CN103151709B - 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管 - Google Patents

具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管 Download PDF

Info

Publication number
CN103151709B
CN103151709B CN201310067262.5A CN201310067262A CN103151709B CN 103151709 B CN103151709 B CN 103151709B CN 201310067262 A CN201310067262 A CN 201310067262A CN 103151709 B CN103151709 B CN 103151709B
Authority
CN
China
Prior art keywords
oxide film
laser diode
type zinc
thin film
nitrogen magnesium
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201310067262.5A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103151709A (zh
Inventor
钱时昌
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LIYANG HUAJING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd
Original Assignee
LIYANG HUAJING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LIYANG HUAJING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd filed Critical LIYANG HUAJING ELECTRONIC MATERIAL CO Ltd
Priority to CN201310067262.5A priority Critical patent/CN103151709B/zh
Publication of CN103151709A publication Critical patent/CN103151709A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103151709B publication Critical patent/CN103151709B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Electrodes Of Semiconductors (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管,该激光二极管的结构为:n型氧化镍薄膜,其形成在砷化镓衬底的上表面上;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜,其形成在所述n型氧化镍薄膜的上表面上,以及底电极,其形成在所述n型氧化镍薄膜下表面上,顶电极,其形成在所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的上表面上。

Description

具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管
技术领域
本发明属于半导体领域,具体来说涉及一种具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管。
背景技术
氧化锌(ZnO)无论在晶格结构、晶胞参数还是在禁带宽度上都与GaN相似,且具有比GaN更高的熔点和更大的激子束缚能,又具有较低的光致发光和受激辐射的阈值以及良好的机电耦合特性、热稳定性和化学稳定性。因而在蓝紫光发光二极管、激光器及其相关光电器件方面的应用有巨大的潜力。在室温下,氧化锌(ZnO)的禁带宽度为3.37eV,自由激子结合能高达60meV,远大于GaN的激子结合能25meV和室温热离化能26meV,因此更容易在室温或更高温度下实现激子增益。但是,ZnO走向光电器件应用的关键是实现稳定可靠且低阻的p型ZnO薄膜。ZnO由于存在诸多本征施主缺陷(如Zni,Vo等)和非故意掺杂的H等杂质,通常表现为n型。这些施主缺陷的存在能对掺入的受主杂质产生强烈的自补偿效应,所以难以实现ZnO的P型掺杂。ZnO同质结紫外激射二极管需要做多层量子阱结构,而且所用p-ZnO迁移率较低、稳定性较差。发展结构简单、成本低廉、光增益高的紫外激光二极管具有重要的应用价值。
目前,业内已有通过共掺杂的方式来得到p型氧化锌薄膜的报道。例如,在氧化锌中掺入镁和锑来形成Mg-Sb共掺杂p型ZnO薄膜,其中镁(Mg)作为ZnO的掺杂剂可以有效地增大ZnO的禁带宽度,于是ZnO中的本征浅施主能级便会远离导带边,从而增大了其电离能,减弱了ZnO的n型导电特性。但是由于ZnO中存在的本征浅施主缺陷的自补偿作用,使得Sb很难被用来掺杂制备p型ZnO材料。
附图说明
图1是本发明提出的激光二极管的结构示意图;
发明内容:
本发明针对现有技术存在的问题,提出了一种具有氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管,该激光二极管的结构为:
n型氧化镍薄膜,其形成在砷化镓衬底的上表面上;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜,其形成在所述n型氧化镍薄膜的上表面上,以及底电极,其形成在所述n型氧化镍薄膜下表面上,顶电极,其形成在所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的上表面上。
其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的厚度为300-400nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜中Mg的摩尔百分含量是5-11%,砷的摩尔百分含量是0.8-1.7%;所述n型氧化镍薄膜的厚度为300-600nm。
其中,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
具体实施方式:
下面通过具体实施方式对本发明进行详细说明。
实施例1
如图1所示,本发明的采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管的结构为:
在砷化镓衬底2的上表面上具有n型氧化镍薄膜3,该n型氧化镍薄膜3的厚度为300-600nm;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4,其形成在所述n型氧化镍薄膜3的上表面上,其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的厚度为300-400nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4中Mg的摩尔百分含量是5-11%,砷的摩尔百分含量是0.8-1.7%;并且,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜4的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
底电极1形成在砷化镓衬底2的下表面上,顶电极5形成在氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的上表面上。可以采用多种金属材料来构成底电极1和顶电极5的材料,例如金、银或铜。也可以采用金属化合物材料来构成所述底电极1和顶电极5,例如ITO。
实施例2
如图1所示,本发明的采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管的结构为:
在砷化镓衬底2的上表面上具有n型氧化镍薄膜3,该n型氧化镍薄膜3的厚度为400nm;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4,其形成在所述n型氧化镍薄膜3的上表面上,其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的厚度为360nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4中Mg的摩尔百分含量是9%,砷的摩尔百分含量是1.2%;并且,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜4的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
底电极1形成在砷化镓衬底2的下表面上,顶电极5形成在氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的上表面上。可以采用多种金属材料来构成底电极1和顶电极5的材料,例如金、银或铜。也可以采用金属化合物材料来构成所述底电极1和顶电极5,例如ITO。
以上实施方式已经对本发明进行了详细的介绍,但上述实施方式并非为了限定本发明的范围,本发明的保护范围由所附的权利要求限定。

Claims (4)

1.一种采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管,该激光二极管的结构为:
n型氧化镍薄膜,其形成在砷化镓衬底的上表面上;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜,其形成在所述n型氧化镍薄膜的上表面上,以及底电极,其形成在所述n型氧化镍薄膜下表面上,顶电极,其形成在所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的上表面上。
2.如权利要求1所述的激光二极管,其特征在于:
其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的厚度为300-400nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜中Mg的摩尔百分含量是5-11%,砷的摩尔百分含量是0.8-1.7%;所述n型氧化镍薄膜的厚度为300-600nm。
3.如权利要求1或2所述的激光二极管,其特征在于:
其中,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
4.如权利要求3所述的激光二极管,其特征在于:
采用金、银、铜或ITO来构成底电极和顶电极。
CN201310067262.5A 2013-03-01 2013-03-01 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管 Expired - Fee Related CN103151709B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310067262.5A CN103151709B (zh) 2013-03-01 2013-03-01 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310067262.5A CN103151709B (zh) 2013-03-01 2013-03-01 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103151709A CN103151709A (zh) 2013-06-12
CN103151709B true CN103151709B (zh) 2015-02-25

Family

ID=48549643

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310067262.5A Expired - Fee Related CN103151709B (zh) 2013-03-01 2013-03-01 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103151709B (zh)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101368288A (zh) * 2008-10-07 2009-02-18 中国科学院物理研究所 一种p型ZnO薄膜制造方法
KR20090095877A (ko) * 2008-03-06 2009-09-10 부산대학교 산학협력단 불순물 Na 및 F로 코도핑되는 p-형 ZnO 반도체
CN101604719A (zh) * 2009-07-13 2009-12-16 浙江大学 一种Mg-Na共掺的ZnO基发光二极管及其制备方法
CN101621104A (zh) * 2009-08-06 2010-01-06 杭州兰源光电材料有限公司 一种垂直结构ZnO基多量子阱发光二极管及其制备方法
CN102549780A (zh) * 2009-08-26 2012-07-04 印度马德拉斯理工学院 Li和Ni共掺杂的ZnO中的稳定P型半导体特征

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7048872B2 (en) * 2002-09-16 2006-05-23 The Regents Of The University Of California Codoped direct-gap semiconductor scintillators

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090095877A (ko) * 2008-03-06 2009-09-10 부산대학교 산학협력단 불순물 Na 및 F로 코도핑되는 p-형 ZnO 반도체
CN101368288A (zh) * 2008-10-07 2009-02-18 中国科学院物理研究所 一种p型ZnO薄膜制造方法
CN101604719A (zh) * 2009-07-13 2009-12-16 浙江大学 一种Mg-Na共掺的ZnO基发光二极管及其制备方法
CN101621104A (zh) * 2009-08-06 2010-01-06 杭州兰源光电材料有限公司 一种垂直结构ZnO基多量子阱发光二极管及其制备方法
CN102549780A (zh) * 2009-08-26 2012-07-04 印度马德拉斯理工学院 Li和Ni共掺杂的ZnO中的稳定P型半导体特征

Also Published As

Publication number Publication date
CN103151709A (zh) 2013-06-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Minami et al. Cu2O-based solar cells using oxide semiconductors
Zhao et al. Electroluminescence of the p-ZnO: As/n-ZnO LEDs grown on ITO glass coated with GaAs interlayer
Long et al. Electroluminescence from ZnO-nanorod-based double heterostructured light-emitting diodes
CN103166113B (zh) 具有共掺杂薄膜的氮化镓基激光二极管
TWI278997B (en) Semiconductor material and semiconductor element using the same
CN103151707B (zh) 一种激光二极管的制造方法
CN103166111B (zh) 一种具有氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管
CN103178444B (zh) 一种激光二极管
CN103151709B (zh) 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管
CN102623606A (zh) 银纳米线透明电极氮化镓基发光二极管及其制作方法
CN103166110B (zh) 一种砷化镓基激光二极管
CN103166114B (zh) 具有氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜激光二极管的制造方法
Chiu et al. The Achievement of a Zinc Oxide‐Based Homojunction Diode Using Radio Frequency Magnetron Cosputtering System
CN103166112B (zh) 一种氮镁共掺杂的p型氧化锌薄膜
CN103166109B (zh) 一种氮化镓基激光二极管
CN101587924B (zh) 发出辐射的半导体元件及降低其操作电压的方法
Kong et al. Heterojunction light emitting diodes fabricated with different n-layer oxide structures on p-GaN layers by magnetron sputtering
CN103151708B (zh) 一种镁砷共掺杂p型氧化锌薄膜
CN103160785B (zh) 一种氮镁共掺杂的p型氧化锌薄膜的制造方法
CN103147042B (zh) 一种镁砷共掺杂p型氧化锌薄膜的制造方法
CN206210825U (zh) 一种n型氮化镓基发光二极管
KR101664483B1 (ko) P형 반도체 조성물 및 이를 이용한 태양전지 및 그 제조 방법
CN102593230B (zh) 太阳能电池
CN202940268U (zh) 具有高空穴浓度的半导体结构及发光二极管
CN105161978A (zh) 一种p型氧化锌薄膜的激光组件

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20150225

Termination date: 20160301

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee