CN103342040A - 一种眼镜布制作方法 - Google Patents

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朱晖娟
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Abstract

本发明涉及一种眼镜布制作方法,所述眼镜布由基布和位于该基布上层的植绒层组成,所述制作方法包括下述步骤:给所述的基布表面涂上胶粘剂;将绒毛垂直粘在上述涂有胶粘剂的基布表面;对上述基布以及植绒层进行烘干处理;对经过烘干处理后的植绒层进行绒毛修剪、清除浮绒作业;对基布以及植绒层进行后整理,完成眼镜布的制作。本发明的眼镜布制作方法,使眼镜布改变了以往的单一结构,制作方法简单却产生了意想不到积极效果。眼镜布身更柔软细腻,立体感强,手感柔和,用其擦拭眼镜镜片,清洁效果更佳,且对镜片完全不会造成损伤。有效提高了眼镜布的吸水性和擦拭性能。眼镜布同时具有视觉上的美感,博得消费者的青睐。

Description

一种眼镜布制作方法
技术领域
本发明涉及一种眼镜布的制作方法,具体涉及一种具有植绒层的眼镜布制作方法。
背景技术
眼镜布是佩带眼镜者不可或缺的随身用品,尤其对于高品质镜片的眼镜,为了满足既要镜片擦拭效果好、又要不使镜片受到损伤的要求,对眼镜布的质地要求就更高;另一方面,眼镜布的外观、手感也对使用者影响很大。
发明内容
本发明的发明者正是洞察了市场对眼镜布的需求状况,着手进行眼镜布的改进。经过反复研究试验,终于研制出一种既能高效清洁眼镜镜片、又能保护镜片不受损伤且手感细腻柔和、视觉效果极具美感的高品质眼镜布制作方法。
实现本发明目的的技术方案如下所述:
一种眼镜布制作方法,所述眼镜布由基布和位于该基布上层的植绒层组成,其特征在于:所述制作方法包括下述步骤:
(一)给所述的基布表面涂上胶粘剂;
(二)将绒毛垂直粘在上述涂有胶粘剂的基布表面,形成植绒层;
(三)对上述基布以及植绒层进行烘干处理;
(四)对经过上述步骤(三)烘干处理后的植绒层进行绒毛修剪、清除浮绒作业;
(五)对基布以及植绒层进行后整理,完成眼镜布的制作。
所述的基布采用100%涤纶材料制成。
所述的植绒层采用人造绒毛或者天然绒毛制成。
所述的植绒层具有凹凸状花纹。
本发明提供的眼镜布制作方法,使眼镜布改变了以往的单一结构,制作方法简单却产生了意想不到积极效果。在基布上粘贴绒毛,使眼镜布身更柔软细腻,立体感强,手感柔和,用其擦拭眼镜镜片,清洁效果更佳,且对镜片完全不会造成损伤。用100%涤纶材料作为眼镜布的基布材料,较之以往采用尼龙或者尼龙和涤纶混合材料的眼镜布,有效提高了眼镜布的吸水性和擦拭性能。植绒层可以按设计图案制成各种凹凸状花纹,使眼镜布同时具有视觉上的美感,博得消费者的青睐。
附图说明    
图1是本发明实施例眼镜布俯视结构示意图;
图2是图1 A-A向剖视图。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明的具体实施方式进一步加以描述:   
请参见图1、图2,本实施例提供的眼镜布外形呈正方形,该眼镜布由基布1和位于该基布1上层的植绒层2组成。基布1采用100%涤纶材料制成,植绒层2采用绒毛制成,可以是人造绒毛如尼龙绒毛或者天然绒毛如羊毛绒毛。
本实施例眼镜布制作方法包括下述步骤:
(一)给所述的基布1表面涂上胶粘剂;
(二)将绒毛垂直粘在上述涂有胶粘剂的基布1表面,形成植绒层2;
(三)对上述基布1以及植绒层2进行烘干处理;
(四)对经过上述步骤(三)烘干处理后的植绒层2进行绒毛修剪、清除浮绒作业;
(五)对基布1以及植绒层2进行后整理,完成眼镜布的制作。
可根据需要选择基布1和植绒层2的颜色,采用不同的花纹模板在基部1表面粘贴绒毛,可形成不同凹凸状花纹的植绒层2。
制成植绒层2的绒毛可以是。

Claims (4)

1.一种眼镜布制作方法,所述眼镜布由基布(1)和位于该基布(1)上层的植绒层(2)组成,其特征在于:所述制作方法包括下述步骤:
(一)给所述的基布(1)表面涂上胶粘剂;
(二)将绒毛垂直粘在上述涂有胶粘剂的基布(1)表面,形成植绒层(2);
(三)对上述基布(1)以及植绒层(2)进行烘干处理;
(四)对经过上述步骤(三)烘干处理后的植绒层(2)进行绒毛修剪、清除浮绒作业;
(五)对基布(1)以及植绒层(2)进行后整理,完成眼镜布的制作。
2.根据权利要求1所述的眼镜布制作方法,其特征在于:所述的基布(1)采用100%涤纶材料制成。
3.根据权利要求1所述的眼镜布制作方法,其特征在于:所述的植绒层(2)采用人造绒毛或者天然绒毛制成。
4.根据权利要求1所述的眼镜布制作方法,其特征在于:所述的植绒层(2)具有凹凸状花纹。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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