CN103149745B - 基板上隔垫物制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种基板上隔垫物制造方法，包括：在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层；第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度；对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影，形成隔垫物。第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度，使用同一张掩膜板曝光时，第二隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差小于第一隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差，因此，在第一隔垫物基材层形成的隔垫物下层的底部尺寸一定时，第二隔垫物基材层形成的隔垫物上层的顶部尺寸较大。所以，本发明提供的基板上隔垫物制造方法能够在增大隔垫物顶部直径的同时降低对液晶面板开口率的影响。

Description

基板上隔垫物制造方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，特别涉及一种基板上隔垫物制造方法。
背景技术
在显示技术领域，液晶面板以其耗电少、轻薄、便于携带等优点占据了显示面板的市场。液晶面板包括彩膜基板、阵列基板以及位于彩膜基板和阵列基板之间的液晶层，彩膜基板和阵列基板对盒后，为了维持两者之间的盒厚，目前通常采用在彩膜基板上制造隔垫物来实现。
如图1所示，彩膜基板包括形成在衬底基板上的黑矩阵02，黑矩阵02具有与RGB像素单元对应的开口区域01，黑矩阵02的非开口区域上具有用于支撑彩膜基板和阵列基板的隔垫物03。
如图2所示，现有技术中的隔垫物03，其顶部031和底部032之间的尺寸差异较大，一般底部032的直径比顶部031的直径大10~20um左右。
在液晶显示领域，为提高彩膜基板和阵列基板之间支撑的强度，进而提高液晶面板的强度，设计中需要增大隔垫物03顶部031的直径，以增大隔垫物03的支撑面积；但是，由于现有技术中隔垫物03的底部032的直径与顶部031的直径之间的尺寸差异较大，为提高隔垫物03顶部031的直径，必须同时增大隔垫物03底部032的直径，而隔垫物03在设计时为避免隔垫物对像素开口区液晶正常排列的影响，隔垫物03底部032的边缘与开口区之间的距离需要大于3~5um，增大隔垫物03顶部031直径的同时在一定程度上限制了液晶面板的开口率。
发明内容
本发明提供了一种基板上隔垫物制造方法，该制造方法能够在增大隔垫物顶部直径的同时降低对液晶面板开口率的影响。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
一种基板上隔垫物制造方法，包括：
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层；所述第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度；
对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影，形成隔垫物。
优选地，所述形成隔垫物之后还包括：
对隔垫物进行后固化。
优选地，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层之前还包括：
清洗衬底基板，并对清洗后的衬底基板进行干燥。
优选地，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层包括：
在衬底基板上涂覆第一隔垫物基材层；
在所述第一隔垫物基材层上涂覆第二隔垫物基材层。
优选地，在对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影之前还包括：
对第一隔垫物基材层以及第二隔垫物基材层进行预固化。
优选地，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层包括：
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层；
对第一隔垫物基材层预固化；
在第一隔垫物基材层上形成第二隔垫物基材层。
优选地，在对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影之前还包括：
对所述第二隔垫物基材层进行预固化。
优选地，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层包括：
在衬底基板上涂覆具有两种不同感光度的隔垫物树脂合成原料的隔垫物基材层，且感光度较高的隔垫物树脂合成原料的密度大于感光度较低的隔垫物树脂合成原料的密度；
对隔垫物基材层进行旋转离心分层，隔垫物基材层内的不同密度的隔垫物树脂合成原料沿隔垫物顶部指向底部的方向由大到小垂直分布，感光度较高的隔垫物树脂合成原料形成所述第二隔垫物基材层，感光度较低的隔垫物树脂合成原料形成所述第一隔垫物基材层。
优选地，所述隔垫物树脂合成原料包括：多聚物、含多功能基团的交联剂、光引发剂以及溶剂体系。
优选地，所述多聚物为丙烯酸树脂，所述多聚物的比重为10~25%；所述交联剂为含有多个氨基、异腈酸酯基等功能基团的丙烯酸单体，所述光引发剂包括苯偶姻、酰基膦氧化物、硫杂蒽酮类中的一种或多种，且所述光引发剂与交联剂的比重为10~25%；所述溶剂体系包含二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种，且所述溶剂体系的比重为50~80%。
本发明提供的基板上隔垫物制造方法，包括：
