CN103172221A - 一种污水处理装置 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种污水处理装置,包括壳体和设于壳体底端的排污装置,所述壳体顶端设有进料口,所述进料口处设有过滤装置,其特征在于:所述壳体内设有中空腔体,中空腔体通过竖直隔板分隔成至少三个隔室,最左隔室为沉淀室,中间隔室为厌氧室,最右隔室为处理室,所述过滤装置与沉淀室连通,所述沉淀室底端开有排污口,所述沉淀室与厌氧室之间设有连通管道,所述连通管道穿过竖直隔板中部,所述厌氧室内设有臭氧发生器,所述臭氧发生器通向处理室。本发明的优点是:结构简单,设备结构设计合理,性能可靠,沉淀室、厌氧室和处理室之间的相互配合,达到较好的污水处理效果,同时壳体固定牢固,操作和维护方便,大大降低了制造成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种污水处理装置。
背景技术
对于工业和民用污水的处理,一般传统的处理是将排出的污水通过沉淀池、平流池、浓缩池等完成污水处理的全过程,这种处理方式所用的设备占地面积大,建设费用高,设备投资大,运行成本高,不能满足一些中小企业的需求,现有的污水对环境危害极大,急需一种快速解决污水问题的处理装置,因此,为解决上述问题,特提供一种新的技术方案。
发明内容
本发明的目的是提供一种污水处理装置。
本发明采用的技术方案是:
一种污水处理装置,包括壳体和设于壳体底端的排污装置,所述壳体顶端设有进料口,所述进料口处设有过滤装置,所述壳体内设有中空腔体,中空腔体通过竖直隔板分隔成至少三个隔室,最左隔室为沉淀室,中间隔室为厌氧室,最右隔室为处理室,所述过滤装置与沉淀室连通,所述沉淀室底端开有排污口,所述沉淀室与厌氧室之间设有连通管道,所述连通管道穿过竖直隔板中部,所述厌氧室内设有臭氧发生器,所述臭氧发生器通向处理室。
所述排污装置位于中空腔体下端。
所述排污口与排污装置连通。
所述壳体底端固定有固定支撑座。
本发明的优点是:结构简单,设备结构设计合理,性能可靠,沉淀室、厌氧室和处理室之间的相互配合,达到较好的污水处理效果,同时壳体固定牢固,操作和维护方便,大大降低了制造成本,满足中小企业的需求。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。
图1为本发明的结构示意图。
其中:1、壳体,2、排污装置,3、固定支撑座,4、进料口,5、过滤装置,6、中空腔体,7、竖直隔板,8、沉淀室,9、厌氧室,10、处理室,11、排污口,12、连通管道,13、臭氧发生器。
具体实施方式
如图1所示,本发明的一种污水处理装置,包括壳体1和设于壳体1底端的排污装置2,壳体1底端固定有固定支撑座3,壳体1顶端设有进料口4,进料口4处设有过滤装置5,壳体1内设有中空腔体6,中空腔体6通过竖直隔板7分隔成至少三个隔室,最左隔室为沉淀室8,中间隔室为厌氧室9,最右隔室为处理室10,排污装置2位于中空腔体6下端,过滤装置5与沉淀室8连通,沉淀室8底端开有排污口11,排污口11与排污装置2连通,沉淀室8与厌氧室9之间设有连通管道12,连通管道12穿过竖直隔板7中部,厌氧室9内设有臭氧发生器13,臭氧发生器13通向处理室10。
本发明的优点是:结构简单,设备结构设计合理,性能可靠,沉淀室、厌氧室和处理室之间的相互配合,达到较好的污水处理效果,同时壳体固定牢固,操作和维护方便,大大降低了制造成本,满足中小企业的需求。
Claims (4)
1.一种污水处理装置,包括壳体和设于壳体底端的排污装置,所述壳体顶端设有进料口,所述进料口处设有过滤装置,其特征在于:所述壳体内设有中空腔体,中空腔体通过竖直隔板分隔成至少三个隔室,最左隔室为沉淀室,中间隔室为厌氧室,最右隔室为处理室,所述过滤装置与沉淀室连通,所述沉淀室底端开有排污口,所述沉淀室与厌氧室之间设有连通管道,所述连通管道穿过竖直隔板中部,所述厌氧室内设有臭氧发生器,所述臭氧发生器通向处理室。
2.根据权利要求1所述的一种污水处理装置,其特征在于:所述排污装置位于中空腔体下端。
3.根据权利要求1或2所述的一种污水处理装置,其特征在于:所述排污口与排污装置连通。
4.根据权利要求1所述的一种污水处理装置,其特征在于:所述壳体底端固定有固定支撑座。
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Publications (1)
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- 2013-03-27 CN CN2013101007075A patent/CN103172221A/zh active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130626 |