) | 一种适用于常压环境材料表面等离子体处理装置 | |
CN203562394U (zh) | 一种等离子体循环处理装置 | |
CN203562393U (zh) | 一种颗粒材料表面等离子体处理装置 | |
CN203617245U (zh) | 一种新型粉体等离子体处理装置 | |
CN103650699A (zh) | 一种种子等离子体处理装置及其处理方法 | |
CN204792677U (zh) | 一种用于化妆品颗粒材料表面改性的处理装置 | |
CN203562392U (zh) | 一种改进型粉体材料表面等离子体处理装置 | |
CN203582972U (zh) | 一种连续材料表面常压等离子体多级处理装置 | |
CN103730319A (zh) | 一种新型粉体等离子体处理装置 | |
CN202238033U (zh) | 一种材料表面低温等离子体改性装置 | |
CN203588974U (zh) | 一种真空远区等离子体处理装置 | |
CN103594318B (zh) | 一种等离子体循环处理装置 | |
KR101349194B1 (ko) | 유연한 실리콘 와이어 제조 장치 | |
CN103730320B (zh) | 一种微空心阴极等离子体处理装置 | |
CN203588972U (zh) | 一种毛细玻璃管内壁等离子体处理装置 | |
CN203203415U (zh) | 一种带有简易过滤装置的节能型冶炼炉 | |
CN203617246U (zh) | 一种微空心阴极等离子体处理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20140226 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |