CN103476808A - 含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物 - Google Patents

含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN103476808A
CN103476808A CN2012800177458A CN201280017745A CN103476808A CN 103476808 A CN103476808 A CN 103476808A CN 2012800177458 A CN2012800177458 A CN 2012800177458A CN 201280017745 A CN201280017745 A CN 201280017745A CN 103476808 A CN103476808 A CN 103476808A
Authority
CN
China
Prior art keywords
resin composition
curable resin
weight
formula
macromolecular compound
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2012800177458A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103476808B (zh
Inventor
朴志英
金善花
柳璋铉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
LG Corp
Original Assignee
LG Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chemical Co Ltd filed Critical LG Chemical Co Ltd
Publication of CN103476808A publication Critical patent/CN103476808A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103476808B publication Critical patent/CN103476808B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1807C7-(meth)acrylate, e.g. heptyl (meth)acrylate or benzyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/44Polymerisation in the presence of compounding ingredients, e.g. plasticisers, dyestuffs, fillers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F20/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride, ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F20/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms, Derivatives thereof
    • C08F20/10Esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
    • C08J3/20Compounding polymers with additives, e.g. colouring
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L33/00Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L33/04Homopolymers or copolymers of esters
    • C08L33/14Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/04Acids; Metal salts or ammonium salts thereof
    • C08F220/06Acrylic acid; Methacrylic acid; Metal salts or ammonium salts thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10Esters
    • C08F220/12Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1806C6-(meth)acrylate, e.g. (cyclo)hexyl (meth)acrylate or phenyl (meth)acrylate
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F226/00Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F226/06Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J2300/00Characterised by the use of unspecified polymers
    • C08J2300/10Polymers characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Formation Of Insulating Films (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

本发明涉及一种含有染料的高分子化合物和一种含有该高分子化合物的固化树脂组合物。根据本发明,通过将单分子型染料引入至聚合物粘合剂的侧链中而使该染料改性成聚合物形式以及将该染料涂覆至固化树脂组合物,所述含有染料的高分子化合物可呈现优异的耐热性、溶解性、涂覆均匀性、耐化学性。

Description

含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物
技术领域
本申请要求2011年8月4日在韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2011-0077768号韩国专利申请的优先权,其公开的全部内容以引用的方式纳入本说明书。
本说明书涉及具有优异的耐热性、溶解性、涂覆均匀性、耐化学性等的含有染料的高分子化合物,以及含有该高分子化合物的固化树脂组合物。
背景技术
固化树脂组合物可涂覆于基板上以形成涂料薄膜,且可用于通过以下方式形成图案:使用光掩模等将涂料薄膜的特定部分曝露在光照射下,然后将未曝光部分进行显影处理以移除该未曝光部分。由于固化树脂组合物可经光照聚合及固化,因此该固化树脂组合物已用于光固化油墨、光敏印刷板、各种光致抗蚀剂、用于LCD的滤光片光致抗蚀剂、用于树脂黑底(black matrix)的光致抗蚀剂、透明光敏材料等。
固化树脂组合物通常包括碱溶性树脂、包含烯键式不饱和键的可聚合化合物、光聚合引发剂和溶剂。
在固化树脂组合物中,碱溶性树脂使固化树脂组合物具有粘附基板的粘合强度并因此可形成涂层,将碱溶性树脂溶于碱性液体显影剂中以形成精细图案,且同时通过赋予所得图案以强度来防止该图案在后处理过程中受到破坏。此外,碱溶性树脂甚至对耐热性和耐化学性具有重大的影响。
通常,固化树脂组合物形成厚度为3μm以上的涂膜,并且涂膜的大部分需要显影,因此固化树脂组合物需要在短时间内大量溶于液体显影剂中。此外,如果未能清晰显影,则可出现各种显示缺陷,例如由剩余物引起的双面点(direct spots),以及液晶的对准缺陷。因此,固化树脂组合物需要具有优异的显影性。此外,当将固化树脂组合物涂覆于具有大的表面积的玻璃基板上时,基板难以进行全表面曝光,因此将基板进行连续多次曝光。因此,当固化树脂组合物具有低敏感性时,曝光过程所需时间变长,导致生产率降低,因此需要高敏感性。
此外,即使在200℃以上的高温过程中,仍需要用以保持形状和厚度的优异的热稳定性、足以抵抗外部压力的高耐压强度和优异的耐化学性。此外,随时间的优异稳定性可稳定地呈现甚至在长期储存条件下也持续需要而无任何变化的特性,因此需要随时间的优异稳定性。然而,尚未开发出满足在耐热性、耐化学性、显影性、敏感性和随时间的稳定性方面的所有标准的固化树脂组合物。
此外,在使用上述固化树脂组合物的方法中,为了提高该方法中每单位时间的产量,降低曝光时间和显影时间。因此,相对于现有技术已知的固化树脂组合物,需要改善敏感性和显影性。
同时,在诸如固化树脂组合物的固化组合物中,存在基本的问题,例如无法从根本上改善本领域颜料分布体系的分辨率、由颜料粗粒子导致的出现色斑等,因此需要使用染料。但是,含有染料的固化组合物的问题在于,相对于使用颜料的固化组合物,例如耐光性、耐热性、溶解性、涂覆均匀性等各种性能较差。
因此,需要对具有优异的耐光性、耐热性、溶解性、涂覆均匀性等的含有染料的固化组合物进行研究。
发明内容
技术问题
本发明待解决的问题是提供具有优异耐热性、溶解性、涂覆均匀性、耐化学性等的含有染料的高分子化合物,以及含有该高分子化合物的固化树脂组合物。
技术方案
本发明的一个示例性实施方案提供一种高分子化合物,其包含:由下式1表示的重复单元;以及一个或多个由下式2和下式3表示的重复单元。该高分子化合物的重均分子量可为1,000至100,000。
[式1]
Figure BDA0000393516000000031
[式2]
Figure BDA0000393516000000032
[式3]
Figure BDA0000393516000000033
在式1、式2和式3中,
R1至R4及R6至R7彼此相同或不同,且各自独立地为氢或具有1至5个碳原子的烷基,
R5选自未被取代或被苯基取代的具有2至6个碳原子的烷基酯基;以及未被取代或被具有1至3个碳原子的烷基或卤素取代的苯基酯基,
R8为直接键;或未被取代或被卤素或苯基取代的具有1至6个碳原子的亚烷基,
A为衍生自染料的单价基团,并且
a、b和c为重复单元的摩尔混合比,并且各自独立地为5至50。
此外,本发明的一个示例性实施方案提供一种固化树脂组合物,其包含:包含碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂、包含烯键式不饱和键的可聚合化合物、光引发剂、溶剂以及包含由式1表示的重复单元和一个或多个由式2和式3表示的重复单元的高分子化合物。
此外,本发明的一个示例性实施方案提供一种通过使用所述固化树脂组合物而制备的光敏材料。
此外,本发明的一个示例性实施方案提供一种通过使用所述固化树脂组合物而制备的电子器件。
有益效果
通过将单分子型染料引入待改性成聚合物形式的聚合物粘合剂的侧链中并将该改性聚合物涂覆至固化组合物,本发明示例性实施方案的含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物可呈现例如优异的耐热性、溶解性、涂覆均匀性、耐化学性、对碱性水溶液的显影性等特性。
附图说明
图1为示出了本发明实施例1和2以及对比实施例1的固化树脂组合物耐化学性的评价结果图。
图2为示出了本发明对比实施例1的固化树脂组合物显影性的评价结果照片。
图3为示出了本发明实施例1的固化树脂组合物显影性的评价结果照片。
图4为示出了本发明实施例2的固化树脂组合物显影性的评价结果照片。
具体实施方式
在下文中,将更具体地描述本发明。
本发明示例性实施方案的高分子化合物包含由式1表示的重复单元,以及一个或多个式2和式3的重复单元。
具体而言,该高分子化合物可包含式1表示的重复单元和式2表示的重复单元。此外,该高分子化合物可包含式1表示的重复单元和式3表示的重复单元。此外,该高分子化合物可包含式1表示的重复单元、式2表示的重复单元和式3表示的重复单元。
