CN103200711A - 一种pecvd加热器反射板装置 - Google Patents
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Abstract
本发明系提供一种PECVD加热器反射板装置,它由以不锈钢表面抛光处理的金属板,通过多层次的装置,有效阻隔辐射热向加热器反方向的扩散,可有效阻隔热源加热真空腔壁进而可减少腔壁冷却源的布置数量的目的。
Description
所属技术领域
本发明属于光伏玻璃工艺设备领域,具体涉及一种PECVD加热器反射板装置。
背景技术
目前,于PECVD沈积设备加热器背面皆放置一片反射板,随着沈积薄膜温度越来越高的要求,加热器的极限温度也不断升高,一片反射板方式的加热器不仅在阻隔热能散失的功能上达不到要求,同时热源会以辐射热能的方式向腔壁扩散,使真空腔内温度控制难度增加,也使的需要在真空腔壁外需要布置大量水路来冷却逐渐发热的真空腔壁,为了使真空腔内达到需要调节的温度,只有通过提升加热器功率或增设多组加热器来达成,此举增加了设备开发成本。
发明内容
综上所述,为了克服现有技术不足,本发明的主要目的在于提供一种PECVD加热器反射板装置,它利用不向刚表面抛光处理使热源可有向的反射,同时利用多层次的方式增加热阻,有效地阻隔热源向真空腔壁扩散。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案是:
一种PECVD加热器反射装置,包括3层不锈钢表面抛光处理板装置于加热器后方,固定于等高柱凹槽,使层与层之间保持10mm的间隔。本发明有益效果为:
1. 本发明利用表面抛光不锈钢板,结构简单。2. 本发明利用等高柱凹槽固定每层不锈钢板,拆卸方便。
附图说明
图1系为本发明结构示意图。
图2系为不锈钢板结构示意图。
主要组件符号说明
1...加热器
2...不锈钢板组
3...固定等高柱,共21个
21...第一层不锈钢板
22...第二层不锈钢板
23...第三层不锈钢板
具体实施方式
下面结合附图对本发明做进一步说明。
请参阅图1所示,一种PECVD加热器反射板装置,其包括托加热器主体1及不锈钢板2组成,不锈钢板2上有两个大小不同且部分重叠的圆总成的固定孔,可固定不锈钢板于等高柱3上。
请参阅图2所示,一种PECVD加热器反射板装置,其中不锈钢板有3层组成,第一层21至于等高柱3凹槽最前方,其次为第二层22,位于等高柱3中间部分的凹槽,最后为第3层23,位于等高柱3最后部分的凹槽,层与层间间隔10mm,增加热阻,可有效阻隔热能向真空腔壁扩散。
以上所述实例是对本发明技术方案的说明而非限制,所属技术领域普通技术人员的等同替换或者根据现有技术而做的修改,只要未超出本发明技术方案的思路和范围,均应包含在本发明的权利要求范围之内。
Claims (3)
1.一种PECVD加热器反射板装置,它由以不锈钢板组成。
2.根据权利要求1所述之一种PECVD加热器反射板装置,其特征在于所述的不锈钢板表面抛光处理。
3.根据权利要求1所述之一种PECVD加热器反射板装置,其特征在于所述的不锈钢板以3层方式堆叠在加热器后方,层与层间隔10mm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN 201210000947 CN103200711A (zh) | 2012-01-05 | 2012-01-05 | 一种pecvd加热器反射板装置 |
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CN 201210000947 CN103200711A (zh) | 2012-01-05 | 2012-01-05 | 一种pecvd加热器反射板装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN103200711A true CN103200711A (zh) | 2013-07-10 |
Family
ID=48723024
Family Applications (1)
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CN 201210000947 Pending CN103200711A (zh) | 2012-01-05 | 2012-01-05 | 一种pecvd加热器反射板装置 |
Country Status (1)
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109071229A (zh) * | 2016-07-20 | 2018-12-21 | 株式会社参特伦 | 用于合成高质量石墨烯的热处理设备 |
CN111809167A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-10-23 | 上海理想万里晖薄膜设备有限公司 | Pecvd设备及其所用的pecvd镀膜方法 |
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2012
- 2012-01-05 CN CN 201210000947 patent/CN103200711A/zh active Pending
Cited By (3)
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CN109071229A (zh) * | 2016-07-20 | 2018-12-21 | 株式会社参特伦 | 用于合成高质量石墨烯的热处理设备 |
CN111809167A (zh) * | 2020-07-10 | 2020-10-23 | 上海理想万里晖薄膜设备有限公司 | Pecvd设备及其所用的pecvd镀膜方法 |
CN111809167B (zh) * | 2020-07-10 | 2022-11-15 | 上海理想万里晖薄膜设备有限公司 | Pecvd设备及其所用的pecvd镀膜方法 |
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Legal Events
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C05 | Deemed withdrawal (patent law before 1993) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130710 |