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层；所述第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度；
对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影，形成隔垫物。
本发明提供的基板上隔垫物制造方法中，由于衬底基板上的第二隔垫物基材层位于第一隔垫物基材层之上，在对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层曝光显影之后，第一隔垫物基材层形成隔垫物的下层，而第二隔垫物基材层形成隔垫物的上层；因为第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度，因此，使用同一张掩膜板曝光时，第二隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差MaskCDBias小于第一隔垫物基材层的MaskCDBias，其中
MaskCDBias=掩膜板设计尺寸-实际产出尺寸
因此，在第一隔垫物基材层形成的隔垫物下层的底部尺寸一定时，第二隔垫物基材层形成的隔垫物上层的顶部尺寸较大。
因此，本发明提供的基板上隔垫物制造方法能够在增大隔垫物顶部直径的同时降低对液晶面板开口率的影响。
附图说明
图1为现有技术中彩膜基板的一种结构示意图；
图2为现有技术中的隔垫物的结构示意图；
图3为本发明提供的基板上隔垫物制造方法的流程示意图；
图4为采用本发明提供的基板上隔垫物制造方法制造的隔垫物的一种结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在液晶显示器的制造过程中，隔垫物既可以制造在彩膜基板上，也可以制造在阵列基板上，本实施例以彩膜基板为例，来说明隔垫物的制造过程。
实施例一
如图3所示，本实施例提供的基板上隔垫物制造方法，包括：
步骤S301：在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层；第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度；
步骤S302：对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影，形成隔垫物。
本发明提供的基板上隔垫物制造方法中，由于衬底基板上的第二隔垫物基材层位于第一隔垫物基材层之上，在对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层曝光显影之后，形成的隔垫物如图4所示，第一隔垫物基材层形成隔垫物下层32，而第二隔垫物基材层形成隔垫物上层31；因为第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度，因此，使用同一张掩膜板曝光时，第二隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差MaskCDBias小于第一隔垫物基材层的MaskCDBias，其中
MaskCDBias=掩膜板设计尺寸-实际产出尺寸
因此，在第一隔垫物基材层形成的隔垫物下层32的底部321尺寸一定时，第二隔垫物基材层形成的隔垫物上层31的顶部311尺寸较大。
所以，本发明提供的基板上隔垫物制造方法能够在增大隔垫物顶部直径的同时降低对液晶面板开口率的影响。
一种优选实施方式中，上述步骤S302形成隔垫物之后还包括：
对步骤S302中形成的隔垫物进行后固化。对显影之后得到的隔垫物进行后固化能够提高隔垫物的机械强度，提高隔垫物的支撑能力。
一种优选实施方式中，上述步骤S301在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层之前还包括：
清洗衬底基板，并对清洗后的衬底基板进行干燥。
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层之前对衬底基板进行清洗并干燥，能够去除衬底基板上存在的污染物，进而能够提高形成的隔垫物与衬底基板之间的粘附强度，进而提高隔垫物的支撑稳定性。
实施例二
在实施例一及其优选实施方式的基础上，本实施例提供的基板上隔垫物的制造方法中，步骤S301在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层具体包括：
在衬底基板上涂覆第一隔垫物基材层；
在第一隔垫物基材层上涂覆第二隔垫物基材层。
即，实施例一中步骤S301中在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层采用两次涂覆的方式实现，能够提高第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层形成的均匀性。当然，除涂覆外，还可以采用沉积、溅射等其他形成方式实现。
一种优选实施方式中，在步骤S302对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影之前还包括：
对第一隔垫物基材层以及第二隔垫物基材层进行预固化。
实施例三
在实施例一及其优选实施方式的基础上，本实施例提供的基板上隔垫物制造方法中，步骤S301在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层具体包括：
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层；
对第一隔垫物基材层预固化；
在第一隔垫物基材层上形成第二隔垫物基材层。
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层之后，对第一隔垫物基材层进行预固化，可以降低在第一隔垫物基材层上形成第二隔垫物基材层时，第二隔垫物基材层的材料与第一隔垫物基材层的材料发生反应的现象，和或者两者发生混合的现象的发生。