通过将一种已知的单分子型染料引入聚合物粘合剂的侧链中而将本发明示例性实施方案的高分子化合物改性成聚合物形式。
已知的单一低分子型染料在市售溶剂中具有低溶解度并呈晶体型特性,因此当将染料涂覆至薄膜上时难以获得均匀薄膜。但是,本发明的高分子化合物可通过将单分子型染料引入聚合物粘合剂的侧链中而改善在市售溶剂中的溶解性、涂覆均匀性和耐热性。
在本发明示例性实施方案的高分子化合物中,将对式1、式2和式3的取代基更详细地描述如下。
R1至R4及R6至R7彼此相同或不同,且各自独立地为氢或具有1至5个碳原子的烷基。
R5选自未被取代或被苯基取代的具有2至6个碳原子的烷基酯基;以及未被取代或被具有1至3个碳原子的烷基或卤素取代的苯基酯基。
R8为直接键;或未被取代或被卤素或苯基取代的具有1至6个碳原子的亚烷基。
烷基可为直链、支链或环状链,并且可被取代或未被取代。所述烷基的具体实例包括甲基、乙基、丙基、异丙基、丁基、叔丁基等,但并不限于此。
亚烷基可为直链或支链,并且可被取代或未被取代。所述亚烷基的具体实例包括亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚异丙基、亚丁基、亚叔丁基等,但并不限于此。
卤素可为氟、氯、溴或碘。
术语“被取代或未被取代”意指由一个或多个取代基进行取代或不带有取代基。
在本说明书中,“*”意指重复单元之间的连接部分。
a、b和c为重复单元的摩尔混合比,且a为5至50,b为5至50,c为5至50。a:b:c可为5至50:5至50:5至50。
式1中的A为衍生自染料的单价基团。所述染料的实例包括黄色染料、红色染料、蓝色染料等,但并不限于此。
作为黄色染料,可优选使用Valifast Yellow1108、Valifast Yellow3108、Valifast Yellow3120、Valifast Yellow4120、Valifast Yellow1151、Valifast Yellow3150、油黄129等,作为红色染料,可优选使用Valifast Red1306、Valifast Red1308、Valifast Red1360、Valifast Red3304、ValifastRed3311、Valifast Red2320、Valifast Red3305、Valifast Red3320、Valifast Pink2310N、PCRed136P等,作为蓝色染料,可优选使用ValifastBlue2610,Valifast Blue1603,Valifast Blue1605,Valifast Blue2620,Valifast Blue2606等(均由Orient Chemical Industries Co.,Ltd,NipponKayaku Co.,Ltd制造)。
此外,作为染料,可优选使用例如吡唑偶氮基染料、苯胺基偶氮基染料、芳基偶氮基染料、三苯甲烷基染料、蒽醌基染料、蒽吡啶酮基染料、亚苄基染料、氧杂菁基染料、吡唑并***偶氮基染料、吡啶酮偶氮基染料、菁基染料、吩噻嗪基染料、吡咯并吡唑偶氮甲碱基染料、呫吨基染料、酞0菁基染料、苯并吡喃基染料、靛蓝基染料等染料。
本发明的一个示例性实施方案的高分子化合物的重均分子量可为1,000至100,000。
本发明的一个示例性实施方案的高分子化合物的制备方法如下。
首先,包含式1的重复单元和一个或多个式2或式3表示的重复单元的聚合物可通过本领域已知的多种聚合方法中的任一种方法来制备,例如自由基聚合、阳离子聚合、阴离子聚合、缩聚等,但就易于制备或经济效率而言,最优选使用自由基聚合。
例如,可通过以下步骤进行制备:将其中加入了构成式1部分的可聚合不饱和双键基团的单分子型染料和一种或多种用于形成式2或式3表示0的重复单元的单体与聚合溶剂混合,将该混合物加热至适当温度,然后通过氮气吹扫去除氧气,引入自由基聚合引发剂和(如果需要)链转移剂,并将所得混合物保持在聚合温度下。在该方法中,聚合温度和聚合时间可通过考虑所用聚合引发剂根据温度的半衰期来确定。例如,2,2’-偶氮二异丁腈(AIBN)在70℃下的半衰期为4.8小时,因此当使用该化合物时,聚合时间优选为6小时以上。一般而言,聚合温度优选为50℃至150℃,聚合时间优选为30分钟至48小时。
本发明的一个示例性实施方案的高分子化合物可由以下式4或下式5表示,但并不限于此。
[式4]
Figure BDA0000393516000000071
[式5]
Figure BDA0000393516000000072
在式4和式5中,a、b和c的定义与式1、式2和式3中的定义相同。具体地,在式4中,a:b可为5至50:5至50,在式5中,a:b:c可为5至50:5至50:5至50。
此外,本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物包括含有式1表示的重复单元和一个或多个式2和式3表示的重复单元的高分子化合物、包含碱溶性聚合树脂的粘合剂树脂、包含烯键式不饱和键的可聚合化合物、光引发剂和溶剂。
本发明的固化树脂组合物中,高分子化合物的含量优选为0.1重量%至10重量%,基于固化树脂组合物的总重量计。
在本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物中,通常用于本领域的树脂(例如碱溶性树脂等)可用作粘合剂树脂。具体地,可使用包含碱溶性羧基的丙烯酸粘合剂树脂,还可使用重均分子量优选为3,000至150,000的丙烯酸粘合剂树脂。
粘合剂树脂的含量优选为1重量%至20重量%,基于固化树脂组合物的总重量计,但并不限于此。
在本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物中,作为包含烯键式不饱和键的可聚合化合物,可使用一种或多种选自季戊四醇、三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯等的化合物,但并不限于此。
