CN103466526A - Uv漆灌装装置 - Google Patents
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Abstract
UV漆灌装装置,包括槽体、以及支撑槽体的升降支架,槽体上设有将其密封的槽盖,槽体上方设有进料管,槽体下方设有出料管,槽体底部为集料槽,所述出料管设置在集料槽出料口,集料槽上方的槽体内设有过滤装置,所述进料管通过抽液泵与储料罐相连,所述进料管上设有流量调节阀。本发明结构简单、操作方便;减少了灌装挥发和消耗,有利于环保;方便了灌装,既降低了劳动强度,又提高了灌装效率和灌装质量。
Description
技术领域
本发明涉及漆料灌装技术领域,具体为一种UV漆灌装装置。
背景技术
随着国民经济的发展,漆料行业已经逐步成为各领域必不可少的重要行业,用于民用及工业的油漆日益增加,现代企业管理规范愈加严格,因漆料成品灌装装置直接影响产品的灌装效果,所以灌装装置亦应与时俱进。传统的灌装槽,大多为开放式且不易移动,灌装时,不仅挥发量大,使用也不方便。因此,一种美观实用、环保便捷的灌装槽,是我们目前所迫切需要的。
发明内容
本发明所解决的技术问题在于提供一种UV漆灌装装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明所解决的技术问题采用以下技术方案来实现:
UV漆灌装装置,包括槽体、以及支撑槽体的升降支架,槽体上设有将其密封的槽盖,槽体上方设有进料管,槽体下方设有出料管,槽体底部为集料槽,所述出料管设置在集料槽出料口,集料槽上方的槽体内设有过滤装置,所述进料管通过抽液泵与储料罐相连,所述进料管上设有流量调节阀。
进一步的,所述升降支架包括工作平台、支撑板以及设置在工作平台和支撑板之间的液压升降装置,所述槽体固定在工作平台上,支撑板底部设有万向轮。
有益效果
本发明结构简单、操作方便;减少了灌装挥发和消耗,有利于环保;方便了灌装,既降低了劳动强度,又提高了灌装效率和灌装质量。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
为了使本发明的实现技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本发明。
如图1所示,UV漆灌装装置,包括槽体1、以及支撑槽体1的升降支架,槽体1上设有将其密封的槽盖6,槽体1上方设有进料管7,槽体1下方设有出料管8,槽体1底部为集料槽9,所述出料管8设置在集料槽9出料口,集料槽9上方的槽体内设有过滤装置10,所述进料管7通过抽液泵与储料罐12相连,所述进料管7上设有流量调节阀11。所述升降支架包括工作平台2、支撑板3以及设置在工作平台和支撑板之间的液压升降装置4,所述槽体1固定在工作平台2上,支撑板3底部设有万向轮5。本发明结构简单、操作方便;减少了灌装挥发和消耗,有利于环保;方便了灌装,既降低了劳动强度,又提高了灌装效率和灌装质量。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (2)
1.UV漆灌装装置,包括槽体、以及支撑槽体的升降支架,其特征是:槽体上设有将其密封的槽盖,槽体上方设有进料管,槽体下方设有出料管,槽体底部为集料槽,所述出料管设置在集料槽出料口,集料槽上方的槽体内设有过滤装置,所述进料管通过抽液泵与储料罐相连,所述进料管上设有流量调节阀。
2.根据权利要求1所述的UV漆灌装装置,其特征是:所述升降支架包括工作平台、支撑板以及设置在工作平台和支撑板之间的液压升降装置,所述槽体固定在工作平台上,支撑板底部设有万向轮。
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CN103466526A true CN103466526A (zh) | 2013-12-25 |
Family
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Country Status (1)
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN103935943A (zh) * | 2014-04-16 | 2014-07-23 | 广德县中银化工有限责任公司 | 一种用于电泳涂料的自动计量灌装机 |
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2013
- 2013-09-14 CN CN2013104199838A patent/CN103466526A/zh active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20131225 |