一种优选实施方式中，在步骤S302对第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影之前还包括：
对第二隔垫物基材层进行预固化。
实施例四
在实施例一及其优选实施方式的基础上，本实施例提供的基板上隔垫物制造方法中，步骤S301在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层具体包括：
在衬底基板上涂覆具有至少两种不同感光度的隔垫物树脂合成原料的隔垫物基材层，且感光度较高的隔垫物树脂合成原料的密度大于感光度较低的隔垫物树脂合成原料的密度；
对隔垫物基材层进行旋转离心分层，隔垫物基材层内的不同密度的隔垫物树脂合成原料沿隔垫物顶部指向底部的方向由大到小垂直分布，感光度较高的隔垫物树脂合成原料形成所述第二隔垫物基材层，感光度较低的隔垫物树脂合成原料形成所述第一隔垫物基材层。
上述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层形成的方法，能够使得两种不同感光度的隔垫物树脂合成原料根据其密度沿隔垫物顶部指向底部的方向由大到小垂直分布，形成自然的梯度过渡，在进行步骤S302后得到的隔垫物的形状较均匀。
具体地，上述隔垫物树脂合成原料包括：多聚物、含多功能基团的交联剂、光引发剂以及溶剂体系。
更具体地，上述多聚物为丙烯酸树脂，所述多聚物的比重为10~25%；所述交联剂为含有多个氨基、异腈酸酯基等功能基团的丙烯酸单体，所述光引发剂包括苯偶姻、酰基膦氧化物、硫杂蒽酮类中的一种或多种，且所述光引发剂与交联剂的比重为10~25%；所述溶剂体系包含二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种，且所述溶剂体系的比重为50~80%。优选的，所述溶剂体系包含二乙二醇二甲醚和丙二醇甲醚醋酸酯，且所述溶剂体系的比重为50~80%。
显然，本领域的技术人员可以对本发明实施例进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种基板上隔垫物制造方法，其特征在于，包括：
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层；所述第二隔垫物基材层的感光度大于第一隔垫物基材层的感光度，以在使用同一张掩膜板曝光时，第二隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差MaskCDBias小于第一隔垫物基材层的掩模板关键尺寸偏差；其中，掩模板关键尺寸偏差＝掩膜板设计尺寸-实际产出尺寸；
对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影，形成隔垫物。
2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述形成隔垫物之后还包括：
对隔垫物进行后固化。
3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层之前还包括：
清洗衬底基板，并对清洗后的衬底基板进行干燥。
4.根据权利要求1～3任一项所述的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层包括：
在衬底基板上涂覆第一隔垫物基材层；
在所述第一隔垫物基材层上涂覆第二隔垫物基材层。
5.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，在对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影之前还包括：
对第一隔垫物基材层以及第二隔垫物基材层进行预固化。
6.根据权利要求1～3任一项所述的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层包括：
在衬底基板上形成第一隔垫物基材层；
对第一隔垫物基材层预固化；
在第一隔垫物基材层上形成第二隔垫物基材层。
7.根据权利要求6所述的制造方法，其特征在于，在对所述第一隔垫物基材层和第二隔垫物基材层进行曝光显影之前还包括：
对所述第二隔垫物基材层进行预固化。
8.根据权利要求1～3任一项所述的制造方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成第一隔垫物基材层和位于第一隔垫物基材层之上的第二隔垫物基材层包括：
在衬底基板上涂覆具有两种不同感光度的隔垫物树脂合成原料的隔垫物基材层，且感光度较高的隔垫物树脂合成原料的密度大于感光度较低的隔垫物树脂合成原料的密度；
对隔垫物基材层进行旋转离心分层，隔垫物基材层内的不同密度的隔垫物树脂合成原料沿隔垫物顶部指向底部的方向由大到小垂直分布，感光度较高的隔垫物树脂合成原料形成所述第二隔垫物基材层，感光度较低的隔垫物树脂合成原料形成所述第一隔垫物基材层。
9.根据权利要求8所述的制造方法，其特征在于，所述树脂合成原料包括：多聚物、含多功能基团的交联剂、光引发剂以及溶剂体系。
10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，所述多聚物为丙烯酸树脂，且所述多聚物的比重为10～25％；所述交联剂为含有氨基功能基团、异腈酸酯基功能基团的丙烯酸单体，所述光引发剂包括苯偶姻、酰基膦氧化物、硫杂蒽酮类三类物质中的一类或多类，且所述光引发剂与交联剂的比重为10～25％；所述溶剂体系包含二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯中的至少一种，且所述溶剂体系的比重为50～80％。
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