包含烯键式不饱和键的可聚合化合物的含量优选为1重量%至30重量%,基于固化树脂组合物的总重量计,但并不限于此。
在本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物中,作为光引发剂,可使用一种或多种选自2,4-三氯甲基-(4’-甲氧基苯基)-6-三嗪、2,4-三氯甲基-(4’-甲氧基苯乙烯基)-6-三嗪、2,4-三氯甲基-(pyflonyl)-6-三嗪、1-羟基环己基苯酮、4-(2-羟基乙氧基)-苯基(2-羟基)丙基酮、二苯甲酮、2,4,6-三甲基氨基二苯甲酮等的化合物,但并不限于此。
光引发剂的含量优选为0.1重量%至5重量%,基于固化树脂组合物的总重量计,但并不限于此。
在本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物中,作为溶剂,可使用一种或多种选自甲基乙基酮、丙二醇二***、丙二醇甲醚乙酸酯、3-甲氧基丁基乙酸酯、二丙二醇单甲醚等的化合物,但并不限于此。
溶剂的含量优选为45重量%至95重量%,基于固化树脂组合物的总重量计,但并不限于此。
此外,本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物根据其用途还可包含一种或两种或多种选自以下的添加剂:着色剂、固化促进剂、热阻聚剂、分散剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、匀染剂、光敏剂、增塑剂、助粘剂、填料和表面活性剂。
作为着色剂,可使用一种或多种颜料、染料或其混合物。黑色颜料的具体实例包括金属氧化物等,例如炭黑、石墨、钛黑等。炭黑的实例包括Cisto5HIISAF-HS、Cisto KH、Cisto3HHAF-HS、Cisto NH、Cisto3M、Cisto300HAF-LS、Cisto116HMMAF-HS、Cisto116MAF、CistoFMFEF-HS、Cisto SOFEF、Cisto VGPF、Cisto SVHSRF-HS和CistoSSRF(Donghae Carbon Co.,Ltd.);diagram black II、diagram blackN339、diagram black SH、diagram black H、diagram LH、diagram HA、diagram SF、diagram N550M、diagram M、diagram E、diagram G、diagram R、diagram N760M、diagram LR、#2700、#2600、#2400、#2350、#2300、#2200、#1000、#980、#900、MCF88、#52、#50、#47、#45、#45L、#25、#CF9、#95、#3030、#3050、MA7、MA77、MA8、MA11、MA100、MA40、OIL7B、OIL9B、OIL11B、OIL30B和OIL31B(MitsubishiChemical Corporation);PRINTEX-U、PRINTEX-V、PRINTEX-140U、PRINTEX-140V、PRINTEX-95、PRINTEX-85、PRINTEX-75、PRINTEX-55、PRINTEX-45、PRINTEX-300、PRINTEX-35、PRINTEX-25、PRINTEX-200、PRINTEX-40、PRINTEX-30、PRINTEX-3、PRINTEX-A、SPECIAL BLACK-550、SPECIAL BLACK-350、SPECIALBLACK-250、SPECIAL BLACK-100和LAMP BLACK-101(DegussaCo.,Ltd.);RAVEN-1100ULTRA、RAVEN-1080ULTRA、RAVEN-1060ULTRA、RAVEN-1040、RAVEN-1035、RAVEN-1020、RAVEN-1000、RAVEN-890H、RAVEN-890、RAVEN-880ULTRA、RAVEN-860ULTRA、RAVEN-850、RAVEN-820、RAVEN-790ULTRA、RAVEN-780ULTRA、RAVEN-760ULTRA、RAVEN-520、RAVEN-500、RAVEN-460、RAVEN-450、RAVEN-430ULTRA、RAVEN-420、RAVEN-410、RAVEN-2500ULTRA、RAVEN-2000、RAVEN-1500、RAVEN-1255、RAVEN-1250、RAVEN-1200、RAVEN-1190ULTRA、RAVEN-1170(Columbia Carbon Co.)、其混合物等。此外,有色着色剂的实例包括洋红6B(C.I.12490)、酞菁绿(C.I.74260)、酞菁蓝(C.I.74160)、苝黑(BASF K0084和K0086)、花青黑、Lionol Yellow(C.I.21090)、Lionol Yellow GRO(C.I.21090)、联苯胺黄4T-564D、维多利亚纯蓝(C.I.42595)、C.I.颜料红3、23、97、108、122、139、140、141、142、143、144、149、166、168、175、177、180、185、189、190、192、202、214、215、220、221、224、230、235、242、254、255、260、262、264、272;C.I.颜料绿7、36;C.I.颜料蓝15:1、15:3、15:4、15:6、16、22、28、36、60、64;C.I.颜料黄13、14、35、53、83、93、95、110、120、138、139、150、151、154、175、180、181、185、194、213;以及C.I.颜料紫15、19、23、29、32、37。此外,还可使用白色颜料、荧光颜料等。作为用作颜料的酞菁基络合物,还可使用由锌而非铜作为中心金属的材料。
