CN103576672B - Lpcvd设备的温控***自校正方法与装置 - Google Patents

Lpcvd设备的温控***自校正方法与装置 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种LPCVD设备的温控***自校正方法,包括:对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;建立监督控制项,用于加强控制***的稳定性。同时,本发明也公开了一种LPCVD设备的温控***自校正装置,包括:控制模型模块,用于建立LPCVD设备各个温控区的包含时滞误差的PID控制模型;权重PID控制模型模块,用于建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项模型,并确定已建立的权值系数取值范围;监督模块,用于加强***的稳定性。通过此种设计,提高了PID控制模型参数设置的准确性。

Description

LPCVD设备的温控***自校正方法与装置
技术领域
本发明涉及温度自动化控制领域,特别涉及一种LPCVD设备的温控***自校正方法与装置。
背景技术
根据LPCVD工艺的要求,LPCVD设备中需要设计温度控制***,通常使用的控制方法是PID控制,控制器的参数设计是十分重要的。
由于LPCVD设备自身的实际特点,加热炉体共有5个温区,且5个温区之间相互有热干扰特性,那么5个温区控制器参数的调整考虑因素就不仅仅是自身的温区情况,还要考虑其他热干扰因素,目前的解决方法大是凭经验人为手动操作调整或离线计算调整。
手动调整的缺点是需要人员实时守候,并且***受人为因素影响大,容易受到人为误差因素的影响,而且实时性较差。离线调整的缺点为设计时的调整环境为理想状态下的环境,而实际工作中会有各种未知的及不可量化或模型化的因素无法加入***的环境设定中,所以离线计算调整后的效果不尽如人意,达不到预期的效果,费时费力,甚至会引起控制***的振荡不稳定。
发明内容
(一)要解决的技术问题
本发明的目的在于解决LPCVD设备中温度控制***的设计问题,尤其是传统PID***中各参数的设定不准确,不能在线调整的问题。
(二)技术方案
本发明采用如下技术方案:
一种LPCVD设备的温控***自校正方法,包含以下步骤:
1)对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;
2)建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;
3)建立监督控制项,用于加强LPCVD设备的温控***的稳定性。
优选的,所述步骤1)的PID控制模型的构建方式为使用增量式方式模型,该模型为
Δui(t)=(Kip(t)+ΔKip(t))(ei(t)-ei(t-1))+(Kii(t)+ΔKii(t))ei(t)
+(Kid(t)+ΔKid(t))(ei(t)-2ei(t-1)+ei(t-2))
式中,i为温区的序号;t为时刻;ei(t),ei(t-1)和ei(t-2)分别为第t,第t-1和第t-2时刻所得的误差信号;Δui(t)为控制器增量;Kip为比例系数,Kii为积分系数,Kid为微分系数。
优选的,所述步骤2)中使用
构建含权重系数的比例调整规则控制模型,
其中ΔKip(t)为比例自校正调整项,αi11、αi12为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
优选的,所述步骤2)中使用
构建含权重系数的积分调整规则控制模型,
其中ΔKii(t)为积分自校正调整项,αi21、αi22为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
优选的,所述步骤2)中使用
构建含权重系数的微分调整规则控制模型,
其中ΔKid(t)为积分自校正调整项,αi31、αi32为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
优选的,αi11,αi21,αi31,αi12,αi22和αi32的取值范围为0-1。
优选的,αi11,αi21,αi31,αi12,αi22和αi32的权重值分别为αi11=0.4,αi12=0.2,αi21=0.02,αi22=0.01,αi31=0.1和αi32=0.05。
优选的,所述步骤3)监督项的建立方法为,设定误差阈值,当误差超过阈值时,启动安全保护项,将***控制在***温度允许范围内。
优选的,监督项的控制模型为
u s ( t ) = u ^ ( t ) | e ( t ) | > e max 0 | e ( t ) | < e max
其中us(t)为监督控制,为监督控制数值,emax为设定的允许误差阈值。
一种LPCVD设备的温控***自校正装置,包括以下模块:
1)控制模型模块,用于建立LPCVD设备各个温控区的包含时滞误差的PID控制模型;
2)权重PID控制模型模块,用于建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项模型,并确定已建立的权值系数取值范围;
