CN103151709B - 具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管,该激光二极管的结构为:n型氧化镍薄膜,其形成在砷化镓衬底的上表面上;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜,其形成在所述n型氧化镍薄膜的上表面上,以及底电极,其形成在所述n型氧化镍薄膜下表面上,顶电极,其形成在所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的上表面上。
Description
技术领域
本发明属于半导体领域,具体来说涉及一种具有共掺杂薄膜的砷化镓基激光二极管。
背景技术
氧化锌(ZnO)无论在晶格结构、晶胞参数还是在禁带宽度上都与GaN相似,且具有比GaN更高的熔点和更大的激子束缚能,又具有较低的光致发光和受激辐射的阈值以及良好的机电耦合特性、热稳定性和化学稳定性。因而在蓝紫光发光二极管、激光器及其相关光电器件方面的应用有巨大的潜力。在室温下,氧化锌(ZnO)的禁带宽度为3.37eV,自由激子结合能高达60meV,远大于GaN的激子结合能25meV和室温热离化能26meV,因此更容易在室温或更高温度下实现激子增益。但是,ZnO走向光电器件应用的关键是实现稳定可靠且低阻的p型ZnO薄膜。ZnO由于存在诸多本征施主缺陷(如Zni,Vo等)和非故意掺杂的H等杂质,通常表现为n型。这些施主缺陷的存在能对掺入的受主杂质产生强烈的自补偿效应,所以难以实现ZnO的P型掺杂。ZnO同质结紫外激射二极管需要做多层量子阱结构,而且所用p-ZnO迁移率较低、稳定性较差。发展结构简单、成本低廉、光增益高的紫外激光二极管具有重要的应用价值。
目前,业内已有通过共掺杂的方式来得到p型氧化锌薄膜的报道。例如,在氧化锌中掺入镁和锑来形成Mg-Sb共掺杂p型ZnO薄膜,其中镁(Mg)作为ZnO的掺杂剂可以有效地增大ZnO的禁带宽度,于是ZnO中的本征浅施主能级便会远离导带边,从而增大了其电离能,减弱了ZnO的n型导电特性。但是由于ZnO中存在的本征浅施主缺陷的自补偿作用,使得Sb很难被用来掺杂制备p型ZnO材料。
附图说明
图1是本发明提出的激光二极管的结构示意图;
发明内容:
本发明针对现有技术存在的问题,提出了一种具有氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管,该激光二极管的结构为:
n型氧化镍薄膜,其形成在砷化镓衬底的上表面上;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜,其形成在所述n型氧化镍薄膜的上表面上,以及底电极,其形成在所述n型氧化镍薄膜下表面上,顶电极,其形成在所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的上表面上。
其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的厚度为300-400nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜中Mg的摩尔百分含量是5-11%,砷的摩尔百分含量是0.8-1.7%;所述n型氧化镍薄膜的厚度为300-600nm。
其中,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
具体实施方式:
下面通过具体实施方式对本发明进行详细说明。
实施例1
如图1所示,本发明的采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管的结构为:
在砷化镓衬底2的上表面上具有n型氧化镍薄膜3,该n型氧化镍薄膜3的厚度为300-600nm;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4,其形成在所述n型氧化镍薄膜3的上表面上,其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的厚度为300-400nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4中Mg的摩尔百分含量是5-11%,砷的摩尔百分含量是0.8-1.7%;并且,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜4的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
底电极1形成在砷化镓衬底2的下表面上,顶电极5形成在氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的上表面上。可以采用多种金属材料来构成底电极1和顶电极5的材料,例如金、银或铜。也可以采用金属化合物材料来构成所述底电极1和顶电极5,例如ITO。
实施例2
如图1所示,本发明的采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管的结构为:
在砷化镓衬底2的上表面上具有n型氧化镍薄膜3,该n型氧化镍薄膜3的厚度为400nm;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4,其形成在所述n型氧化镍薄膜3的上表面上,其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的厚度为360nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4中Mg的摩尔百分含量是9%,砷的摩尔百分含量是1.2%;并且,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜4的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
底电极1形成在砷化镓衬底2的下表面上,顶电极5形成在氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜4的上表面上。可以采用多种金属材料来构成底电极1和顶电极5的材料,例如金、银或铜。也可以采用金属化合物材料来构成所述底电极1和顶电极5,例如ITO。
以上实施方式已经对本发明进行了详细的介绍,但上述实施方式并非为了限定本发明的范围,本发明的保护范围由所附的权利要求限定。
Claims (4)
1.一种采用氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的激光二极管,该激光二极管的结构为:
n型氧化镍薄膜,其形成在砷化镓衬底的上表面上;氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜,其形成在所述n型氧化镍薄膜的上表面上,以及底电极,其形成在所述n型氧化镍薄膜下表面上,顶电极,其形成在所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的上表面上。
2.如权利要求1所述的激光二极管,其特征在于:
其中,所述氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜的厚度为300-400nm,该氮镁共掺杂p型氧化锌薄膜中Mg的摩尔百分含量是5-11%,砷的摩尔百分含量是0.8-1.7%;所述n型氧化镍薄膜的厚度为300-600nm。
3.如权利要求1或2所述的激光二极管,其特征在于:
其中,在常温下,氮镁共掺杂的p型ZnO晶体薄膜的压电常数d33大于16pC/N,其电阻率大于2×1010Ω·cm。
4.如权利要求3所述的激光二极管,其特征在于:
采用金、银、铜或ITO来构成底电极和顶电极。
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