固化促进剂的实例包括选自2-巯基苯并咪唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并噁唑、2,5-二巯基-1,3,4-噻二唑、2-巯基-4,6-二甲基氨基吡啶、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(2-巯基乙酸酯)、季戊四醇三(2-巯基乙酸酯)、三羟甲基丙烷三(2-巯基乙酸酯)、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、三羟甲基乙烷三(2-巯基乙酸酯)以及三羟甲基乙烷三(3-巯基丙酸酯)的一种或多种,但并不限于此,还可包括本领域通常已知的固化促进剂。
热阻聚剂的实例包括选自对苯甲醚、氢醌、邻苯二酚、叔丁基儿茶酚、N-亚硝基苯基羟基胺铵盐、N-亚硝基苯基羟基胺铝盐、以及吩噻嗪的一种或多种,但并不限于此,还可包括本领域通常已知的热阻聚剂。
作为表面活性剂、光敏剂、增塑剂、助粘剂、填料等,可使用本领域已知的可包括在固化树脂组合物中的任何化合物。
着色剂的含量优选为1重量%至20重量%,基于固化树脂组合物的总重量计,其他添加剂的含量各自独立地优选为0.01重量%至5重量%,基于固化树脂组合物的总重量计,但不仅限于此。
本发明的一个示例性实施方案提供含有所述固化树脂组合物的光敏材料。
本发明的一个示例性实施方案提供通过使用所述固化树脂组合物而制备的光敏材料。
同时,本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物可用于辊涂机、幕涂机、旋涂机、狭缝涂布机、多种印刷、浸渍等,还可涂布于载体(例如金属、纸张、玻璃塑料基板等)上。此外,还可在将固化树脂组合物涂布于载体(例如薄膜等)上后,将该组合物转移至其他载体上,或者在将该组合物涂布于第一载体上后,可以转移至敷层(blanket)等,并且再次转移至第二载体上。对于涂覆方法无特别限制。
用于固化本发明的一个示例性实施方案的可固化树脂组合物的光源的实例包括发出波长为250nm至450nm的光的汞汽弧、碳弧、氙(Xe)弧等,但并不限于此。
根据本发明的一个示例性实施方案,在使用已知的单分子型染料时存在问题的耐热性、溶解性、涂覆均匀性、耐化学性等,可通过在固化树脂组合物中使用包含染料作为有色材料的聚合物来改善,从而最大化地增加使用染料的效果。
此外,单分子型染料在市售溶剂中具有低溶解性和晶体型特性,因此当将染料涂覆至薄膜上时,获得均匀薄膜是成问题的。但是,在本发明的聚合物型染料中,可获得如下结果:该染料在市售溶剂中具有优异的溶解性,涂覆均匀性显著提高,耐热性也显著提高。
本发明的一个示例性实施方案的固化树脂组合物优选用于制造TFTLCD滤色片的颜料分散型光敏材料、用于形成TFT LCD或有机发光二极管的黑底的光敏材料、用于形成外涂层的光敏材料以及用于列间隔物(column spacer)的光敏材料,还可用于制造光固化涂料、光固化油墨、光固化粘合剂、印刷板、用于印刷电路板的光敏材料、其他透明光敏材料以及PDP等。对其用途无特别限制。
本发明的一个示例性实施方案提供通过使用所述固化树脂组合物所制备的电子器件。
在下文中,将提供合成实施例、实施例和对比实施例以更好地理解本发明。但是,以下合成实施例和实施例仅用于说明目的,不以任何方式将本发明的范围限于此。
<合成实施例1>
合成了式4的高分子化合物,其中已引入下式A-1的含有不饱和双键的染料。
[式A-1]
Figure BDA0000393516000000121
用机械搅拌器将72g甲基丙烯酸苄基酯、28g包含不饱和双键的染料单体、2g作为链转移剂的3-巯基丙酸和300g作为溶剂的四氢呋喃在氮气气氛下混合30分钟。在氮气气氛下将反应器的温度升至70℃,并且当混合物的温度达到70℃时,向其中加入3.3g作为热聚合引发剂的AIBN并将所得混合物搅拌8小时。将聚合物于其中进行聚合的反应器的温度升至80℃并将反应器搅拌30分钟来合成所需树脂。
丙烯酸树脂的酸值为0mgKOH/g。通过GPC测得的相对于聚苯乙烯的重均分子量为11,000g/mol。
[式4]
<合成实施例2>
合成了式5的高分子化合物,其中已引入合成实施例1中所用的式A-1的包含不饱和双键的染料。
用机械搅拌器将40g甲基丙烯酸苄基酯、50g包含不饱和双键的染料单体、10g甲基丙烯酸和300g作为溶剂的四氢呋喃在氮气气氛下混合30分钟。在氮气气氛下将反应器的温度升至70℃,并且当混合物的温度达到70℃时,向其中加入3.3g作为热聚合引发剂的AIBN并将所得混合物搅拌8小时。将聚合物于其中进行聚合的反应器的温度升至80℃并将反应器搅拌30分钟来合成所需树脂。
丙烯酸树脂的酸值为60mgKOH/g。通过GPC测得的相对于聚苯乙烯的重均分子量为30,000g/mol。
[式5]
Figure BDA0000393516000000132
<实施例1至4及对比实施例1和2>
如下表1所述,制备了使用本发明的包含染料的聚合物的固化树脂组合物。在对比实施例1和对比实施例2中,使用式A-2的染料。
[式A-2]
Figure BDA0000393516000000141
[表1]
Figure BDA0000393516000000142
对比实施例1:包含低分子型染料(A-2)的固化树脂组合物
对比实施例2:包含低分子型染料(A-2)和绿色颜料(G58)的固化树脂组合物
实施例1:包含合成实施例1的聚合物的固化树脂组合物
实施例2:包含合成实施例2的聚合物的固化树脂组合物
实施例3:包含合成实施例1的聚合物和绿色颜料(G58)的固化树脂组合物
实施例4:包含合成实施例2的聚合物和绿色颜料(G58)的固化树脂组合物
<实验实施例1>
通过使用实施例1至4及对比实施例1和2的固化树脂组合物来制备样品,然后通过比较在230℃的后烘烤(PB)条件下后烘烤之前与之后的光谱来评价耐热性。结果示于下表2中。
[表2]
Figure BDA0000393516000000151
如表2中的结果所示,可以得知,与单分子型染料以其本身涂覆的对比实施例1的组合物相比,本发明实施例1和实施例2的含有聚合物型染料的固化树脂组合物在耐热性上已得到显著改善。
<实验实施例2>
通过使用实施例1和2及对比实施例1的固化树脂组合物来制备样品,然后进行预烘烤(100℃,70秒)、曝光(40mJ)和后烘烤(230℃,20分钟),并通过使用N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)溶剂来评价耐化学性。结果示于下图1中。
