CN103396008A - 磁控溅射真空室均匀进气装置 - Google Patents

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Abstract

磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封闭的环形空腔，内套管的管壁上开有一组第一排气孔，外套管的管壁上开有一组第二排气孔。由本进气装置向磁控溅射真空室内供气时，由排气管排出的气流先进入内套管内，然后通过内套管上的第一排气孔进入到环形空腔中，再由外套管上的第二排气孔较均匀地进入到真空室内，这样进入到真空室内的气流的流速可得到较大程度的减缓，从而大大减轻了因气流冲击带来的设备及产品的震动。

Description

磁控溅射真空室均匀进气装置
技术领域
本实用装置涉及进气装置，具体是一种向磁控溅射真空室供气的进气装置。 
背景技术
磁控溅射法是在真空条件下，电离惰性气体，气体离子在电场的作用下，轰击金属靶材使金属原子沉积在玻璃表面上的一种工艺方法，当产品在进入真空室中时，需要对真空室进行真空→大气→真空的转换。现有的一种真空室进气装置的基本结构是：一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接。该进气装置存在的欠缺是：空气直接由排气管进入真空室，气流会急速冲入真空室内，对真空室内设备的冲击较大，会使设备产生较大的震动，影响设备使用寿命，严重时会造成设备变形、产品破损等危害。 
发明内容
本发明的目的是提供一种磁控溅射真空室均匀进气装置，由该进气装置进入到真空室内的空气的流速可得到较大程度的减缓。 
为实现上述目的，本发明采用以下方案：磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封闭的环形空腔，内套管的管壁上开有一组第一排气孔，外套管的管壁上开有一组第二排气孔，外套管的开口端为层流管的入口端。 
由上述方案可见，由本发明提供的进气装置向磁控溅射真空室内供气时，由排气管排出的气流先进入内套管内，然后通过内套管上的第一排气孔进入到环形空腔中，再由外套管上的第二排气孔较均匀地进入到真空室内，这样进入到真空室内的气流的流速可得到较大程度的减缓、且不会紊乱，从而大大减轻了因气流冲击带来的设备及产品的震动，避免出现设备硬伤、产品破损的现象。
本发明结构简单、合理，它可使设备及产品得到较好的保护。 
附图说明
附图为本发明一实施例的结构示意图及使用状态示意图。 
具体实施方式
以下结合实施例及附图进一步说明本发明。 
参见附图 
本发明提供的磁控溅射真空室均匀进气装置具有一消音过滤器1，消音过滤器1的排气口与气动挡板阀2的进气口相接，气动挡板阀2的出气口与一排气管3的一端相接，排气管3的另一端与一只层流管5的入口端相接，层流管5具有一只一端开口的外套管5a，在外套管5a内装有一只内套管5c，内套管5c与外套管5a间形成有封闭的环形空腔，内套管5c的管壁上开有一组第一排气孔5d，外套管5a的管壁上开有一组第二排气孔5b，外套管5a的开口端为层流管的入口端。
本实施例中，内套管5c上的一组第一排气孔5d处在一条直线上，外套管5a上的一组第二排气孔5b处在一条直线上，且一组第一排气孔5d与一组第二排气孔5b相背离。 
由附图可见，本进气装置在安装使用时，层流管5设置在真空室7内，消音过滤器1、气动挡板阀2及排气管3设在真空室7外，排气管3固定在真空室的墙壁4的外侧上，墙壁4上开有通孔4a，排气管3与真空室墙壁4间保持密封，排气管3另一端与层流管5的入口端相接的方式为：层流管5的入口端连接一段支管6，支管6穿如墙壁4上的通孔4a中与排气管3接通。 

Claims (2)

1.磁控溅射真空室均匀进气装置，一消音过滤器的排气口与气动挡板阀的进气口相接，气动挡板阀的出气口与一排气管的一端相接，其特征在于：排气管的另一端与一只层流管的入口端相接，层流管具有一只一端开口的外套管，在外套管内装有一只内套管，内套管与外套管间形成有封闭的环形空腔，内套管的管壁上开有一组第一排气孔，外套管的管壁上开有一组第二排气孔，外套管的开口端为层流管的入口端。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射真空室均匀进气装置，其特征在于：内套管上的一组第一排气孔处在一条直线上，外套管上的一组第二排气孔处在一条直线上，且一组第一排气孔与一组第二排气孔相背离。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3041026A1 (en) * 2015-01-05 2016-07-06 BOE Technology Group Co., Ltd. Gas intake device and magnetron sputtering apparatus therewith
CN110643962A (zh) * 2019-09-20 2020-01-03 深圳市晶相技术有限公司 一种半导体设备

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0503820A1 (en) * 1991-03-12 1992-09-16 The Boc Group, Inc. Plasma enhanced chemical vapour deposition device
CN1397755A (zh) * 2001-07-13 2003-02-19 Asml美国公司 气体输送计量管
CN201217685Y (zh) * 2008-05-28 2009-04-08 玉环县金源比特科技发展有限公司 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机
CN201313934Y (zh) * 2008-09-10 2009-09-23 李刚 一种用于化学气相淀积的气体导入装置
CN201807344U (zh) * 2010-08-24 2011-04-27 杭州余杭永伟电器有限公司 一种真空箱
CN102586739A (zh) * 2012-03-14 2012-07-18 无锡康力电子有限公司 真空镀膜用布气***
CN103205719A (zh) * 2012-01-17 2013-07-17 上海北玻镀膜技术工业有限公司 气体通道模块及应用其的气体分配装置
CN203382661U (zh) * 2013-08-02 2014-01-08 蚌埠雷诺真空技术有限公司 磁控溅射真空室均匀进气装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0503820A1 (en) * 1991-03-12 1992-09-16 The Boc Group, Inc. Plasma enhanced chemical vapour deposition device
CN1397755A (zh) * 2001-07-13 2003-02-19 Asml美国公司 气体输送计量管
CN201217685Y (zh) * 2008-05-28 2009-04-08 玉环县金源比特科技发展有限公司 磁控溅射与多弧离子镀复合式真空镀膜机
CN201313934Y (zh) * 2008-09-10 2009-09-23 李刚 一种用于化学气相淀积的气体导入装置
CN201807344U (zh) * 2010-08-24 2011-04-27 杭州余杭永伟电器有限公司 一种真空箱
CN103205719A (zh) * 2012-01-17 2013-07-17 上海北玻镀膜技术工业有限公司 气体通道模块及应用其的气体分配装置
CN102586739A (zh) * 2012-03-14 2012-07-18 无锡康力电子有限公司 真空镀膜用布气***
CN203382661U (zh) * 2013-08-02 2014-01-08 蚌埠雷诺真空技术有限公司 磁控溅射真空室均匀进气装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP3041026A1 (en) * 2015-01-05 2016-07-06 BOE Technology Group Co., Ltd. Gas intake device and magnetron sputtering apparatus therewith
US9899192B2 (en) 2015-01-05 2018-02-20 Boe Technology Group Co., Ltd. Gas intake device of magnetron sputtering vacuum chamber and magnetron sputtering apparatus
CN110643962A (zh) * 2019-09-20 2020-01-03 深圳市晶相技术有限公司 一种半导体设备

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