CN103544885B - 制造显示面板的方法 - Google Patents

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Abstract

提供了一种制造显示面板的方法，所述方法包括：在基础基底上形成母面板；将上钝化膜附着到母面板；将基础基底与母面板分开；将下膜附着到母面板；切割附着有上钝化膜和下膜的母面板，以形成显示面板，所述显示面板呈单位单元的形式。显示面板包括显示基底、显示装置层和薄膜包封层。

Description

制造显示面板的方法
技术领域
示例实施例涉及一种制造显示面板的方法。
背景技术
显示装置包括液晶显示器（LCD）、等离子体显示面板（PDP）、有机发光二极管（OLED）显示器、场效应显示器（FED）和电泳式显示装置。
发明内容
实施例针对于一种制造显示面板的方法，所述方法包括：在基础基底上形成母面板；将上钝化膜附着到母面板；将基础基底与母面板分开；将下膜附着到母面板；切割附着有上钝化膜和下膜的母面板，以形成显示面板，所述显示面板呈单位单元的形式，其中，显示面板包括显示基底、显示装置层和薄膜包封层。
上钝化膜最初可以包括载体膜、形成在载体膜的下部上的粘合层和附着到粘合层的下部的离型膜。所述方法可以包括去除离型膜，以将粘合层附着到薄膜包封层。
载体膜可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、硫化聚乙烯和聚乙烯中的任意一种形成。
载体膜可以具有大约25μm到大约300μm的厚度。
当不锈钢（SUS）是粘附物时，粘合层可以具有大约1gf/inch到大约50gf/inch的粘附强度。
粘合层可以是硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类膜。
上钝化膜最初可以包括第一载体膜、形成在第一载体膜的下部上的第一粘合层、形成在第一粘合层的下部上的第二载体膜、形成在第二载体膜的下部上的第二粘合层以及附着到第二粘合层的下部的离型膜。所述方法还可以包括去除离型膜，以将第二粘合层附着到薄膜包封层。
第一载体膜和第二载体膜可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、硫化聚乙烯和聚乙烯中的任意一种形成。
第二载体膜可以具有大约25μm到大约300μm的厚度。
当不锈钢（SUS）是粘附物时，第二粘合层可以具有大约1gf/inch到大约50gf/inch的粘附强度。
第一粘合层和第二粘合层均可以独立地为硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类膜。
第一粘合层的粘附强度可以与第二粘合层的粘附强度相等或比第二粘合层的粘附强度小。
所述方法还可以包括在上钝化膜的上部上形成硬涂覆层。
硬涂覆层的厚度可以为大约3μm到大约4μm。
硬涂覆层可以通过将丙烯酰基聚氨酯涂覆到上钝化膜的上部上，然后执行紫外线（UV）固化来形成。
显示基底可以是柔性基底。
上钝化膜可以由透明材料形成。
所述方法还可以包括：以单位单元的形式将上钝化膜从显示面板的薄膜包封层去除；以及将功能层附着到薄膜包封层。
功能层可以是偏光器。
功能层可以是触摸屏面板。
功能层可以是光效率增加膜或亮度增加膜。
上钝化膜最初可以包括功能层、形成在功能层的上部上的功能层钝化膜、形成在功能层的下部上的粘合层和附着到粘合层的下部的离型膜。所述方法可以包括去除离型膜，以将粘合层附着到薄膜包封层。
当不锈钢是粘附物时，粘合层可以具有大约0.2kgf/inch到大约2kgf/inch的粘附强度。
所述方法还可以包括：在将上钝化膜附着到母面板之前，执行半切割，使得功能层、粘合层和离型膜留在除了其上形成有显示装置层的表面上之外的单位外缘部分上。
所述方法还可以包括：在切割母面板以形成呈单位单元的形式的显示面板之后，将功能层钝化膜、功能层、粘合层和离型膜从单位外缘部分去除。
可以执行将上钝化膜从单位外缘部分去除的步骤，使得功能层的与其上形成有显示装置层的表面相对应的端表面与显示装置层的端表面重合。
功能层可以是偏光器。
功能层可以是触摸屏面板。
功能层可以是光效率增加膜或亮度增加膜。
上钝化膜还可以包括位于功能层钝化膜上的虚设钝化膜。
粘合层的粘附强度可以通过紫外线（UV）来改变。
附图说明