如下图1中的结果所示,可以得知,与单分子型染料以其本身涂覆的对比实施例1的组合物相比,本发明实施例1和实施例2的含有聚合物型染料的固化树脂组合物在对NMP溶剂的耐化学性上已得到显著改善。
<实验实施例3>
通过使用实施例3、实施例4和对比实施例2的固化树脂组合物来制备样品,然后通过进行显影处理来评价显影性。结果示于下图2至4中。
如下图2所示,可以得知,在使用对比实施例2的低分子型染料的固化树脂组合物中,由于图案的粘附特性不足而使玻璃基板发生抬起。如下图3和4所示,可以得知,在本发明实施例3和4的含有聚合物型染料的固化树脂组合物中,对基板的粘附强度已得到显著改善,且完好地形成了精细图案。具体而言,可以得知,在含有其中已引入实施例4中酸基的聚合物型染料的固化树脂组合物中,粘附强度和显影性得到显著改善。

Claims (16)

1.一种高分子化合物,其包含
由下式1表示的重复单元;以及
一个或多个由下式2和下式3表示的重复单元:
[式1]
Figure FDA0000393515990000011
[式2]
Figure FDA0000393515990000012
[式3]
其中R1至R4及R6至R7彼此相同或不同,且各自独立地为氢或具有1至5个碳原子的烷基,
R5选自未被取代或被苯基取代的具有2至6个碳原子的烷基酯基;以及未被取代或被具有1至3个碳原子的烷基或卤素取代的苯基酯基,
R8为直接键;或未被取代或被卤素或苯基取代的具有1至6个碳原子的亚烷基,
A为衍生自染料的单价基团,并且
a、b和c为重复单元的摩尔混合比,并且各自独立地为5至50。
2.权利要求1的高分子化合物,其中所述高分子化合物的重均分子量为1,000至100,000。
3.权利要求1的高分子化合物,其中所述高分子化合物包含由下式4代表的重复单元:
[式4]
Figure FDA0000393515990000021
其中a和b为摩尔混合比,且各自独立地为5至50。
4.权利要求1的高分子化合物,其中所述高分子化合物包含由下式5代表的重复单元:
[式5]
Figure FDA0000393515990000022
其中a、b和c为摩尔混合比,且各自独立地为5至50。
5.一种固化树脂组合物,其包含
权利要求1至4中任一项的高分子化合物;
包含碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂;
包含烯键式不饱和键的可聚合化合物;光引发剂;以及
溶剂。
6.权利要求5的固化树脂组合物,其中所述高分子化合物的含量为0.1重量%至10重量%,基于所述固化树脂组合物的总重量计。
7.权利要求5的固化树脂组合物,其中所述包含碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂的重均分子量为3,000至150,000。
8.权利要求5的固化树脂组合物,其中所述包含碱溶性聚合物树脂的粘合剂树脂的含量为1重量%至20重量%,基于所述固化树脂组合物的总重量计。
9.权利要求5的固化树脂组合物,其中所述包含烯键式不饱和键的可聚合化合物的含量为0.5重量%至30重量%,基于所述固化树脂组合物的总重量计。
10.权利要求5的固化树脂组合物,其中所述光引发剂的含量为0.1重量%至5重量%,基于所述固化树脂组合物的总重量计。
11.权利要求5的固化树脂组合物,其中所述溶剂的含量为40重量%至95重量%,基于所述固化树脂组合物的总重量计。
12.权利要求5的固化树脂组合物,还包含
一种或两种或多种选自以下的添加剂:固化促进剂、热阻聚剂、分散剂、抗氧化剂、紫外线吸收剂、匀染剂、光敏剂、增塑剂、助粘剂、填料和表面活性剂。
13.权利要求12的固化树脂组合物,其中所述添加剂的含量各自为0.01重量%至5重量%,基于所述固化树脂组合物的总重量计。
14.一种光敏材料,其通过使用权利要求5的固化树脂组合物而制备。
15.权利要求14的光敏材料,其中所述光敏材料选自用于制造TFTLCD滤色片的颜料分散型光敏材料、用于形成TFT LCD或有机发光二极管的黑底的光敏材料、用于形成外涂层的光敏材料、用于列间隔物的光敏材料以及用于印刷线路板的光敏材料。
16.一种电子器件,其通过使用权利要求5的固化树脂组合物而制备。
CN201280017745.8A 2011-08-04 2012-05-25 含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物 Active CN103476808B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR20110077768 2011-08-04
KR10-2011-0077768 2011-08-04
PCT/KR2012/004174 WO2013018987A1 (ko) 2011-08-04 2012-05-25 염료를 포함하는 고분자 화합물 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103476808A true CN103476808A (zh) 2013-12-25
CN103476808B CN103476808B (zh) 2017-03-22

Family

ID=47629476

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201280017745.8A Active CN103476808B (zh) 2011-08-04 2012-05-25 含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8999626B2 (zh)
JP (1) JP5705371B2 (zh)
KR (1) KR101367572B1 (zh)
CN (1) CN103476808B (zh)
