CN103304894A - 一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方 - Google Patents

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Abstract

一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,涉及塑料拉丝技术领域,包括拉丝聚丙烯和辅助剂,其特征在于:还包括增透剂。本发明透明度高,外观亮丽美观,强度可靠,品质优,可以作为高档包装品。

Description

一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方
技术领域:
本发明涉及塑料拉丝技术领域,具体是一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方。
背景技术:
聚丙烯拉丝料拉伸性能优异,主要用于生产塑料编制制品,制品具有不吸水、耐腐蚀、不霉变、耐磨擦、使用寿命长等特点。产品广泛用于编织袋、(遮阳或覆盖用)彩条布、地毯背衬(基布)、集装袋、篷布和绳索的生产,制品主要用于粮食、化肥、水泥、糖、盐、工业用料和矿砂等的包装。现有技术中,聚丙烯拉丝料工艺较为简单,辅助助剂较为单一,重要是用于增加拉丝料的强度、韧性等,而市场上的聚丙烯拉丝产品透明度都比较低,即便是全新料,聚丙稀全新的透光性能也不是很好。因此主要用于对外观包装要求较低的产品中,而在一些高档的包装产品中却很少能看到聚丙烯拉丝料的存在,究其原因是为了降低生产成本,不少企业经常会使用或者添加一部分回收料和边角料等,而这些原料里不可避免的会存在一定的杂质,而聚丙烯拉丝料中杂质会对光线的吸引和漫反射,导致拉丝料浑浊,透明度不高,用于包装美观度降低。也有部分企业加入一定量的裙青,的确可以有效改善聚丙稀的透光性,但是改善性能有限,特别是对含有部分边角料或再生料的原料,改善性能有限。
发明内容:
本发明所要解决的技术问题在于提供一种外观美观,可以用于高档包装的聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,特别是对含有再生料或边解料的原料。
一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,包括拉丝聚丙烯和辅助剂,其特征在于:还包括增透剂。
所述的增透剂为半精炼石蜡、石墨粉和裙青中的一种或者几种。
所述的半精炼石蜡、石墨粉和裙青分别所占的质量百分比为4‰~6‰、0.4‰~0.6‰和0.3‰~1‰。
辅助剂为ps料、丙膜、PP颗粒和玻纤中的一种或者几种。
本发明辅助剂和增透剂加入拉丝聚丙烯原料中,充分搅拌,可以有效地提高膜片和拉丝的拉力和透明度,对再生料的透明度提高特别显著。增透剂中的半精炼石蜡、石墨粉和裙青可以有效地减少塑料中杂质对光线的吸引和漫反射,从而增加了光线的穿透力,从而使丝的透明度大幅度提高。
本发明的有益效果是:本发明透明度高,外观亮丽美观,强度可靠,品质优,可以作为高档包装品。
具体实施方式:
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实例,进一步阐述本发明。
实施例一:
一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,包括拉丝聚丙烯和辅助剂,还包括增透剂。增透剂为半精炼石蜡、石墨粉和裙青中的组合。半精炼石蜡、石墨粉和裙青分别所占的质量百分比为4‰、0.4‰和0.3‰。辅助剂为ps料、丙膜。
本实施例所采用的原料为较为纯净的聚丙烯拉丝原料,内部含有的杂质较少,只需要加入少量的增透剂,即可达到高透明度拉丝产品的效果。
实施例二:
一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,包括拉丝聚丙烯和辅助剂,还包括增透剂。增透剂为半精炼石蜡、石墨粉和裙青中的组合。半精炼石蜡、石墨粉和裙青分别所占的质量百分比为5‰、0.5‰和0.7‰。辅助剂为ps料、丙膜、PP颗粒。
本实施例使用了较多的回收料或者在生产中所产生的费角料,这些材料的重新使用,由于材料内部含有较多的杂质,在没有增加增透剂的情况下生产出来的拉丝料透明度很差,在本实施例中加入了较多的增透剂,特别是增透剂中的裙青占有较高的比例,生产出来的拉丝产品同样能够达到很高的透明度。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (4)

1.一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,包括拉丝聚丙烯和辅助剂,其特征在于:还包括增透剂。
2.根据权利要求1所述的一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,其特征在于:所述的增透剂为半精炼石蜡、石墨粉和裙青中的一种或者几种。
3.根据权利要求2所述的一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,其特征在于:所述的半精炼石蜡、石墨粉和裙青分别所占的质量百分比为4‰~6‰、0.4‰~0.6‰和0.3‰~1‰。
4.根据权利要求1所述的一种聚丙烯高透明度高亮拉丝配方,其特征在于:所述的辅助剂为ps料、丙膜、PP颗粒和玻纤中的一种或者几种。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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