通过参照附图对示例实施例进行详细描述，对于本领域技术人员来说特征将变得明显，在附图中：
图1示出的流程图示出了根据示例性实施例的制造显示面板的方法。
图2A到图2F示出的过程图示出了根据示例性实施例的制造显示面板的方法的阶段。
图3示出的剖视图示出了根据示例性实施例的切割成单位单元（上钝化膜附着到其上）的单元显示面板。
图4示出根据示例性实施例的上钝化膜的剖视图。
图5示出根据另一示例性实施例的上钝化膜的剖视图。
图6示出的剖视图示出了在根据又一示例性实施例的硬涂覆层在上钝化膜上的形成。
图7示出根据又一示例性实施例的上钝化膜的剖视图。
图8示出根据再一示例性实施例的上钝化膜的剖视图。
图9示出的流程图示出了根据另一示例性实施例的制造显示面板的方法。
图10A到图10F示出的过程图示出了根据另一示例性实施例的制造显示面板的方法的每个阶段。
具体实施方式
现在，将在下文参照附图更充分地描述示例实施例；然而，示例实施例可以以不同的形式来实施，而不应该被理解为局限于在这里阐述的实施例。相反，提供这些实施例使得本公开将是彻底且完全的，并将把本发明的范围充分地传达给本领域的技术人员。
在附图中，为了示出的清晰起见，可能夸大层和区域的尺寸。还将理解的是，当层或元件被称作“在”另一层或基底“上”时，该层或元件可以直接在另一层或基底上，或者也可以存在中间层。此外，还将理解的是，当层被称作“在”两个层“之间”时，该层可以是这两层之间唯一的层，或者也可以存在一个或多个中间层。相同的标号始终表示相同的元件。
在下文中，将参照图1和图2A到图2F描述根据示例性实施例的制造显示面板的方法。
图1示出的流程图示出了根据示例性实施例的制造显示面板的方法。在下面的描述中，指示流程图中示出的阶段的标号S101到S106在框中显示。图2A到图2F示出的过程图示出了根据示例性实施例的制造显示面板的方法的阶段。
参照图1和图2A到图2F，首先，可以在基础基底20上设置母面板100，母面板100包括显示基底40、形成在显示基底40上的显示装置层50和形成显示装置层50上的薄膜包封层30。附着到显示基底40的基础基底20可以提供足够的厚度，以能够方便对母面板100进行操作。显示基底40可以是柔性的聚酰亚胺（PI）基底。将理解的是，母面板100可以包括多个显示装置层50和位于显示基底40上的彼此分隔开的相应的薄膜包封层30。
显示装置层50可以是有机发光显示装置层。薄膜包封层30可以通过将一个或更多个有机层与一个或更多个无机层交替地层叠而形成为有机和无机复合层。整个显示装置50可以被薄膜包封层30覆盖，以被保护而不受外部空气影响。在图1到图3中，薄膜包封层30被示意性地示出。
显示基底40可以使用下述方法来制造：熔融挤出方法，在融化之后执行双轴向拉伸以制造基底；或者溶剂铸造机方法（solvent caster method），混合并溶解添加物和塑料以保证流动性，然后使产生的结构流过具有固定厚度的狭缝模以使溶剂挥发，因此对塑性基底成型。
如图2A中所示，可以将根据示例性实施例的上钝化膜10附着到母面板100的薄膜包封层30（S101）。如图4中所示，上钝化膜10最初可以由载体膜11、粘合层12和离型膜13组成。在去除离型膜13之后，可以将粘合层12附着到薄膜包封层30。
如图2B中所示，可以将基础基底20与母面板100的显示基底40分离（S102）。
如图2C中所示，在分离基础基底20之后，将下膜60附着到母面板100的显示基底40（S103）。下膜60附着到显示基底40，以防止或阻止在执行随后的工艺时显示基底40的表面被损坏。
如图2D中所示，切割上钝化膜10和下膜60附着的母面板100，以提供单元显示面板200（S104）。可以使用诸如激光切割或利用物理单元（例如，刀）切割的方法执行单位切割。由此，制造出图3中所示的根据示例性实施例的单元显示面板200。
如图2E和2F中所示，根据实施例的制造显示面板的方法还可以包括：从按单位单元切割的单元显示面板200的薄膜包封层30去除上钝化膜10（S105）；将功能层70附着到薄膜包封层30（S106）。
图3示出的剖视图示出了根据示例性实施例的切割成单位单元（上钝化膜附着到其上）的形式的单元显示面板200。参照图3，单元显示面板200包括显示基底40、显示装置层50和薄膜包封层30。上钝化膜10附着到薄膜包封层30，下膜60附着到显示基底40。
单元显示面板200可以是包括液晶的液晶显示面板，或者可以是包括有机发光部分的有机发光面板。显示基底40可以是透明基底和/或柔性基底（例如，聚合物膜）。显示装置层50可以形成在显示基底40上，并且可以包括装置区域和发光区域，在装置区域中形成诸如薄膜晶体管（TFT）的有源装置，在发光区域中形成发射层。薄膜包封层30形成在显示装置层50上，并且面对显示基底40。薄膜包封层30可以防止或阻止来自外部的氧气和湿气进入，以保护显示装置层50。
薄膜包封层30可以通过将一个或多个有机层与一个或多个无机层交替地堆叠而形成。
无机层或有机层均可以被设置成多层。
有机层可以由聚合物形成，例如，有机层可以是由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚碳酸酯、环氧树脂、聚乙烯和聚丙烯酸酯中的任意一种形成的单层或层叠的层。例如，有机层可以由聚丙烯酸酯形成，并且可以包括通过聚合包括二丙烯酸酯基单体和三丙烯酸酯基单体的单体组合物而获得的材料。单丙烯酸酯基单体也可以被包括在单体组合物中。另外，例如，诸如TPO的合适的光引发剂也可以被包括在单体组合物中。
无机层可以是包括金属氧化物或金属氮化物的单层或者层叠的层。例如，无机层可以包括SiNx、Al2O3、SiO2和TiO2中的任意一种。
薄膜包封层30的暴露到外部的最上层可以由无机层形成，以防止或阻止湿气渗透到有机发光装置。
薄膜包封层30可以包括至少一个夹层结构，其中，至少一个有机层插在至少两个无机层之间。在实施方式中，薄膜包封层30可以包括至少一个夹层结构，其中，至少一个无机层插在至少两个有机层之间。
薄膜包封层30可以包括从显示装置层50的上部顺序地设置的第一无机层、第一有机层和第二无机层。在实施方式中，薄膜包封层30可以包括从显示装置层50的上部顺序地设置的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层和第三无机层。在实施方式中，薄膜包封层30可以包括从显示装置层50的上部顺序地设置的第一无机层、第一有机层、第二无机层、第二有机层、第三无机层、第三有机层和第四无机层。
包括LiF的卤化金属层可以进一步被包括在显示装置层50和第一无机层之间。卤化金属层可以在通过溅射法或等离子体沉积法形成第一无机层时防止或阻止显示装置层50受到损坏。
第一有机层的面积可以比第二无机层的面积小。第二有机层的面积可以比第三无机层的面积小。第一有机层可以被第二无机层完全覆盖。第二有机层可以被第三无机层完全覆盖。
上钝化膜10附着到薄膜包封层30。上钝化膜10可以保护薄膜包封层30。薄膜包封层30可以是厚度薄的薄膜，并且可以覆盖构成显示装置层50的有机发光物质。就薄膜包封层30而言，会容易出现诸如刺穿或划痕的损坏。例如，会由于通过外部划痕或者执行诸如单位切割工艺的额外工艺时产生的外来物质而产生损坏。这种损坏会导致显示器上的明显缺陷，诸如暗点。当使用上钝化膜10以防止或减小薄膜包封层30的损坏的可能性时，当执行额外的工艺时，上钝化膜10可以保护薄膜包封层30的表面。因此，如果在执行额外的工艺时存在上钝化膜10，则可以去除或忽视用于保护薄膜包封层30而会另外施加的的限制。
上钝化膜10可以由透明材料形成。当透明膜被用作上钝化膜10时，可以执行对单元显示面板200的检查。另外，可以在设备中确认工艺标记，因此可以减少针对于用于执行额外工艺的设备/方法的限制。
下膜60可以附着到显示基底40，并且当执行工艺时，防止显示基底40的表面受到损坏。
图4示出根据示例性实施例的上钝化膜10的剖视图。参照图4，上钝化膜10最初可以包括载体膜11、粘合层12和离型膜13。
离型膜13可以是用于防止粘合层12与污染物以及与外部接触的保护纸。在上钝化膜10附着到薄膜包封层30之前，去除离型膜13，以将粘合层12附着到薄膜包封层30。
载体膜11可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）、硫化聚乙烯（PES）和聚乙烯（PE）中的任意一种形成。
载体膜11的厚度可以为大约200微米（μm）到大约300μm。
当执行单位切割工艺时，粘合层12可以保持附着到薄膜包封层30，当完成单位切割工艺（将在下面进行描述）并且附着另一功能层时，可以去除粘合层12。因此，粘附强度的上限/下限是期望的。当不锈钢（例如，钢用不锈钢，SUS）是粘附物时，粘合层可以具有大约1gf/inch到大约50gf/inch的粘附强度。当粘合层12具有在该范围内的粘附强度时，当执行单位切割工艺时可以防止或减少上钝化膜10的剥离/外缘部分的去除，和/或当去除上钝化膜10时可以减少或防止对薄膜包封层30的损坏（诸如，例如表面层的脱落）。
当聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）是粘附物时，粘合层12可以具有3.7gf/inch到8.4gf/inch的粘附强度。
粘合层12可以是硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类低粘附膜。
图5示出根据另一示例性实施例的上钝化膜80的剖视图。参照图5，上钝化膜80可以由第一载体膜81、形成在第一载体膜81的下部上的第一粘合层82、形成在第一粘合层82的下部上的第二载体膜83、形成在第二载体膜83的下部上的第二粘合层84和附着到第二粘合层84的下部上的离型膜（衬垫）85组成。
上钝化膜80可以具有双重结构，该双重结构包括由第一载体膜81和第一粘合层82形成的上膜UF和由第二载体膜83和第二粘合层84形成的下膜LF。离型膜85可以是用于防止第二粘合层84与污染物和与外部接触的保护纸。在上钝化膜80附着到薄膜包封层30之前，去除离型膜85，以将第二粘合层84附着到薄膜包封层30。
第一载体膜81和第二载体膜83可以由聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN）、硫化聚乙烯（PES）、聚乙烯（PE）中的任意一种形成。
第二载体膜83的厚度可以为大约25微米（μm）到大约300μm。
当不锈钢（钢用不锈钢，SUS）是粘附物时，第二粘合层84可以具有大约1gf/inch到大约50gf/inch的粘附强度，当聚对苯二甲酸乙二醇酯（PET）是粘附物时，第二粘合层84可以具有大约3.7gf/inch到大约8.4gf/inch的粘附强度。如上所述，上钝化膜80的变型结构是双重结构。
第一粘合层82的粘附强度可以与第二粘合层84的粘附强度相同或比第二粘合层84的粘附强度小。在另一实施方式中，第一载体膜81和第二载体膜83可以在没有第一粘合层82的情况下因诸如静电力或表面张力的附着强度而附着。
当使用具有单层结构的上述的上钝化膜10时，由于在设备中的设备阶段真空孔并且执行分布而会出现划擦，引起目视调整的缺陷或者妨碍后处理时通过设备的面板目视检查。在本示例性实施例的上钝化膜80的结构中，可以通过去除第一载体膜81执行目视检查。
图6示出的剖视图示出了在根据又一示例性实施例的硬涂覆层在上钝化膜上的形成。参照图6，硬涂覆层94可以形成在上钝化膜的上部上。图6示出硬涂覆层94形成在由载体膜91、粘合层92和离型膜93组成的单个上钝化膜上。然而，将理解的是，硬涂覆层94还被包括在上钝化膜的上部中的结构90可以应用于前述的单个上钝化膜或双重上钝化膜的所有结构。
硬涂覆层94可以通过将丙烯酰基聚氨酯（acryl-based urethane）涂覆到位于上钝化膜的上部处的载体膜91的表面上，然后利用紫外线（UV）照射丙烯酰基聚氨酯以执行固化来形成。
硬涂覆层94可以具有大约3微米（μm）到大约4μm的厚度。
硬涂覆层94可以在设备处理和执行分布时防止或阻止在上钝化膜的载体膜91中出现划痕。与上钝化膜相似，硬涂覆层94可以由透明材料形成，并且在硬涂覆层94与上钝化膜附着时，可以执行目视调整或面板目视检查。
在图2A到图2D中示出的处理阶段后的如图2E和图2F中所示的制造显示面板的方法还可以包括：将上钝化膜10从切割成单位单元的形式的单元显示面板200的薄膜包封层30去除（S105）；将功能层70附着到薄膜包封层30（S106）。
功能层70可以是偏光器、触摸屏面板或者光效率增加膜或亮度增加膜。
在切割成单位单元的形式的单元显示面板200中，出于各种目的，选择范围可以通过去除上钝化膜10并将功能层70附着到薄膜包封层30来变宽。例如，偏光器或触摸屏面板可以附着到有机发光显示器面板。与在初期附着偏光器使得偏光器一直附着到显示面板上的工艺相比，本发明的方法允许选择性，例如，附着触摸屏面板而非偏光器。
另外，除了偏光器或触摸屏面板之外，光效率增加膜或亮度增加膜可以在切割状态下附着到单元显示面板200，以增加显示面板结构的自由度。当偏光器和触摸屏面板附着到未分开的母基底时，由于可能存在极大的损坏以及产率和面积的损失，因此难以直接制造作为上膜的偏光器和触摸屏面板。另一方面，当使用临时的上钝化膜时，根据实施例，在结构的自由度方面可以保证大的优点。
图7示出根据又一示例性实施例的上钝化膜700的剖视图。参照图7，上钝化膜700自身可以包括功能层702。上钝化膜700最初可以包括功能层702、形成在功能层702的上部上的功能层钝化膜701、形成在功能层702的下部上的粘合层703和附着到粘合层703的下部的离型膜704。可以去除离型膜704，以将粘合层附着到薄膜包封层30。
当不锈钢（钢用不锈钢（SUS））是粘附物时，粘合层703可以具有大约0.2kgf/inch到大约2kgf/inch的粘附强度，粘合层703可以是硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类低粘附膜。
功能膜702可以是偏光器、触摸屏面板或者光效率增加膜或亮度增加膜。
图8示出根据再一示例性实施例的上钝化膜800的剖视图。参照图8，除了在图7中示出的上钝化膜700之外，上钝化膜800还可以包括虚设钝化膜805。上钝化膜800最初可以由功能层802、形成在功能层802的上部上的功能层钝化膜801、形成在功能层钝化膜801的上部上的虚设钝化膜805、形成在功能层802的下部上的粘合层803和附着到粘合层803的下部的离型膜804组成。可以去除离型膜804，以将粘合层803附着到薄膜包封层30。
当不锈钢（钢用不锈钢（SUS））是粘附物时，粘合层803可以具有大约0.2kgf/inch到大约2kgf/inch的粘附强度。粘合层803可以是硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类低粘附膜。功能膜802可以是偏光器、触摸屏面板或者光效率增加膜或亮度增加膜。
图9示出的流程图示出了根据另一示例性实施例的制造显示面板的方法，图10A到图10F示出的过程图示出了根据该示例性实施例的制造显示面板的方法的阶段。
参照图9和图10A到图10F，首先，在基础基底120上设置母面板1000，母面板1000包括包封其上形成有显示装置层150的显示基底140的薄膜包封层130。显示基底140的外缘部分可以被暴露，并且焊盘部分可以形成在显示基底140的外缘部分上。因此，在单位切割之后，焊盘部分可以敞开到外部。
如图10A和10B中所示，可以执行半切割（half-cut），使得功能层702、粘合层703和离型膜704除了留在其上形成有显示装置层150的上钝化膜700的表面上之外，还留在单位外缘部分142上（S901）。在这种情况下，半切割线HC从横截面来看可以仅切割功能层钝化膜701的厚度的一部分，以在将母面板1000切割成单元显示面板2000之后将单位外缘部分142上的功能层钝化膜701、功能层702、粘合层703和离型膜704一起去除。可以执行切割，使得离型膜704留在单位外缘部分142上。因此，两个半切割线HC可以形成在基于单位外缘部分142的单元显示面板2000的相应侧上。
如图10B中所示，其上形成有显示装置层150的表面的离型膜可以被去除，半切割的上钝化膜700可以附着到薄膜包封层130（S902）。上钝化膜700的粘合层703可以附着到与显示装置层150相对应的薄膜包封层130。
如图10C中所示，可以将基础基底120与显示基底分离，其中，基础基底120可以提供足够的厚度以能够便于处理母面板1000（S903）。
如图10D中所示，在将显示基底120分离之后，可以将下膜160附着到显示基底（S904）。下膜160可以附着到显示基底，以防止在执行额外的工艺时显示基底的表面受到损坏。
如图10E中所示，将附着有上钝化膜700和下膜160的母面板1000进行切割，以提供单元显示面板2000（S905）。可以使用诸如激光切割或利用物理单元（例如，刀）切割的方法执行单位切割。在形成在基于单位外缘部分142的两侧上的两条半切割线HC之间切割包括其上形成有显示装置层150的表面和单位外缘部分142的半切割线HC。
在下文中，如图10F中所示，在切割成单位单元形式的单元显示面板2000中，去除单位外缘部分142处的上钝化膜700（S906）。去除形成在功能层702的上部上的功能层钝化膜701以及单位外缘部分142的功能层702、粘合层703和离型膜704（S906）。如上所述，可以沿形成在基于单位外缘部分142的两侧上的两条半切割线中的另一条半切割线HC提前切割功能层702、粘合层703和离型膜704。因此，当剥掉功能层钝化膜701时，可以容易地去除单位外缘部分142的功能层702、粘合层703和离型膜704。
可以执行单位外缘部分的上钝化膜的去除（S906），使得功能层702和粘合层703的端表面（与其上形成有显示装置层150的表面对应）与显示装置层150的端表面重合。
图9和图10A到图10F中示出的上钝化膜700还可以包括位于功能层钝化膜701上的虚设钝化膜。功能层702可以是偏光器、触摸屏面板或者光效率增加膜或亮度增加膜。粘合层703的粘附强度可以通过利用紫外线（UV）照射粘合层而变化。当离型膜704留在单位外缘部分142上时，会由于台阶而产生气泡。为了防止气泡的产生，可以使用粘附强度变化的材料（使用紫外线（UV）使粘附强度变化）获得粘合层703，以去除台阶。
通过总结和回顾，显示装置通常可以包括薄膜晶体管、包括发射层的显示基底和覆盖显示基底的包封基底。在有机发光二极管显示器的情况下，使用薄膜玻璃包封显示基底，以防止湿气和氧穿过作为发光主体的有机材料。在柔性OLED显示器中，使用薄膜包封工艺。然而，在薄膜包封层中，会由于通过外部划擦或者执行诸如切割工艺的工艺时产生的外来物质而容易出现诸如刺痕或划痕的损坏，由此引起显示器上的缺陷，诸如暗点。
实施例可以通过提供一种下述的方法来提高生产率、加工能力和产率：在初始的基底状态下，将上钝化膜附着到基底上的薄膜包封层上，然而执行随后的工艺，以制造显示面板。
如上所述，通过根据示例性实施例的制造显示面板的方法，可以容易处理在自动化分布的设备和移动中的显示面板，并且可以保护薄膜包封层防止因通过外部划擦或通过将上钝化膜附着到薄膜包封层并执行所述工艺而执行工艺时产生的外来物质而损坏。此外，可以通过使用透明材料作为上钝化膜执行对显示面板的检查并且确定在设备中的过程标记。因此，可以减少或消除对设备/执行工艺的限制。此外，在去除上钝化膜之后，可以附着功能层（诸如触摸屏面板或光效率增加膜或光亮度增加膜）。因此，可以增加显示面板结构的自由度。
此外，可以通过将上钝化膜组成为具有功能层并且将上钝化膜维持在薄膜包封层上以根据上钝化膜的去除影响装置的物理结构来降低或消除缺陷发生的可能性。
已经在此公开了示例实施例，虽然采用了具体的术语，但是这些术语仅是以一般的且描述性的意思来使用和解释，其目的并不在于限制。因此，本领域技术人员将理解的是，在不脱离由权利要求中所阐述的本发明的精神和范围的情况下，可以进行形式和细节上的各种改变。

Claims (30)

1.一种制造显示面板的方法，所述方法包括：
在基础基底上形成母面板；
将上钝化膜附着到母面板；
将基础基底与母面板分开；
将下膜附着到母面板；
切割附着有上钝化膜和下膜的母面板，以形成显示面板，所述显示面板呈单位单元的形式，
其中，显示面板包括显示基底、显示装置层和薄膜包封层，
其中，薄膜包封层包括第一无机层、第二无机层以及位于第一无机层和第二无机层之间的至少一个有机层，
其中，显示面板还包括位于显示装置层与第一无机层之间的卤化金属层，
其中，上钝化膜最初包括第一载体膜、形成在第一载体膜的下部上的第一粘合层和附着到第一粘合层的下部的离型膜，
所述方法包括去除离型膜，以将第一粘合层附着到薄膜包封层，
其中，在执行额外的工艺时，上钝化膜保护薄膜包封层的表面。
2.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，第一载体膜由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、硫化聚乙烯和聚乙烯中的任意一种形成。
3.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，第一载体膜具有25μm到300μm的厚度。
4.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，当不锈钢是粘附物时，第一粘合层具有1gf/inch到50gf/inch粘附强度。
5.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，第一粘合层是硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类膜。
6.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，上钝化膜最初还包括形成在第一载体膜的上部上的第二粘合层和形成在第二粘合层的上部上的第二载体膜。
7.如权利要求6所述的制造显示面板的方法，其中，第二载体膜和第一载体膜由聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、硫化聚乙烯和聚乙烯中的任意一种形成。
8.如权利要求6所述的制造显示面板的方法，其中，第一载体膜具有25μm到300μm的厚度。
9.如权利要求6所述的制造显示面板的方法，其中，当不锈钢是粘附物时，第一粘合层具有1gf/inch到50gf/inch的粘附强度。
10.如权利要求6所述的制造显示面板的方法，其中，第一粘合层和第二粘合层均独立地为硅树脂、丙烯酸树脂或聚氨酯类膜。
11.如权利要求9所述的制造显示面板的方法，其中，第二粘合层的粘附强度与第一粘合层的粘附强度相等或比第一粘合层的粘附强度小。
12.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，所述方法还包括在上钝化膜的上部上形成硬涂覆层。
13.如权利要求12所述的制造显示面板的方法，其中，硬涂覆层的厚度为3μm到4μm。
14.如权利要求12所述的制造显示面板的方法，其中，硬涂覆层通过将丙烯酰基聚氨酯涂覆到上钝化膜的上部上，然后执行紫外线固化来形成。
15.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，显示基底是柔性基底。
16.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，上钝化膜由透明材料形成。
17.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，所述方法还包括：
以单位单元的形式将上钝化膜从显示面板的薄膜包封层去除；以及
将功能层附着到薄膜包封层。
18.如权利要求17所述的制造显示面板的方法，其中，功能层是偏光器。
19.如权利要求17所述的制造显示面板的方法，其中，功能层是触摸屏面板。
20.如权利要求17所述的制造显示面板的方法，其中，功能层是光效率增加膜或亮度增加膜。
21.如权利要求1所述的制造显示面板的方法，其中，第一载体膜包括形成在第一粘合层的上部上的功能层和形成在功能层的上部上的功能层钝化膜。
22.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，其中，当不锈钢是粘附物时，第一粘合层具有0.2kgf/inch到2kgf/inch粘附强度。
23.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，所述方法还包括：在将上钝化膜附着到母面板之前，执行半切割，使得上钝化膜附着到母面板时，功能层、第一粘合层和离型膜除了留在其上形成有显示装置层的表面上之外还留在单位外缘部分上。
24.如权利要求23所述的制造显示面板的方法，所述方法还包括：
在切割母面板以形成呈单位单元的形式的显示面板之后，将功能层钝化膜、功能层、第一粘合层和离型膜从单位外缘部分去除。
25.如权利要求24所述的制造显示面板的方法，其中，执行将功能层钝化膜、功能层、第一粘合层和离型膜从单位外缘部分去除的步骤，使得功能层的与其上形成有显示装置层的表面相对应的端表面与显示装置层的端表面重合。
26.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，其中，功能层是偏光器。
27.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，其中，功能层是触摸屏面板。
28.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，其中，功能层是光效率增加膜或亮度增加膜。
29.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，其中，上钝化膜还包括位于功能层钝化膜上的虚设钝化膜。
30.如权利要求21所述的制造显示面板的方法，其中，第一粘合层的粘附强度通过紫外线来改变。
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