WO (1) WO2013018987A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104460233A (zh) * 2014-12-16 2015-03-25 京东方科技集团股份有限公司 一种着色剂组合物及感光性树脂组成物及其应用
CN110850679A (zh) * 2018-08-21 2020-02-28 北京鼎材科技有限公司 高透射高溶解性的大分子染料,彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20140031737A (ko) * 2012-09-05 2014-03-13 삼성디스플레이 주식회사 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 블랙 매트릭스의 형성 방법
KR101523753B1 (ko) * 2013-05-31 2015-06-04 한국생산기술연구원 내열성, 내약품성이 향상된 컬러필터용 유기 염료 및 이의 조성물
KR101632788B1 (ko) * 2013-11-29 2016-06-22 주식회사 엘지화학 색재 함유 고분자, 및 이를 포함하는 염료
JP6166711B2 (ja) * 2013-12-25 2017-07-19 富士フイルム株式会社 着色組成物、およびこれを用いた硬化膜、カラーフィルタ、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置
US10101655B2 (en) 2016-02-26 2018-10-16 Samsung Sdi Co., Ltd. Compound, polymer, photosensitive resin composition, and color filter
KR20220059606A (ko) 2020-11-03 2022-05-10 주식회사 에치와이 흑삼릉 발효물을 포함하는 탈모방지 및 발모촉진용 조성물

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030113664A1 (en) * 2001-09-27 2003-06-19 Horst Berneth Rewriteable optical recording material having good solubility
EP1650269A2 (en) * 2004-10-25 2006-04-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric colorants and corresponding ink compositions
JP2006267923A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 着色剤含有硬化性組成物、並びに、カラーフィルタおよびその製造方法
CN101154039A (zh) * 2006-09-25 2008-04-02 富士胶片株式会社 可固化组合物、滤色器及其制造方法
US20110045408A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Shota Suzuki Color-forming photosensitive composition, lithographic printing plate precursor and novel cyanine dye
JP2012046712A (ja) * 2010-07-30 2012-03-08 Fujifilm Corp 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法及びカラーフィルタを備えた固体撮像素子並びに液晶表示装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1060298A (ja) * 1996-08-26 1998-03-03 Konica Corp 高分子色素材料、高分子色素材料の製造方法及びインクジェット記録液
JP2004002631A (ja) * 2002-03-28 2004-01-08 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有硬化性組成物、並びに、これを使用したカラーフィルターおよびその製造方法
US20030229163A1 (en) 2002-03-28 2003-12-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Dye-containing curable composition, color filter prepared using the same, and process of preparing color filter
JP2004157455A (ja) * 2002-11-08 2004-06-03 Fuji Photo Film Co Ltd 染料含有硬化性組成物、カラーフィルタ及びその製造方法
US7056959B2 (en) 2002-11-08 2006-06-06 Fuji Photo Film Co., Ltd. Dye-containing curable composition and color filter using the same
US20060089421A1 (en) 2004-10-25 2006-04-27 Sundar Vasudevan Polymeric colorants having pigment and dye components and corresponding ink compositions
KR100959187B1 (ko) * 2007-10-18 2010-05-24 제일모직주식회사 컬러필터용 잉크 조성물, 이를 이용한 컬러필터의 제조방법, 및 이를 이용하여 제조된 컬러필터