3)监督模块,用于加强LPCVD设备的温控***的稳定性。
(三)有益效果
本发明通过采用对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID模型;建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项模型,并确定已建立的权值系数取值范围;建立监督项以加强***的稳定性的手段,达到了PID控制中各个系数参数的设定,满足了在LPCVD设备中的实时自动化控制,可在线调整参数的问题。
附图说明
图1所示的是本发明的一种LPCVD设备的温控***自校正方法流程图;
图2所示的是本发明的一种LPCVD设备的温控***自校正装置的示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式做进一步描述。以下实施例仅用于说明本发明,但不用来限制本发明的范围。
如图1是本发明的一种LPCVD设备的温控***自校正方法流程图,如图2所示的是本发明的一种LPCVD设备的温控***自校正装置的示意图,在本实施例中,使用图2所示的装置和如图1所示的方法进而完成一种LPCVD设备的温控***自校正方法和设备的实施,以下实施例以此方案为例。
控制温度调节装置的具体工作,使所述反应腔室的温度达到LPCVD工艺的生产要求。其中,所述温度调节装置包括:PLC可编程逻辑控制器(ProgrammableLogicController,简称PLC),SCR可控硅整流器(SiliconControlledRectifier,简称SCR);所述温度传感器包括:热偶传感器。
实施例
本方法针对LPCVD设备温度控制自身独特的特性,对于PID结构的控制器,在PID控制器参数上添加一项参数调整项,由自身和附近相关温区的误差项和调整权重系数构成,并给定控制技术指标,调整项随时间变化可以在线调整修改,使控制***最终能够自动的达到给定的技术指标。同时为了防止控制***的误差超过***允许的警戒值时加入监督控制防止控制***振荡不稳定。
定义t时刻误差为
e(t)=rin(t)-yout(t)t=1,2,…(1)
式中rin(t)为给定参考信号,yout(t)为实际控制***输出值,t为采样时刻。
考虑经典的增量式PID控制方法,其控制器结构如式(2)所示:
ui(t+1)=ui(t)+Δui(t)
(2)
Δui(t)=Kip(ei(t)-ei(t-1))+Kiiei(t)+Kid(ei(t)-2ei(t-1)+ei(t-2))
式中,i指第i个温区,ei(t),ei(t-1)和ei(t-2)分别为第t,第t-1和第t-2时刻所得的误差信号;ui(t)为第t时刻计算出的控制器的输出值;Δui(t)为控制器增量;Kip为比例系数,Kii为积分系数,Kid为微分系数。
接下来的任务就是调整Kip,Kii和Kid三个参数。加入三个参数的调整项,将式(2)修改为
ui(t+1)=ui(t)+Δui(t)
Δui(t)=(Kip(t)+ΔKip(t))(ei(t)-ei(t-1))+(Kii(t)+ΔKii(t))ei(t)(3)
+(Kid(t)+ΔKid(t))(ei(t)-2ei(t-1)+ei(t-2))
式(3)中的ΔKp(t),ΔKi(t)和ΔKd(t)为三个参数的自校正调整项。
自校正调整项的具体表示形式为
式中,ΔKip(t)为比例自校正调整项,ΔKii(t)为微分自校正调整项,ΔKid(t)为积分自校正调整项,参数αi11,αi21,αi31,αi12,αi22和αi32分别代表调整项的权重系数,ε为达到性能指标的误差值。权重系数取值范围为0~1之间,参数αi11=0.4,αi12=0.2,αi21=0.02,αi22=0.005,αi31=0.1和αi32=0.05。ε=0.1。
除此之外,为了防止控制***振荡不稳定,可以增加监督控制项us,当误差超过控制***允许的警戒范围的时候可以强行拉回到控制***允许的范围内。
u(t)=uc(t)-us(t)
式中,uc为经过参数调整后计算出的控制器数值,us为监督控制,其表达形式为
u s ( t ) = u ^ ( t ) | e ( t ) | > e max 0 | e ( t ) | < e max
式中为监督控制数值,emax为误差允许的警戒范围最大值,当误差超过允许的警戒范围最大值时,监督控制起作用,使控制***从接近不稳定的状态回到稳定的状态。
一种LPCVD设备的温控***自校正装置,如图2所示,包括控制模型模块、权重PID控制模型模块和监督模块。
控制模型模块,用于建立LPCVD设备各个温控区的包含时滞误差的PID控制模型。
权重PID控制模型模块,用于建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项模型,并确定已建立的权值系数取值范围。
监督模块,用于加强LPCVD设备的温控***的稳定性。
以上实施方式仅用于说明本发明,而并非对本发明的限制,有关技术领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围的情况下,还可以做出各种变化和变型,因此所有等同的技术方案也属于本发明的保护范畴。

Claims (8)

1.一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
1)对LPCVD设备各个温控区建立包含时滞误差的PID控制模型;
2)建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项的自校正调节项模型,并确定已建立的权重系数取值范围;
3)建立监督控制项,用于加强LPCVD设备的温控***的稳定性;
所述步骤1)的PID控制模型的构建方式为使用增量式方式模型,该模型为
Δui(t)=(Kip(t)+ΔKip(t))(ei(t)-ei(t-1))+(Kii(t)+ΔKii(t))ei(t)
+(Kid(t)+ΔKid(t))(ei(t)-2ei(t-1)+ei(t-2))
式中,i为温区的序号;t为时刻;ei(t),ei(t-1)和ei(t-2)分别为第t,第t-1和第t-2时刻所得的误差信号;Δui(t)为控制器增量;Kip为比例系数,Kii为积分系数,Kid为微分系数;
所述步骤2)中使用
构建含权重系数的比例调整规则控制模型,
其中ΔKip(t)为比例自校正调整项,αi11、αi12为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
2.根据权利要求1所述的一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,所述步骤2)中使用
构建含权重系数的积分调整规则控制模型,
其中ΔKii(t)为积分自校正调整项,αi21、αi22为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
3.根据权利要求1所述的一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,所述步骤2)中使用
构建含权重系数的微分调整规则控制模型,
其中ΔKid(t)为微分自校正调整项,αi31、αi32为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,αi11,αi21,αi31,αi12,αi22和αi32的取值范围为0-1。
5.根据权利要求4所述的一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,αi11,αi21,αi31,αi12,αi22和αi32的权重值分别为αi11=0.4,αi12=0.2,αi21=0.02,αi22=0.01,αi31=0.1和αi32=0.05。
6.根据权利要求1所述的一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,所述步骤3)监督控制项的建立方法为,设定误差阈值,当误差超过阈值时,启动安全保护项,将***控制在***温度允许范围内。
7.根据权利要求6所述的一种LPCVD设备的温控***自校正方法,其特征在于,监督控制项的控制模型为
u s ( t ) = u ^ ( t ) | e ( t ) | > e m a x 0 | e ( t ) | < e m a x
其中us(t)为监督控制,为监督控制数值,emax为设定的允许误差阈值。
8.一种LPCVD设备的温控***自校正装置,其特征在于,该装置包括以下模块:
1)控制模型模块,用于建立LPCVD设备各个温控区的包含时滞误差的PID控制模型;
2)权重PID控制模型模块,用于建立包含权重系数的比例,积分,微分控制项模型,并确定已建立的权值系数取值范围;
3)监督模块,用于加强LPCVD设备的温控的稳定性;
所述PID控制模型的构建方式为使用增量式方式模型,该模型为
Δui(t)=(Kip(t)+ΔKip(t))(ei(t)-ei(t-1))+(Kii(t)+ΔKii(t))ei(t)
+(Kid(t)+ΔKid(t))(ei(t)-2ei(t-1)+ei(t-2))
式中,i为温区的序号;t为时刻;ei(t),ei(t-1)和ei(t-2)分别为第t,第t-1和第t-2时刻所得的误差信号;Δui(t)为控制器增量;Kip为比例系数,Kii为积分系数,Kid为微分系数;
所述包含权重系数的微分控制项模型为
其中ΔKip(t)为比例自校正调整项,αi11、αi12为调整项的权重系数、ei(t)为误差信号,ε为达到性能指标的误差值。
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