CN103225997A - 生产机床用平面度测量装置 - Google Patents

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林锦富
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Bengbu Jinlin Cnc Machine Tool Manufacturing Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种生产机床用平面度测量装置，以解决现有教学机床生产用的水平测量仪移动、固定、定位和调节不方便的问题，涉及机床生产用工装领域，包括固定在调节架上的万分表，其特征在于：所述调节架包括固定在底座上的第一调节杆，所述第一调节杆通过第一调节转接头连接第二调节杆，所述第二调节杆通过第二调节转接头连接第三调节杆，所述第三调节杆水平固定，所述万分表固定在第三调节杆上。本发明结构简单，使用方便，适合机床生产中使用，设置有磁性底座，移动、固定、定位和调节方便，适合对较大区域进行移动测量，固定架的调节范围大，可对较大区域进行测量。

Description

生产机床用平面度测量装置
技术领域：
本发明涉及机床生产用工装领域，尤其涉及一种生产机床用平面度测量装置。
背景技术：
随着工业现代化的发展，制造行业都采用数控机床来完成加工作业，这样精度、效率都大大的提高，产品质量也大幅度的提升，大大加快了我国的工业现代化步伐，因此好多大中专院校，职业学校纷纷开设数控机床教学课程。
为了配合数控机床的教学，按照数控机床的原理和结构生产出小型用于教学的数控机床，我们把它叫做教学机床，由于教学机床只是用于教学，对精度要求不是很高，其机床导轨的平面度检测，通常使用万分表来完成。目前使用万分表测量平面度的装置，只适合在小范围的平面内进行测量，不适合对较大范围的平面进行平面度测量，尤其不适合对机床导轨进行移动测量，其移动、固定、定位和调节不方便。
发明内容：
本发明的目的在于提供一种生产机床用平面度测量装置，以解决现有教学机床生产用的水平测量仪移动、固定、定位和调节不方便的问题，适合机床生产中对较大区域的平面进行移动测量。
一种生产机床用平面度测量装置，包括固定在调节架上的万分表，其特征在于：所述调节架包括固定在底座上的第一调节杆，所述第一调节杆通过第一调节转接头连接第二调节杆，所述第二调节杆通过第二调节转接头连接第三调节杆，所述第三调节杆水平固定，所述万分表固定在第三调节杆上，第一调节转接头可在360°范围内进行调节，可调节的范围大。
所述底座为磁性材料制成，或设置有磁性底层，调节架移动、固定方便，使用中定位效果好。
所述第一调节杆、第二调节杆和第三调节杆为空心钢管，调节架整体重量小，便于整体移动和调节。
本发明结构简单，使用方便，适合机床生产中使用，设置有磁性底座，移动、固定、定位和调节方便，适合对较大区域进行移动测量，固定架的调节范围大，可对较大区域进行测量。
附图说明：
图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式：
为了使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体图示及具体实施例，进一步阐述本发明，但不是用来限制本发明的保护范围。
如图1所示，一种生产机床用平面度测量装置，包括固定在调节架3上的万分表4，通过万分表4对被测物5进行平面度测量，调节架3包括固定在底座2上的第一调节杆31，第一调节杆31通过第一调节转接头32连接第二调节杆33，第二调节杆33通过第二调节转接头34连接第三调节杆35，第三调节杆35水平固定，万分表4固定在第三调节杆35上，第一调节转接头32可在360°范围内进行调节，可调节的范围大，底座2为磁性材料制成，或设置有磁性底层，使用时，磁性的底座2可吸附在任何钢铁材质的平台1上，调节架3移动、固定方便，使用中定位效果好。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案；因此，尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明，但是，本领域的普通技术人员应当理解，仍然可以对本发明进行修改或等同替换；而一切不脱离本发明的精神和范围的技术方案及其改进，其均应涵盖在本发明的权利要求范围中。

Claims (3)

1.一种生产机床用平面度测量装置，包括固定在调节架上的万分表，其特征在于：所述调节架包括固定在底座上的第一调节杆，所述第一调节杆通过第一调节转接头连接第二调节杆，所述第二调节杆通过第二调节转接头连接第三调节杆，所述第三调节杆水平固定，所述万分表固定在第三调节杆上。
2.根据权利要求1所述的生产机床用平面度测量装置，其特征在于：所述底座为磁性材料制成，或设置有磁性底层。
3.根据权利要求2所述的生产机床用平面度测量装置，其特征在于：所述第一调节杆、第二调节杆和第三调节杆为空心钢管。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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