JP2009215397A (ja) 2008-03-10 2009-09-24 Toyohashi Univ Of Technology 高分子ナノ染料およびその製造法
KR101317601B1 (ko) 2008-08-29 2013-10-11 주식회사 엘지화학 아크릴계 수지 및 이를 포함하는 감광성 수지 조성물
CN102307912B (zh) * 2009-02-09 2015-05-27 默克专利有限公司 用于电泳显示器的颗粒
WO2013018986A1 (ko) * 2011-08-04 2013-02-07 주식회사 엘지화학 염료를 포함하는 고분자 화합물 및 이를 포함하는 경화성 수지 조성물

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030113664A1 (en) * 2001-09-27 2003-06-19 Horst Berneth Rewriteable optical recording material having good solubility
EP1650269A2 (en) * 2004-10-25 2006-04-26 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Polymeric colorants and corresponding ink compositions
JP2006267923A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Fuji Photo Film Co Ltd 着色剤含有硬化性組成物、並びに、カラーフィルタおよびその製造方法
CN101154039A (zh) * 2006-09-25 2008-04-02 富士胶片株式会社 可固化组合物、滤色器及其制造方法
US20110045408A1 (en) * 2009-08-20 2011-02-24 Shota Suzuki Color-forming photosensitive composition, lithographic printing plate precursor and novel cyanine dye
JP2012046712A (ja) * 2010-07-30 2012-03-08 Fujifilm Corp 着色硬化性組成物、カラーフィルタ、その製造方法及びカラーフィルタを備えた固体撮像素子並びに液晶表示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104460233A (zh) * 2014-12-16 2015-03-25 京东方科技集团股份有限公司 一种着色剂组合物及感光性树脂组成物及其应用
CN110850679A (zh) * 2018-08-21 2020-02-28 北京鼎材科技有限公司 高透射高溶解性的大分子染料,彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片
CN110850679B (zh) * 2018-08-21 2022-05-03 北京鼎材科技有限公司 高透射高溶解性的大分子染料,彩色光敏树脂组合物及彩色滤光片

Also Published As

Publication number Publication date
WO2013018987A1 (ko) 2013-02-07
JP5705371B2 (ja) 2015-04-22
KR101367572B1 (ko) 2014-03-14
CN103476808B (zh) 2017-03-22
KR20130016046A (ko) 2013-02-14
US8999626B2 (en) 2015-04-07
JP2014523450A (ja) 2014-09-11
US20140011135A1 (en) 2014-01-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103249749B (zh) 含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物
CN103476808A (zh) 含有染料的高分子化合物和含有该高分子化合物的固化树脂组合物
JP6157193B2 (ja) (メタ)アクリレート系ポリマー、該ポリマーを含む組成物及びその用途
TWI534161B (zh) 共聚物、含有該共聚物的樹脂組成物、感光性樹脂組成物、及彩色濾光片
CN105008411B (zh) 含封闭异氰酸酯基的聚合物、含有该聚合物的组合物及其用途
CN103764625A (zh) 新型化合物
TWI653248B (zh) 彩色濾光片用樹脂組成物、其製造方法及彩色濾光片
CN105549323A (zh) 固化性树脂组合物、滤色器、图像显示元件及滤色器的制造方法
TWI411878B (zh) Sensitive radiation linear resin composition and color filter
TWI794313B (zh) 彩色濾光片用感光性樹脂組成物、彩色濾光片、影像顯示元件及彩色濾光片之製造方法
TW201631396A (zh) 樹脂組成物、彩色濾光器、其製造方法及影像顯示元件
CN110997740A (zh) 共聚物以及滤色器用感光性树脂组合物
WO2016203905A1 (ja) カラーフィルター用着色組成物、カラーフィルターおよび画像表示素子
WO2017022299A1 (ja) 硬化性(メタ)アクリレートポリマー、硬化性組成物、カラーフィルター、及び画像表示装置
JP2018116270A (ja) 黒色感光性樹脂組成物、これから製造された画像表示装置用ブラックマトリックス、カラムスペーサーおよびブラックマトリックス一体型カラムスペーサ

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant